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单荫海 《建筑玻璃与工业玻璃》2004,(5):34-35
目前,很多客户要求在宾馆、饭店、营业厅、会议室、歌舞厅、居室等场所的玻璃上雕刻出名人字画、对联、花鸟、人物、动物、风景等图案,需求量可观,对于从事工艺美术行业的人员来说是一个商业机遇。玻璃雕刻除了机械磨花、手工磨花、气泵喷砂、蒙砂等方法以外,还有化学蚀刻。下面就介绍这方面的工艺。 相似文献
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阐述了玻璃丝网印刷蚀刻油墨的化学原理、生产及应用,并与溶液蚀刻方法进行了工艺和社会经济效益的对比。通过比较,说明该法具有操作简单、投资少、污染小等特点,社会效益与经济效益显著。 相似文献
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微细加工技术是伴随着微制造的出现而产生的一类新型现代化制造技术,它实现了微小尺度范围内的机械加工和装配。化学蚀刻技术是微细加工技术主要的加工方法之一,包括浸泡、鼓泡、喷淋等方法,其中浸泡式蚀刻方法相对来说设备简单、操作方便、节约成本。本文采用单因素浸泡式方法对不锈钢板蚀刻进行了实验研究,研究了蚀刻时间、蚀刻液组分浓度及温度等因素对化学蚀刻质量的影响。结果表明,蚀刻液中FeCl3浓度、H3PO4浓度、温度等对蚀刻速度、蚀刻均匀性、侧蚀及粗糙度有较大的影响。研究结果对流体微细通道的制造提供了初步工艺参数。 相似文献
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对比两种集成电路制造湿法工艺设备的优缺点及未来发展趋势,对影响单片湿法清洗工艺中蚀刻率因素进行分析总结,介绍化学药液混合和制程喷吐中流量控制技术的发展,设计实验将两种化学药液流量控制阀件的蚀刻清洗效果对比,并对未来技术发展进行简要分析。 相似文献
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不锈钢模具板化学蚀刻、抛光和电镀铬研究 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了不锈钢模具板的化学蚀刻、化学抛光和电镀铬工艺。分析了影响蚀刻、化学抛光和电镀铬质量的因素,得到了化学蚀刻、化学抛光及电镀铬最佳工艺参数和操作规范。该工艺可以用于各种类型不锈钢的化学蚀刻、化学抛光和电镀铬处理。 相似文献
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固体蒙砂粉的熟化质量是决定玻璃蚀刻效果的重要因素。用X射线衍射(XRD)、能谱仪(EDS)、拉曼光谱、粘度计、Zeta电位和碱滴定等方法研究了用柠檬酸和氟化氢铵为主要成分配制的蒙砂粉的理化性质随熟化时间的变化规律,考察和评价了熟化时间对GG6手机盖板玻璃蚀刻效果的影响。结果表明:熟化时间为36 h,得到的熟化液的黏度和氢离子浓度最大,GG6玻璃蚀刻后的粗糙度为265 nm、雾度为84%、透光率为92.4%、光泽度为11.7%,符合工业上手机玻璃盖板的蚀刻加工质量要求,蚀刻后的GG6玻璃表面形成一层微量的氟硅酸物晶体,构成的微纳蚀孔结构更均匀。测定蒙砂液的理化性质能有助于更好地了解蒙砂粉的熟化过程,对蒙砂粉蚀刻工艺具有指导作用,提高玻璃防眩工艺的生产效率。 相似文献
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通过国家知识产权局专利数据库CNABS,利用国际专利分类号IPC分类号来对我国的玻璃蚀刻技术的专利申请情况进行了全面检索,并对检索到的数据进行全面分析,包括对玻璃蚀刻技术的申请量现状、发展趋势、国内外主要申请人、以及未来的研究趋势进行分析,从而指出当前国内在玻璃蚀刻研究中存在的一些问题,并提出一些建议及对发展前景进行展望。 相似文献
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利用各向异性化学腐蚀法制备了具有朦胧效果的低反射装饰玻璃,详细研究了玻璃表面经过酸蚀刻与酸抛光后以微观峰的高度调控反射光。介绍了浸泡法、淋液法对表面腐蚀、酸抛光处理时间和反射光的影响,结果表明:淋液法可以降低腐蚀时间,消除浸泡法表面形成的线纹和不规则的峰,在酸抛光阶段可消除附在峰表面的硅氧化物获得减少反射光作用。 相似文献
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铜表面化学蚀刻的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
应用电化学反应原理和配位场理论,对以硫代硫酸钠和碳酸氢铵组成的蚀刻溶液的铜表面化学蚀刻原理进行了分析,认为:铜被硫代硫酸钠氧化为铜离子,铜离子与碳酸氢铵提供的氨分子迅速形成稳定的铜氨络离子。研究了各组分浓度、温度对蚀刻速率的影响作用,并进行了蚀刻溶液对钢设备的腐蚀性能研究。结果表明:随着溶液中硫代硫酸钠和碳酸氢铵浓度的增加,蚀刻速率增大,而碳酸氢铵的浓度受硫代硫酸钠浓度的限制,蚀刻溶液对钢设备没有腐蚀作用。 相似文献
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不锈钢管材以其良好的机械加工性能、耐腐蚀性、明亮的光泽等 ,在室内外建筑装饰方面的应用日趋增多。随着人们文化素养、生活水平的提高 ,目前多采用带有艺术图案的不锈钢管材。在不锈钢表面蚀刻艺术图案 ,传统的方法是化学蚀刻法。即在其表面涂盖一层耐腐蚀保护层 ,用物理法刻出所需的线条图案 ,将其侵入化学腐蚀液中进行蚀刻。由于不锈钢有较好的耐腐蚀性 ,化学反应速率很慢 ,需要较长时间反复腐蚀。这样就易产生掩膜下的横向腐蚀 ,而且效率低、成本高。电解蚀刻法可有效解决上述问题 ,是一种高速、高效的金属蚀刻方法。1 基本原理电化… 相似文献
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近年来世界各国电子行业的发展很快,据初步统计仅我国每年就需蚀刻剂的用量近100kt,但传统蚀刻剂大多采用氯化铜类和氯化铵类固体产品。此类产品在蚀刻中要求温度较高,而且对铜和铝的蚀刻时间也较长,因此造成蚀刻成本高等不足。为解决上述问题,由武汉现代工业技术研究院最新研究成功了一种新型快速液体蚀刻剂技术,该技术经多家企业试用均达到很好的效果,并证实了该产品具有蚀刻速度快,成本低于传统蚀刻35%左右。该产品主要用于印制电路板铜和铝的蚀刻,其主要特点有;通过减少侧蚀,改进焊重融及可焊性,获得更好质量的印制板… 相似文献