国外腐蚀抑制剂文摘(三)

<正> 80—075 某些硫脲衍生物对铝在盐酸中腐蚀的影响《J.Electrochem.Son.India》1979,28,№1,45～47在35℃的条件下,用恒电流法测定损失重量来研究某些硫脲衍生物[硫脲(1)、邻—甲苯基硫脲(2)、间—甲苯基硫脲(3)、对—甲苯基硫脲(4)、1,3—二     

一些硫脲对1100铝在酸性氯化物溶液中的腐性作用

９５－００７一些硫脲对１１００铝在酸性氯化物溶液中的腐性作用在２５℃、３５℃、４５℃时，在１％盐酸中用不同浓度的化合物研究了尿素、硫脲及其衍生物，即苯基硫脲、Ｏ—甲基硫脲、ｍ—甲苯基硫脲、Ｐ—甲苯基硫脲、１：３—联—Ｏ—甲苯基硫脲，１：３联—ｍ—甲苯...     

化学镀镍过程的动电位及循环伏安研究

化学镀镍是一个采用合适的还原剂(如次磷酸钠)使镍离子在某催化界面上可控地自催化还原的过程,所生成的膜层附着良好,应用广泛.以次磷酸盐作为还原剂时,化学镀镍的沉积速率通常低于20 μm/h,故研究了在有少量硫脲或其衍生物作为加速剂的条件下,次磷酸盐体系中镍的化学沉积过程.通过动电位阴,阳极极化和循环伏安研究,评价了镀覆过程中各种加速剂的性能.结果表明,所研究的硫化物都有明显的阳极去极化作用.各种加速剂性能的优劣顺序为:甲基硫脲>N,Nr-乙烯硫脲>烯丙基硫脲>乙酰硫脲>对甲苯基硫脲>硫脲>二苯基硫脲.此外,氯基硫脲的性能优于巯基琥珀酸.     

邻甲苯基硫脲合成新工艺的研究

改进了邻甲苯基硫脲的合成工艺。以硫氰酸铵和邻甲苯胺为原料,向反应体系中加入水作为反应溶剂合成邻甲苯基硫脲。通过单因素法考察了原料配比、催化剂用量、溶剂用量、温度、时间等因素对反应的影响,最后得出邻甲苯基硫脲的合成工艺条件为:邻甲苯胺与硫氰酸铵的物质的量比1∶1.2、浓硫酸用量7%(wt)、溶剂水用量140m L、反应温度110℃、反应时间8h。结果表明,产品收率可达86.7%左右。     

用于丁苯橡胶的二元促进剂并用体系

研究了在丁苯橡胶硫黄硫化过程中将硫脲衍生物N-脒基-N’-苯基硫脲（APT）作为辅助促进剂．与四甲基二硫化秋兰姆（TMTD）或二硫化巯基苯并噻唑（MBTS）并用，组成二元促进剂体系。含APT的二元体系能够大大降低正硫化时间，这是因为APT的亲核性比硫脲的更强、反应活性更大的缘故。     

氟橡胶的新型硫化剂

据苏联《Про-стьСК、шиниРТИ》1986,№1报道,氨基甲基硫脲衍生物—N—二甲基氨基甲基硫脲,N—二乙基氨基甲基硫脲,N—吗啉基甲基硫脲,N,N’—双(哌啶甲基)硫脲等能有效地硫化26型氟橡胶。这些衍生物为白色晶体,无味,无毒,长期贮存时稳定。熔点低的N—二乙基氨基甲基硫脲(351～352K)的分解温度最     

单磺酰硫脲用于丁腈橡胶与金属的直接粘合

众所周知,硫脲衍生物可以用作胶料的一个组成部分。这类化合物的特殊价值在于它们具有多种功能:它既是胶料的促进剂,又是稳定剂。本文所要介绍的是对至今尚未在橡胶工业中获得应用的新型硫脲衍生物进行研究的结果。其与既有的硫脲衍生物的差别在于多了一个极性的磺酰基-SO_2-(通式为RSO_2NHCSN-HC_6H_5的单磺酰硫脲,式中R——芳基或烷基)。这类新型的硫脲衍生物显然适用于一般橡     

１—（３—二甲氨基丙基）—３—乙基碳化二亚胺盐酸盐）

1-(3-二甲氨基丙基)-3-乙基碳化二亚胺盐酸盐(WSC·HCl)是由硫脲衍生物氧化制得的,目前只有日本的东洋化成業和大阪合成有机化学两个厂家生产.WSC·HCl主要用于有机合成,其特点是反应副产物(脲素衍生物)可用盐酸水溶液除去;在缩氨酸的部分缩合中,可防止外消旋作用.     

1-(3-二甲氨基丙基)-3-乙基碳化二亚胺盐酸盐

1-(3-二甲氨基丙基)-3-乙基碳化二亚胺盐酸盐(WSC&#183;HCl)是由硫脲衍生物氧化制得的,目前只有日本的东洋化成業和大阪合成有机化学两个厂家生产.WSC&#183;HCl主要用于有机合成,其特点是反应副产物(脲素衍生物)可用盐酸水溶液除去;在缩氨酸的部分缩合中,可防止外消旋作用.     

碱性条件下合成3-羧基苯基硫脲的初步探讨

本论文以硫氰酸胺、苯甲酰氯和间氨基苯甲酸为原料,丙酮为溶剂,加热回流得中间体1-苯甲酰基-3-(3-羧基苯基)硫脲,再在碱性条件下对1-苯甲酰基-3-(3-羧基苯基)硫脲进行加热水解,最后酸化得到3-羧基苯基硫脲。碱性条件下水解是合成3-羧基苯基硫脲的关键,本论文对1-苯甲酰基-3-(3-羧基苯基)硫脲在碱性溶液中的水解进行了初步的考察,收率达86.72%。     

新农药——螟铃硫脲

螟铃硫脲(又叫螟铃畏,杀螟硫脲),是瑞士汽巴公司于1966年首先合成的取代硫脲类型杀虫剂[1] [2] ,代号 C-9140。其学名为 N-(4-氯-2-甲苯基)-N′,N′--二甲基硫脲,结构式为:     

异海松酰肼系列衍生物的合成与表征

以异海松酸(IPA)为原料,经酰氯化和肼解两步反应合成了中间体异海松酰肼,该化合物进一步衍生化合成了异海松酰胺基(2,5-二甲基)吡咯、异海松酰胺基硫脲、异海松酰胺基苯基硫脲和异海松酰胺基苯磺酰胺等4种新型异海松酰肼衍生物,收率为53.67％～76.46％.所得产物经光谱和波谱分析得到确证.     

苦味酸根离子选择电极电位滴定法测定碘离子、六氰亚铁酸根离子(Ⅱ)、硫脲、阳离子表面活性剂和苦味酸根离子

<正> 在沉淀电位滴定中,已有数种离子选择电极被用作指示电极,本文介绍在苦味酸根离子和硫脲的存在下用硝酸银半自动电位沉淀滴定碘离子、六氰亚铁酸根离子(Ⅱ)和硫离子的方法;以及在苦味酸根离子的存在下,用硝酸银半自动电位滴定硫离子——硫脲的混合物的方法。本法的原理是使各种阴离子形成不溶性的银盐和银——硫脲—苦味酸根离子络合物[Ag(CSN_2H_4)_2](C_6H_2N_3O_7)或[Ag(CSN_2H_4)(C_6H_2N_3O_7)]。本文还提出几种用苦味酸钠滴定某些阳离子表面活性剂(季铵盐化合物)及用四苯基氯化砷滴定苦味酸根离子的     

缩氨基硫脲类受体的合成和表征

采用对甲基苯胺和高锰酸钾氧化生成对氨基苯甲酸,后者用磷酸三甲酯N甲基化,生成对二甲氨基苯甲酸,其经酯化、肼解得到对二甲氨基苯甲酰肼（A）。A与异硫氰酸对硝基苯酯反应,制得N-对二甲氨苯甲酰胺基-N’-对硝基苯基硫脲,收率76％;同理,对硝基苯肼与异硫氰酸对甲苯酯反应,得到N-对硝基苯胺基-N’-对甲苯基硫脲,收率41％。通过元素分析,IR,1HNMR对化合物的结构进行了表征。     

N-苯甲酰基N′-芳基硫脲的合成及其生理活性研究

在农业生产中,硫脲衍生物是一类重要的除草剂、杀虫剂以及植物生长调节剂。据文献报道,芳酰基吡啶氧基苯基硫脲在3.0ppm时能杀死80～100%的眉纹夜蛾幼虫。金淳伟等又报道,邻氯苯甲酰基芳氧基间氯苯基硫脲     

国外电镀文摘

[D263]酸性镀铜溶液中硫脲衍生物的整平作用Zileniene,B.;Zitkeviciute,I;Sadanskiene,I.Issled.Obl.Osazhdeniya Met.Mater.Resp.Konf.ElektrohhimLit.SSR.19th 1983,20-4(Ru-ss.)RNHCSNCH_2CH_2 CH_2CH_2(Ⅰ)测定了硫脲衍生物克分子中固定官能团对铜镀层     

1-(3-二甲氨基丙基)-3-乙基碳化二亚胺盐酸盐

1-(3-二甲氨基丙基)-3-乙基碳化二亚胺盐酸盐(WSC·HC1)是由硫脲衍生物氧化制得的,目前只有日本的东洋化成业和大阪合成有机化学两个厂家生产。WSC·HC1主要用于有机合成,其特点是反应副产物(脲素衍生物)可用盐酸水溶液除去;在缩氨酸的部分缩合中,可防止外消旋作用。     

4-噻唑酮羧酸衍生物的合成

合成了具有潜在杀菌活性的3-苯基-5-苯亚甲基-2-苯氨基噻唑-4-酮的羧酸衍生物.以邻乙基苯胺为原料,合成中间体N,N′-二（2-乙基苯）硫脲（Ⅰ）和2-（2-乙基）苯基-3-（2-乙基）苯基噻唑-4-酮（Ⅱa）,化合物Ⅱa与不同的底物醛发生缩合反应生成2-（2-乙基）苯基-3-（2-乙基）苯基-5-苯亚甲基噻唑-4-酮（Ⅲ）,化合物Ⅲ经过加成反应和水解反应,得到目标化合物.同时以二苯基硫脲为原料合成一个类似物,共合成3种3-苯基-5-苯亚甲基-2-苯氨基噻唑-4-酮的羧酸衍生物.产物经核磁共振谱、质谱表征,产物纯度采用高效液相色谱法测定,均大于98%.     

油溶不含醚的双锂引发剂的合成

合成了1,3—二[1—(4—甲苯基)乙烯基]苯,1,4—二[1—(4—甲苯基)乙烯基]苯与1,4—二[1—(4—叔丁苯基)乙烯基]苯,及与S—BuLi加成得到的油溶不含醚的双锂引发剂,提供了合成方法,测定了产物结构与双锂引发丁二烯聚合的性能。     

聚环氧琥珀酸及其衍生物的缓蚀性能及缓蚀机理

使用静态失重法和腐蚀电化学法研究了聚环氧琥珀酸(PESA)及其硫脲改性的衍生物(CSN-PESA)在自来水环境中对A3碳钢的缓蚀作用,探讨了聚环氧琥珀酸及其衍生物在A3碳钢表面的吸附作用,通过量子化学理论研究了聚环氧琥珀酸及其硫脲改性的衍生物缓蚀机理。研究结果表明:聚环氧琥珀酸及其硫脲改性的衍生物具有一定的缓蚀性能,CSN-PESA的缓蚀率大于PESA;聚环氧琥珀酸及其衍生物在A3碳钢表面产生的缓蚀效果是物理、化学共同吸附的结果,与Langmuir等温式相符合;聚环氧琥珀酸及其衍生物对阴极、阳极有一定的抑制作用。量子化学计算表明:聚环氧琥珀酸衍生物缓蚀率高于聚环氧琥珀酸的主要原因是CSN-PESA分子中的轨道密度主要分布在O、N、S这些杂原子附近。