共查询到17条相似文献,搜索用时 125 毫秒
1.
2.
InSb混合红外焦平面工艺研究 总被引:1,自引:1,他引:0
InSb 光伏线列器件是以 n 型 InSb 为衬底,扩散 Cd 形成 p-n 结,经光刻、蒸电极、焊接等工艺制成。SiCCD 为表面 p 沟器件,可按延时积分(TDI)和多路传输(MUX)两种方式工作。在研制1×12、2×12、1×64、2×64元 InSb 光伏线列器件并与 SiCCD 进行互连的基础上,从开发64×64元 InSb 混合红外焦平面着眼,我们进行了64×16元 InSb 光伏面阵的研制,并在 InSb 面阵和 Si 上电镀 In 柱,用我们研制的 HDD-1型红外对准倒焊机进行了对焊,开展了背面辐照 InSb 混合红外焦平面的工艺研究。本文介绍了工艺实验状况,并对工艺实验中有关问题进行了讨论。 相似文献
3.
4.
一、红外成象红外成象用CCD和CID 需使用窄禁带半导体作衬底,技术上主要困难在于其MOS工艺不成熟。不过,已证实用InSb可以制成中等规模和一般性能的CID和CCD。Si:In或Si:Ga也可用作 相似文献
5.
6.
7.
随着InSb红外探测器的不断发展,像元数不断增加,线宽不断减小;在
采用外延工艺生长衬底时,人们对InSb晶片表面状态的要求也越来越高。主要讨论了
InSb晶片的表面状态参数及其相关的测试方法,列举了一些相关标准以及国内外厂家和研究机构对
表面状态参数的关注点,并找到了下一步的研发方向。该研究为生产更大规格的焦平面
探测器、提高探测器性能的稳定性以及给外延生长提供优质衬底打好了基础。 相似文献
8.
9.
美国专利US7544532 (2009年6月9日授权)本发明提供采用改进型钝化层的InSb红外光电二极管及传感器列阵,同时还提供了其制作方法。该方法的具体步骤如下:在n型衬底中形成光电二极管探测器区之前,用分子束外延技术在n型InSb衬底上沉积一层AlInSb钝化层;直接通过该AlInSb钝化层注入一种合适的P~+掺杂剂,以形成光电二极管探测器区;有选择地去除AlInSb钝化层,使InSb衬底的第一区暴露出来,然后在InSb衬底第一区形成栅接点;在光电二极管 相似文献
10.
研究了用分子束外延在(001)取向CdTe衬底上异质外延生长InSb。用双晶x-射线衍射法和俄歇电子光谱法证明在225-275℃的生长温度下InSb单晶层几乎可以互相密合地生长在衬底上而没有界面反应。 相似文献
11.
The bulk lifetime of etch-thinned InSb wafers, with lithography on both sides, has been measured. A device was specially designed to directly measure the diffusion length of the etch-thinned layer. The diffusion length was found to be approximately 35 μm at 77 K, which yields a lifetime of approximately 250 ns. No degradation to the semiconductor due to the thinning process, the passivation on both sides, possible defects or mechanical stress in the thinned layer, or other fabrication processes was found. The reported measurements characterize the fabrication technology of the etch-thinned and processed InSb wafers, designed for backside-illuminated two-dimensional detector arrays for an infrared hybrid focal plane 相似文献
12.
13.
在InSb衬底上利用分子束外延生长了p-i-n结构的InAlSb/InSb材料,通过在吸收层和接触层之间生长宽禁带的InAlSb势垒层,验证了势垒层对耗尽层中暗电流的抑制作用。分别基于外延生长的InAlSb材料和InSb体材料,借助标准工艺制备出二极管,并对其电性能进行测量分析,研究发现:77 K温度时,在-0.1 V的外偏电压下,p+-p+-n--n+结构和p+-n--n+结构InAlSb器件的反偏电流分别为3.410-6 Acm-2和7.810-6 Acm-2。基于p+-p+-n--n+结构研制的InAlSb二极管的暗电流保持在一个很低的水平,这为提高红外探测器的工作温度提供了重要基础。 相似文献
14.
以GaAs(100)为衬底,采用原子层外延(ALE)的方法在GaAs缓冲层和常规InSb外延层间引入85个周期约30 nm的InSb低温缓冲层,以快速降低InSb和GaAs界面间较大的晶格失配(14.6%)对外延层质量造成的不利影响,从而改进异质外延薄膜的电学性能。实验结果显示,ALE低温缓冲层能较快地释放晶格失配应力,降低位错密度。室温和77 K的Hall测试显示,引入低温ALE缓冲层生长的InSb/GaAs异质外延薄膜,其InSb外延层本征载流子浓度和迁移率等电学性能较常规的方法有着较大的改进。 相似文献
15.
针对半导体激光器腔面光学灾变损伤的发生机制,设计了一种单管芯半导体激光器腔面真空解理钝化工艺方法。在真空中解理并且直接对半导体激光器腔面蒸镀钝化膜,提出用ZnSe材料作为单管芯半导体激光器真空解理工艺的钝化膜材料,发现利用真空解理钝化工艺方法和ZnSe材料作为钝化膜可以使器件输出功率提高23%。通过电致发光(EL)对半导体激光器腔面损伤机理进行分析。进一步说明对915 nm半导体激光器制备工艺中引入真空解理钝化工艺技术并且选择ZnSe作为钝化膜可以有效保护半导体激光器腔面,提高器件可靠性。 相似文献
16.
T. V. Lvova M. S. Dunaevskii M. V. Lebedev A. L. Shakhmin I. V. Sedova S. V. Ivanov 《Semiconductors》2013,47(5):721-727
The elemental composition and electronic structure of both native-oxide-covered InSb (100) substrates and substrates treated in aqueous solutions of sodium sulfide are analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy. It is found that, as a result of treatment in a 1 M aqueous solution of Na2S and subsequent annealing in vacuum at 150°C, the surface layer consisting of complex antimony and indium oxides of nonstoichiometric composition is removed completely with the formation of a continuous layer of chemisorbed sulfur atoms coherently bound to indium atoms. According to atomic-force microscopy data, no etching of the host substrate material occurs during sulfide passivation. A shift (by 0.37 eV) of the In-Sb bulk photoemission towards higher binding energies is found, which indicates that the surface Fermi level shifts deeper into the conduction band. 相似文献
17.
研究了一种基于在锑化铟衬底材料上以热扩散工艺制备平面PN结的红外焦平面阵列(IRFPA)探测器芯片结构及其工艺流程。根据锑化铟材料的特性设计了新的焦平面器件制备流程,选择了等离子增强化学气相淀积(PECVD)淀积的非晶氧化硅(SiO2)、氮氧化硅(SiON)薄膜作为扩散工艺中的掩膜材料。在此基础上制备出了具有较好的I-V特性曲线的焦平面芯片。 相似文献