基于DSP控制的金属离子源脉冲弧电源的研制

离子源是离子注入设备的重要组成部分,其控制方式,工作频率以及产生离子的种类、电流强度、离子束密度等对离子注入设备的运行效率和稳定性有着重大影响。本文主要论述了一套应用于MEVVA型金属离子源的脉冲弧电源的设计与优化。该电源由触发电源和电弧电源组成,其中触发电源输出峰值电压高达25KV,脉宽为20us;电弧电源输出峰值电压为90V,输出脉宽在200us~3ms范围内可调。该电源采用DSP-28335芯片作为控制系统,输出PWM信号准确控制IGBT的开通关断,从而控制输出脉冲的电压,频率和脉宽;实时监控过压过流信号,保护电源系统安全可靠运行。实验结果表明:此电源各项指标运行正常,电磁干扰小,具有良好的应用价值。     

基于FPGA的多DSP系统接口电路设计

针对多DSP(数字信号处理器)的数据传输有三种常用接口方式:EMIF,HPI和IdcBSP方式.而采用EMIF接口方式,利用FPCA(现场可编程逻辑门阵列)设计FIFO的接口电路,将各个DSP的EMIF总线接人FPGA中,可实现多块DSP之间的连接.实验结果表明,这种方式无需外加逻辑器件即可实现高速传送数据通用于数据块的传送.这种设计已应用于由4片DSP构成的信号处理系统中.     

一种基于DSP的逆变控制器电路设计

本文介绍一种基于DSP的逆变器,通过逆变电路把直流电转变为交流电,其中SPWM的基波频率是需要的逆变电源的输出频率,该信号经输出变压与隔离,再由LC滤波器滤掉SPWM波中的谐波转成正弦波,从而得到幅值和频率可调的三相交流电。     

基于FPGA和DSP的激光陀螺信号处理电路设计

研究机械抖动激光陀螺的信号读出系统,设计激光陀螺的信号处理电路。光电转换后的微弱电流信号经过前置放大电路转化为电压方波信号,在FPGA中进行鉴相解调以及可逆计数,最后由DSP实现机抖偏频解噪和低通数字滤波。与激光陀螺联合测试并将结果输出至上位机,结果表明设计的电路实现了对激光陀螺输出信号的有效采集,满足激光陀螺功能测试的需要。     

一种基于DSP实现的直流输电系统控制方法

直流输电技术在大型电网中的应用已日趋成熟,并逐渐被引入船舶电力系统等领域,关于高压直流输电的控制一直是研究热点。利用目前广泛使用的数字信号处理器(DSP)作为直流输电的控制核心单元,研究了高压直流输电系统的基本组成和配置,完成了相关硬件电路和软件电路的设计;然后提出了设计数字滤波器直接生成C代码的MATLAB和CCS的联合开发方法;接着介绍了直流输电的控制结构及具体控制方式;最后介绍了DSP控制系统与上位机通信的软硬件。仿真和试验结果验证了该控制方法的有效性。     

铟液态金属离子源的研制

本文详细报道了铟液态金属离子源的具体制作工艺及其主要实验结果。     

电力系统中系统控制电源控制方式的选择

对双电源供电、装设有自动切换装置的0.38 kV电力系统中,合理设置控制电源的重要性以及控制电源设置方式进行分析.     

Au-Si-Be液态金属离子源发展综述

对Au－Si－Be液态金属离子源的发展进行了较详细的介绍，包括源的结构、发射特性，以及不同的合金配比、源工作温度、环境气体、系统真空度对源发射稳定性的影响。     

液态金属离子源发射系统的仿真分析

液态金属离子源的发射系统是源设计当中一个十分重要的因素,它的性能的优劣将直接影响到整个离子源的发射特性,进而影响整个聚焦离子束设备的工作性能。因而,在离子源的设计过程中,人们希望通过仿真手段得到影响源发射特性的源几何尺寸参量,以便在液态金属离子源设计时抓住主要参量进行优化设计,从而提高源的发射性能。本文首先用模拟电荷法计算了发射系统的电场,然后用蒙特卡罗方法在模拟发射离子的初始位置和初始速度的基础上,计算了离子轨迹。并通过对大量离子轨迹的统计计算,得出能散、角电流密度和虚源尺寸的特性曲线,从而为分析离子源性能以及设计离子源提供了一个有效的辅助工具。     

浅谈高速电路设计中电源完整性问题

电源完整性(Power Integrity,简称PI)是指特定电源与理想状态的接近程度,具体取决于电源的自然特性。分析造成高速电路设计中出现电源完整性的原因,提出部分解决方案并进行仿真验证方案的可行性。     

超高频无源电子标签芯片的电路设计

电子标签芯片是无线射频识别(RFID)技术的核心,其模拟电路的设计十分关键.它分为电源产生电路、调制解调电路以及上电复位模块等模块.设计结果表明,设计的电路具有很高的整流效率,满足了设计需求.     

长寿命高稳定度液态金属离子源

本文介绍一种用多孔W筒作料池的同轴针型液态金属Ga和Au离子源。料池内Ga和Au的贮量分别为200mg和150mg,具有低蒸发、长寿命的优点。由于液态金属与W针尖及多孔W料池内壁都能良好浸润,因而流阻低,电流稳定性好。在总离子发射电流10μA时Ga的离子流稳定度和5μA时Au源的稳定度都可达到±1.5%/h,连续寿命试验分别超过500h和150h,故已具有实用价值。本文还讨论了影响稳定性的诸因素。     

液态金属离子源发射系统电场的模拟分析

发射系统是液态金属离子源的关键部件之一，它的性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性和可靠性。因而对其发射系统进行仿真分析，可以很好地指导液态金属离子源的设计制造。本文采用国际上重视的动态喷流柱模型，利用模拟电荷法对液态金属离子源的发射系统的电场进行了计算分析，画出了发射尖端电场强度随不同参数变化的曲线，得出发射尖端表面场强与球冠半径、发射体突出臂长度密切相关，而与引出电极的结构关系甚小的结论，因此液态金属离子源发射特性（如角电流强度）的改善，必须在发射尖的设计制作上下功夫。从而为液态金属离子源的设计提供了一个有效的辅助工具。     

聚焦离子束系统液态金属离子源的研制

设计了一种聚焦离子束系统用液态金属离子源（Liquid Metal lon Source-LMIS）,本文对该源组件结构的设计、发射针尖的腐蚀工艺、挂金属镓工艺、测试系统的设计作了介绍;然后对该离子源的I-V特性、角电流密度、稳定性以及寿命等性能进行了测试。实验结果表明,该源的各项指标均达到了聚焦离子束系统的要求,并对影响源性能的因素进行了分析,从而为合理有效地设计液态金属离子源提供启示。     

正弦波逆变器电源及外围电路设计与实现

本文以一例12v转工频输出的逆变器为例,介绍正弦波逆变器硬件电路设计,包括主要器件的选择,输出功率采集电路设计,低通滤波器电路设计及器件参数选择,显示电路的设计与实现等.     

一种新型高能离子注入系统的加速电源研制

加速电源是高能离子注入系统的重要组成部分,为其离子加速提供能量。本文根据新型高能离子注入系统中加速电压10kV-100kV可调,离子束电流强度小于20mA的参数要求,对传统的加速电源结构进行改进,设计出了一台基于DSP控制的加速电源。论述了该电源的主电路结构:三相整流、buck斩波调压、全桥逆变、变压器升压、倍压整流及其仿真分析。     

DSP的不间断电源并联运行系统的研制

论述了一种基于DSP的逆变电源并联运行控制系统的实现方法,介绍了TMS320LF2407A数字信号处理器芯片的特点,以及系统的软、硬件结构和工作原理,并给出了部分实验数据和结果.结果表明,该系统能够达到比较理想的并联运行控制效果.     

液态金属离子源静电透镜离子枪的实验研究

液态金属离子源（LMIS）的亚微米聚焦离子束（FIB）在现代分析技术和微细加工等领域有很多应用。介绍一种计算机控制的快速、灵活、准确的束斑测量方法；并报导用这种方法对采用Orloff—Swanson静电透镜离子枪的FIB性能的研究结果，包括源尖对中对束斑的影响、各电极电位对束斑的影响及束斑与束流的关系等。通过仔细的源尖位置调节，在束能13keV，束流1．0nA时，FIB束斑在亚微米范围。     

全脉冲电路气体-金属离子注入源

本文报道了新型全脉冲电路气体一金属复合离子注入源的结构和特性,采用在磁场约束条件下的脉冲引发的气体等离子体,分别引发气体放电和金属弧放电.详细描述放电过程的伏一安特性曲线.以及对引出离子束流的作用.该设备电路体积小,整体高压脉冲电源体积仅为40立方分米,外引的操作线电压低于600 V,使用安全;具有单独气体离子注入,和金属离子注入的功能.适合于材料表面改性用途.