类金刚石薄膜在红外光学材料中的应用

用脉冲碳离子源直接在ＮａＣｌ和ＫＢｒ晶体表面镀制了类金刚石薄膜．用红外光谱仪进行测试，晶体两面镀膜后在２５～２０μｍ波长范围内平均透过率达到８４％，最大透过率达９０％．     

多头小离子源和离子束辅助蒸发新工艺

提出了多头离子源的方案和离子束合成技术,即选用几个小离子源组合应用,以满足大尺寸镀膜机的要求.该方案经在A700Q和BAK760镀膜机上试验,获得良好效果,已镀制出性能良好的铝、银金属高反膜、棱镜分光膜、308nm激光高反膜、透明导电膜、高级立体声磁头绝缘膜、长波通滤光膜、超宽带增透膜等.并且,简化了镀膜工艺,提高了生产效率.     

带通滤光片研制工艺手段摸索浅谈

本文从分析薄膜结构特性着手,结合工艺实践,阐述在薄膜镀制中如何通过工艺手段控制和改善带通滤光片薄膜结构,从而完善光学薄膜的性能,提高生产效率.     

离子束辅助蒸发镀制硫化锌,氟化镁薄膜的工艺研究

研究了用离子束辅助蒸发方法镀硫化锌、氟化镁薄膜的基本工艺.重点研究在不同能量和种类的离子束辅助条件下,基底温度和蒸发速率对薄膜性质的影响.给出了对薄膜的耐磨、耐潮湿、耐盐水浸泡性能,和薄膜的折射率、应力及微观结构与成分的实验结果.通过分析实验结果,提出了离子束辅助蒸发镀制硫化锌、氟化镁薄膜的最佳工艺.     

SiO2薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展

综述了二氧化硅(SiO2)薄膜的制备方法和研究进展,介绍了磁控溅射、溶胶凝胶法和真空镀等SiO2薄膜制备方法及其优缺点,论述SiO2薄膜在光学、电学和光电等性能研究方面的新进展,最后对SiO2薄膜的应用和发展进行了展望.     

多弧离子镀装饰膜工艺研究

本文介绍了多弧离子镀用于不锈钢钟表表面镀TiN薄膜的工艺过程和主要参数，以及镀TiN薄膜钟表的基本物理和化学性能的检测结果，并通过实例说明镀膜工件所具备的各项优点，对影响镀膜工件质量和使用效果的因素进行了分析讨论．     

磁控溅射法镀制氮化铝薄膜特性研究

氮化铝薄膜具有高折射率,良好的化学稳定性,耐磨摩、高电阻等特性在微电子器件和光学薄膜中有着广泛地应用.本文研究了反应式磁控溅射方法利用Ar/N2混合气体镀制氮化铝薄膜的工艺过程,实验表明在高真空和高泵浦速率条件下,放电电压直接依赖于反应气体珠浓度.薄膜的折射率,消光系数和薄膜硬度都依赖于氮气浓度的比例.通过工艺研究,找到了氮气在不同浓度下对氮化铝薄膜的折射率,消光系数以及薄膜硬度的影响,找出了镀制氮化镀制氮化铝薄膜的最佳工艺参数.在Ar/N2工作气体中氮气含量保持在40%条件下,用反应式磁控溅射方法,可以精确镀制出良好的氮化铝薄膜,其中折射率范围在2.25~2.4之间,消光系数为10-3,薄膜显微硬度大于20GPa.该薄膜可以广泛应用于微电子器件和光电器件上.     

离子辅助沉积对TiO2薄膜应力的影响

对在离子辅助沉积（IAD）和常规工艺条件下镀制的TiO2薄膜的应力进行了试验研究，并探讨了利用台阶仪测量镀膜前后基板表面曲率的方法。结果表明，当基板温度低于100 ℃时，在离子辅助沉积工艺条件下镀制的TiO2薄膜的应力略大于在常规工艺条件下镀制的薄膜的应力；随着薄膜厚度的增加，TiO2薄膜应力逐渐减小，从125 nm的392 MPa下降到488 nm的30 MPa；离子源阳极电压对薄膜应力影响较大，在100 V时薄膜应力为164 MPa，当电压升高到190 V时，应力下降到75 MPa。     

提拉法制备铟锡氧化物透明隔热薄膜的研究

将纳米铟锡氧化物（ITO）粉体分散到乙醇溶液中制得ITO乙醇浆料,再添加成膜剂,制备纳米1TO涂料,通过提拉法镀膜制得透明隔热ITO薄膜．研究了ITO膜的性能,分析了提拉法参数与薄膜力学性能、光学性能、微观结构和隔热效果的关系．研究表明：提拉镀ITO膜具有很好的透明隔热性能,对可见光的透过率大于85％,对近红外透过率低于35％,膜的耐有机溶剂性好,提拉次数对膜的厚度、红外透过率以及宏观隔热性能成正比关系,提拉温度对膜性能的影响较为复杂,提拉温度为35℃时,膜的厚度最厚,综合性能较好．     

汽轮机叶片阻尼涂层减振研究

研究了汽轮机叶片镀金属薄膜后叶片的阻尼减振性能，将汽轮机叶轮合理简化后通过ug软件建模，运用ANSYS软件，对相同厚度的铝、钛、铝钛薄膜叶片试件及不镀膜的叶片试件等4种模型的整体叶盘进行模态分析，得到振型图和固有振动频率，从整体上观察叶轮的易损部位；对单个叶片进行谐响应分析，进一步分析4种叶片在外加同一载荷情况下的形变量，讨论其阻尼减振效果。结合实验结果，利用动态机械热分析仪（DMA），对镀铝、镀钛、先镀铝后镀钛处理的试件及不镀膜试件进行分析，检测涂层的阻尼性能。结果表明，镀膜后的叶片各阶模态的形变量均小于未镀膜叶片，对叶片镀膜具有一定的减震阻尼效果。     

吸收透明导电薄膜生长与复光学常数测定

用带特殊热（冷）阱的可控制基片温度的电阻加热式真空蒸镀薄膜装置，把吸收透明导电薄膜Au和In2O3分别通过热蒸镀和活化反应淀积在玻璃基片上,In2O3的电阻为80Ω/□，光学透射率不小于80%，透明导电 薄膜的复光学常数可通过测量其反射和透射系数得到，但考虑到基片背表面的存在，必须对反射和透射系数进行修正，引入修正后所得到的复光学常数与椭偏测量的结果一致。     

Cu（Al）／SiO2复合薄膜及显微特征

采用真空离子镀膜机在SiO2玻璃基片表面分别蒸镀Cu和Al薄膜,3组参数6次制备12个铝或铜薄膜试样．实验表明：相同工艺条件下,铝膜较铜膜附着力更强,膜厚更大,更易形成薄膜且结构均匀致密．经测试可知：当铝膜的轰击电压为175V,烘烤电压为160V,蒸镀时间为2h、铜膜的轰击电压为200V,烘烤电压为100V,蒸镀时间为1．8h,制得的样品纯度高,杂质含量少,微观结构与膜厚最理想,界面结构规范,平滑,吸附力强,薄膜界面微观粗糙性和形状较佳．     

SiO2—MxOy系统镀膜玻璃的光学性质

在浮法玻璃上镀制了ＳｉＯ２－ＭｘＯｙ（Ｍ＝Ｔｉ,Ｆｅ－Ｍｎ,Ｃｏ,Ｎｉ,Ａｇ,Ｃｕ）薄膜。对样品的折射率、反射率、透过率和光吸收进行了测定,进而研究了镀膜玻璃的光学性质。     

宽束永磁冷阴极离子源研制成功

(本刊讯)由光学系严一心副教授主持研制的“宽束永磁冷阴极PIG离子源”于1988年7月23日在我院通过技术鉴定。宽束永磁冷阴极PIG离子源用于辅助真空薄膜技术。经在多种基底上进行镀膜实验,并对所镀的各种金属膜和介质膜做强度、附着性、耐腐蚀、高温、潮湿等多项实验和测定,结果表明:该技术对国标有规定要求的一些膜层,均可达到或超过规定的性能指标。对一些国     

离子束辅助沉积红外增透薄膜工艺

光纤接入网络的快速发展对光纤传输的光学性能方面提出了严格的要求.文中阐述了电子束离子辅助沉积系统在室温下镀制光纤端面近红外1520nm～1580nm范围增透膜的应用.讨论了膜料的选择、膜系的设计以及镀制过程中光学监控的工艺参数,制备出了光学性能较好的薄膜.     

Cr沉积TiO_2复合薄膜的制备及其可见光催化性能

真空蒸镀法结合溶胶凝胶法成功制备Cr沉积TiO2三层复合薄膜.通过XRD、SEM、UV-vis等手段表征沉积Cr后的TiO2薄膜的结构、可见光吸收性能,以亚甲基蓝溶液为目标物评定其可见光光催化活性.结果表明:该法制备的Cr沉积TiO2复合薄膜,在723 K热处理后,蒸镀的金属层仍然为金属Cr,823 K时被氧化为Cr2O3.不同温度热处理后Cr沉积的TiO2复合薄膜在可见光区均表现出良好的光吸收性.而且随着热处理温度的升高,光吸收性能明显增强.降解实验表明,823 K热处理后的薄膜样品光催化性能最好.在可见光光照射2 h后,对亚甲基蓝溶液降解率接近40%.     

光学塑料元件耐磨涂层的制备工艺研究

为了提高光学塑料表面的耐擦伤强度，本文采用溶胶－凝胶法，在光学塑料表面上镀制了具有一定耐磨性和强度的耐磨涂层，并介绍了光学塑料表面预处理的方法和采用溶胶－凝胶法在化学镀膜机上制备耐磨涂层的基本工艺；还着重描述镀膜液的制备和影响镀膜的各种因素。     

增透膜的选择

在光学器件中，由于器件(如透镜、棱镜)表面的反射作用而使光能损失，为了减少光学器件表面的反射损失，常在器件表面镀上一层透明介质薄膜(称为增透膜)，增透膜的效果与介质薄膜的折射率、厚度等相联系。本文以光波的电磁理论为基础，讨论了光波入射介质薄膜的反射，推导出了反射率公式，并进行了讨论。结果表明：当介质薄膜的厚度d=λ0/4n2(2k 1)时，反射率有最小值Rmin=(n1n3-n2^2/n1n3 n2^2）（k=0，1，2…，n1，n2，n3分别为空气、介质薄膜、光学透镜的折射率，λ0光波在真空中的波长)，而当介质薄膜的折射率，n2=√n1n3时，反射率R=0，基本上无反射。     

玻璃基SiO_2-TiO_2纳米孔薄膜

针对光伏组件封装盖板玻璃,用溶胶-凝胶方法在玻璃上镀制了SiO2-TiO2纳米孔膜。研究了膜层中二氧化钛与二氧化硅比例对薄膜折射率的影响,分析了去离子水、无水乙醇与TEOS比例和薄膜可见光透射率的关系,以及快速热处理温度对膜层硬度的影响。用X射线光电子能谱(XPS)表征了薄膜的元素组成,用扫描电镜(SEM)观察了薄膜的表面形貌,使用接触角测试仪测试了镀膜玻璃的润湿性能,分析了薄膜的组成和表面形貌与光学性能的关系,对得到的结果进行了讨论。     

直流反应磁控溅射氧化物光学薄膜及其性能研究

本文报道了应用直流反应磁控溅射技术淀积透明的TiO 2、Ta_2O_5、ZnO、Al_2O_3等氧化物光学薄膜。研究了这些氧化物薄膜的光学和机械等性能;讨论了反应溅射的SiO_x薄膜其光学吸收的反应动力学原因;摸索了TiO_2薄膜的性能与溅射镀膜条件的关系;研究了TiO_2薄膜的晶相结构;观察了TiO_2和ZnO薄膜的表面微观形貌。