薄膜光学

二、三层减反射膜理论本论文简要地叙述了已知波长的三层减反射膜的方程式。涂层稳定性公式用来说明薄膜厚度或波长稳定的解。举实例讨论了所获得的不依赖于中间层的膜。 1.引言为了减少光学元件中因残余反射而引起的能量损失,必须采用减反射膜。单层膜或双层膜能解决单一波长的减反射膜。但是,当减反射函数增加到一系列波长范围时,则应增加膜层的数量。到目前为止已研究了少数三层或四层称之为λ/2或λ/4结构的工艺实例。     

薄膜光学

本论文简要地对光学薄膜理论作了数学概括,确定了每层涂层光学厚度或波长的稳定性并计算了反射率的第一次与第二次导数。从而将计算结果应用于实例。 1.引言由于在制造光学滤色片过程中经常出现工艺能否再现的问题,所以采用薄膜工艺制备滤色片是不那么容易的。出现这个问题的     

使用Pb1-xGexTe材料提高红外薄膜光学器件温度稳定性

提高薄膜光学器件温度稳定性的一条途径是根据光学薄膜器件的稳定性理论,选择两种具有相反折射率温度系数的材料组成膜系,使材料随温度变化引起的位相变化相互抵消.但很难找到折射率温度系数可以完全相互抵消的两种材料,因此有必要找到一种折射率温度系数可以调节的材料.研究表明:红外长波材料Pb1-xGexTe的折射率温度系数可以随Ge组分x的改变而改变.研究结果证明使用Pb1-xGexTe材料,薄膜光学器件温度稳定性得到了很大的提高.     

使用Pb1-xGexTe材料提高红外薄膜光学器件温度稳定性

提高薄膜光学器件温度稳定性的一条途径是根据光学薄膜器件的稳定性理论,选择两种具有相反折射率温度系数的材料组成膜系,使材料随温度变化引起的位相变化相互抵消.但很难找到折射率温度系数可以完全相互抵消的两种材料,因此有必要找到一种折射率温度系数可以调节的材料.研究表明:红外长波材料Pb1-xGexTe的折射率温度系数可以随Ge组分x的改变而改变.研究结果证明使用Pb1-xGexTe材料,薄膜光学器件温度稳定性得到了很大的提高.     

薄膜光学(续)

本论文讨论了二个不同波长的减反射膜的条件。着重讨论了两层膜或三层膜,本文解释了获得本结果时折射率之间的相互关系。引证了衬底折射率为1.52的膜层实例。     

使用Pb_(1-x)Ge_xTe材料提高红外薄膜光学器件温度稳定性

提高薄膜光学器件温度稳定性的一条途径是根据光学薄膜器件的稳定性理论 ,选择两种具有相反折射率温度系数的材料组成膜系 ,使材料随温度变化引起的位相变化相互抵消。但很难找到折射率温度系数可以完全相互抵消的两种材料 ,因此有必要找到一种折射率温度系数可以调节的材料。研究表明 :红外长波材料 Pb1-x Gex Te的折射率温度系数可以随 Ge组分 x的改变而改变。研究结果证明使用 Pb1-x Gex Te材料 ,薄膜光学器件温度稳定性得到了很大的提高。     

真空紫外薄膜光学常数的研究

本文讨论了通过“多约束非线性方程组”解析真空紫外薄膜光学常数的方法。编制的VUV—ROCP微机软件,可由真空紫外反射率解析出真空紫外薄膜光学常数和入射光的偏振度。运用该软件对不同工艺的Au、Pt、Al样品的反射率进行解析,得到了它们的真空紫外薄膜光学常数,并与国外报道的结果进行了比较。     

薄膜光学 四、多层减反射膜

本文叙述了减反射系数应用于多层薄膜的条件,这个性能可用两叠加的附加层获得光学特征并可在本章中计算出。总结两层膜解法存在图解获得此解法存在条件。     

薄膜光学监控信号的数字信号处理

为提高光学薄膜的监控精度和薄膜产品成品率,分别采用经典和现代滤波技术设计了相应的数字滤波器,对薄膜光学监控信号进行了处理,对光学监控信号极值点附近的信号进行了分析。理论模拟的结果表明,经典滤波器和现代滤波器对薄膜监控信号的噪声均有较大的滤出作用,但均造成了信号的延迟。进一步用可编程序控制器和组态软件建立了一套监控系统,将两种滤波器串联使用,在可接受的信号延迟时间下,镀制了单腔滤光片,在实验中将光学监控信号的均方根信噪比提高了6DB以上,验证了数字滤波器的作用。     

薄膜光学 五、阻尼层理论

<正>本论文提出光学淀积(包括若干无吸收薄膜)在已知波长和偏振时与膜层之一的厚度无关。 1.引言薄膜光学层的计算技术通常包括采用入/2无吸收层,入/2无吸收层的主要特征是不影响波长入的反射率R(不管折射率如何),此特征对其他波长的反射率也有一定作用,但不改动波长入的反射率,     

测量薄膜光学参数d的工作报告

一、工作原理: 图1是仪器的光路图。本仪器分成干涉仪和单色仪两部分。前者包括照明系统,干涉仪主体以及成象系统。后者则由狭缝、物镜L₃,L₄分光棱镜以及显微镜组成。     

确定无吸收薄膜光学参数的新方法

本文提出一种测量无吸收单层膜光学参数的新方法,它利用 T—λ曲线上的特定光学位相点求出单层膜的几何厚度,进而求出色散因子。     

工艺参数对TiN薄膜光学性能的影响

在玻璃基片上用直流磁控溅射的方法制备氮化钛薄膜,研究了在不同氢气氯气流量比(λAr/N2)条件下和不同镀膜时间内所制备TiN薄膜对紫外一可见一近红外光的透光性能,以及对中远红外光反射能力影响.结果表明,随着氩氮流量比(λAr/N2)的增大,TiN薄膜在可见光到近红外区域透光性逐渐减小,但其对中远红外光反射能力不断增强.镀膜时间的增加使其方块电阻R□急剧减小,中远红外光反射率迅速升高到接近70%.     

基于混合优化算法测定铝薄膜光学常数

提出了一种离线精确测定金属铝薄膜光学常数的方法.与传统的原位测量方法相比,这种方法简便,不需要连接到真空室的复杂测量设备上.该方法以测量椭偏光谱曲线和分光光谱曲线为目标,考虑金属铝薄膜在空气中表面氧化的影响,在混合优化算法的基础上,使用基于色散关系的多波长法拟合确定金属铝薄膜从紫外到可见区(200～800nm)的光学常数;优化算法采用多种群并行遗传算法和单纯形法相结合的方式,提高了拟合质量和速度,得到了理想的结果,光谱曲线拟合误差＜2%.在确定了铝光学常数的基础上,镀制了单腔紫外诱导透射滤光片,测量的透过率光谱与设计结果在265nm处的峰值透过率偏差＜1%.     

基于遗传算法的透射光谱法测量薄膜光学参数

基于多光束干涉理论建立了单层薄膜的透射率模型,并且得到了薄膜透射率与厚度及折射率之间的关系的数学模型,进而利用遗传算法求解该数学模型。根据薄膜透射光谱数学模型的特殊性,按照实际的精度需求,有针对性地选取了遗传算法中种群大小、交叉概率和变异概率等关键参数,并且针对透射光谱的具体情况,设计了离散化的适应度函数。最终的拟合结果表明,基于遗传算法的透射光谱法能够快速、准确地得到薄膜的光学参数。     

荷能离子束沉积的氧化物薄膜光学性质

报道在不加热的基底上,由双离子束溅射或离子辅助的电子束蒸发技术制造的ＺｒＯ２ 和ＴｉＯ２ 单层薄膜的光学性质,并提供了工艺参数和离子束设备的详情。这两种荷能离子束工艺已被用于光学多层膜,如减反射膜和短波通滤光片的制备。     

基于遗传算法的透射光谱法测量薄膜光学常量

目前的实际生产加工需求中,需要一种高精度、简单易行的薄膜参数检测方法。但是,传统的基于透射光谱法的单纯形法只能够得到薄膜的厚度信息,无法获取准确的薄膜的折射率。本文基于多光束干涉理论建立了单层薄膜的透射率模型,并且得到了薄膜透射率T与厚度d及折射率n之间的关系的数学模型。进而利用遗传算法求解该数学模型。由于薄膜透射光谱数学模型的特殊性,按照实际的精度需求,有针对性的选取了遗传算法中的关键参数：种群大小、交叉概率和变异概率。并且针对透射光谱的具体情况,设计了离散化的适应度函数。最终的拟合结果表明,基于遗传算法的透射光谱法能够快速、准确的得到薄膜的光学参数。