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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
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由上海无线电一厂和上海市激光技术试验站协作试制的激光自动电阻刻槽机,是用一小型二氧化碳激光器代替原来用的金刚砂轮在电阻上自动刻槽,控制阻值,可以生产1千欧姆到1兆欧姆的电阻.它的优点是生产效率高,全面推广后估计可以提高十倍,节省大量砂轮和打磨砂轮用的金刚钻石,没有粉尘,不影由上海无线电一厂和上海市激光技术试验站协作试制的激光自动电阻刻槽机,是用一小型二氧化碳激光器代替原来用的金刚砂轮在电阻上自动刻槽,控制阻值,可以生产1千欧姆到1兆欧姆的电阻。它的优点是生产效率高,全面推广后估计可以提高十倍,节省大量砂轮和打磨…  相似文献   

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介绍一种用激光对圆柱状电阻刻槽的设备,阐述了设备的原理、设计及性能。  相似文献   

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介绍一种用激光对圆柱状电阻刻槽的设备,阐述了设备的原理、设计及性能。  相似文献   

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以“JJK激光自动刻槽机”的控制和监测系统为实例,扼要描述光点物面位移法刻槽电阻如何实现动态阻值精度测量和控制。  相似文献   

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以“JJK激光自动刻槽机”的控制和监测系统为实例,扼要描述光点物面位移法刻槽电阻如何实现动态阻值精度测量和控制。  相似文献   

6.
文章展示了光盘刻槽机中激光刻录系统的激光稳定与光信息处理技术,同时阐述了声光效应及其支持电路的性能。最终证明,声光技术将在多媒体技术和信息压缩等领域得到广泛应用。  相似文献   

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在现代大规模集成电路的制作中,尤其在微电子领域多层布线混合集成电路用的  相似文献   

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大功率晶体管刻槽与钝化工艺研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
万积庆  廖晓华 《半导体学报》1989,10(10):775-780
本文介绍一种光刻刻蚀造型和聚酰亚胺钝化方法.这一新方法称耗尽层刻蚀,它可以使平面型晶体管达到理想击穿电压,而只需用负角斜面所占面积的一部份,且其实际击穿电压取决于对刻蚀深度的细心控制. 实验证明:采用这一新方法可以改善功率晶体管的击穿特性;减少低压击穿;抑制小电流H_(FE)退化;减小表面漏电和改善高温反向特性.  相似文献   

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阐述了高功率(20W)可见激光(0.532μm)扫描系统的研制方案。单椭圆柱聚光腔常用于小功率的激光系统中,在此基础上研究并实现了双椭圆柱聚光腔技术,大大提高了激光的输出功率。本文通过性能测试实验,对两种聚光腔技术的性能进行了比较。实验结果表明,使用了双椭圆聚光腔激光扫描系统的激光输出功率明显高于采用单椭圆柱聚光腔的系统。  相似文献   

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本文介绍在刻楷Si衬底上用分子束外延嵌入生长GaAs的异质共平面技术。用横截面透射电子显微镜对槽壁非平面异质结的生长行为和微结构进行了研究,结果表明:槽壁的几何因素对外延层的成核行为和生长行为有一定影响,和Si[001]晶面相比,Si[113]可能是一个有利于半导体异质结生长的晶面。  相似文献   

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圆柱状精密金属膜电阻采用激光刻螺线槽是电阻器制造技术的趋势。着重描述了激光扩阻试验依据和结果分析。  相似文献   

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圆柱状精密金属膜电阻采用激光刻螺线槽是电阻器制造技术的趋势。着重描述了激光扩阻试验依据和结果分析。  相似文献   

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<正>概述 红外光刻机是一种特殊用途的光刻机,其特点是通过红外显微镜来观察样片反面图形,从而可以样片反面与掩膜套刻,即实现背面光刻工艺。利用这种工艺可提高器件的性能,如FET器件的源区面接地工艺,减少了器件的源区电感值,使器件增益提高,红外光刻机广泛用于砷化镓、锢砷磷,硅等材料光刻,是生产微波FET器件,光电器件和其它器件的重要工艺设备。JB5型红外光刻机的电控系统包括红外显微镜高压聚焦电路、红外光源电路、主控回路、高精度数显计时器及曝光光源的恒光强控制电路等。 红外显微镜成象原理及其高压聚焦与光源电路  相似文献   

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电阻器激光刻螺线槽槽纹质量分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文从评价圆柱状金属膜电阻器激光刻螺线槽槽纹质量,分析槽纹误差产生的原因,影响因素及减小路径。  相似文献   

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