光学薄膜厚度的监控

提出了一种多层１／４波长膜系的薄膜厚度监控方法．利用这种方法可以在监控过程的同时得到膜层的光学常数且具有监控精度高的优点．该方法也可用于非１／４波长膜系的控制     

四层宽带增透膜的设计和镀制

文中详细介绍及采用可调挡板对非λ/4相位厚度的膜层进行监控的方法。     

诱导透射滤光片监控误差的计算机模拟

本文讨论了膜系控制误差模拟计算的方法,并利用此方法计算了控制误差对诱导透射滤光片特性的影响;对诱导透射滤光片的两种控制方法作了计算机模拟。模拟结果表明,诱导透射滤光片的直接监控具有较高的成品率。实验结果与理论模拟是符合的。     

食品冷冻生产线计算机监控系统

以局域网为基础,应用嵌入式计算机测控技术,自动采集螺旋冷冻机组的低温温度、电压电流、工艺故障.此系统具有数据处理、记录报警和程序控制功能,可记录分析各种不同冷冻食品加工的生产参数,为建立食品冷冻生产线计算机监控与最优参数专家系统提供基础数据库.     

食品冷冻生产线计算机监控系统

以局域网为基础，应用嵌入式计算机测控技术，自动采集螺旋冷冻机组的低温温度、电压电流、工艺故障．此系统具有数据处理、记录报警和程序控制功能，可记录分析各种不同冷冻食品加工的生产参数，为建立食品冷冻生产线计算机监控与最优参数专家系统提供基础数据库．     

多媒体电话语音系统的开发研究

基于CTI技术和计算机多媒体技术开发了多媒体电话语音系统。此系统运用OCX组件编程,在不影响通话质量的前提下自动进行实时监控录音,可适用于报警、急救、银行、报修、维护、咨询、监听等服务。     

无土栽培的计算机监控系统

介绍了计算机监控系统在农业无土栽培蔬菜(花卉)中的应用．系统的硬件结构保证了温湿度自动监控、自动配置营养液、全天候环境监控等功能的实现,并利用模糊控制技术,采用多模块分段控制算法,使整个系统运行稳定可靠．     

双侧电源电力系统的静态模拟及其计算机监控

为满足电力系统继电保护教学和科研工作的基本需要，研制建造一种具有计算机监控的双侧电源电力系统的静态模拟系统，介绍静膜一次系统的基本构成，讨论了两侧电源电势角的模拟方法，设计出以工控计算机、PLC控制器、NI多功能数据采集板为硬件核心，以虚拟仪器编程环境Lab-Windows为软件平台的静模计算机监控系统，解决了现有静膜系统普遍存在的监视不便、控制困难等问题，提高了静脉系统和性能指标，取得了很好的应用效果。     

沥青混合料沥青膜厚度的确定

通过对传统方法进行分析,并结合沥青混合料的集料比表面积的实测结果,提出了不同于常用方法的沥青混合料的集料比表面积的确定方法,并确定了集料比表面积的计算公式。在此基础上,通过研究现有的沥青混合料沥青膜厚度计算方法,提出了修正后的沥青混合料沥青膜厚度计算公式。实践证明,这一方法更能反映沥青混合料中集料比表面积的真实情况,确保沥青混合料沥青膜厚度计算的准确性,对沥青混合料配合比设计具有指导意义。     

盐膜穿孔CCD成像微机监控系统设计

采用P87LPC764 OTP单片机以及I^2C总线技术设计了塑料拉膜机生产线膜穿孔CCD成像微机自动监控系统，该系统采用先进的线阵CCD数码成像技术，通过对盐膜生产过程扣实时在线检测，完成对膜穿孔情况的监控。描述了硬件接口电路的设计原理，并对系统设计中的线阵CCD检测头安装、检测电路设计、检测精度、检测速度以及边界定位等问题进行了详细探讨，指出了提高检测精度与检测速度的方法。     

高级次反射膜空间解复用器件的设计

为了降低多周期高反射膜空间解复用器的制备工艺难度，根据 “超棱镜” 效应的多层薄膜空间解复用器的设计方法，提出了一种制备工艺简单的多层薄膜结构.通过增加周期中单层膜的级次来减少整个高反射膜系的周期数.所设计的高级次反射膜结构为10(9H9L)9H，对设计的膜系进行了数值模拟计算，并和相同总物理厚度的一级次高反射膜系进行了比较.计算结果表明，该设计方法明显降低了对制备工艺的要求，并具有大的空间色散和实际制备意义.     

气敏半导体薄膜内载流子浓度的研究

气敏半导体薄膜内的载流子浓度与薄膜表面吸附氧密度的关系,可以反映气敏薄膜的敏感性。本文采用刚性能带模型,计算了不同厚度的ZnO薄膜内载流子浓度与表面吸附氧密度的关系,并对结果进行了讨论。计算结果表明,适当选取薄膜的厚度等参数,可以得到高的气敏性。     

Sputtering preparation and magneto-optical properties of GdTbFeCo thin films

Amorphous GdTbFeCo magnetic thin films were successfully prepared on glass substrates by RF magnetron sputtering system from a mosaic target.The influences of sputtering parameters on the magneto-optical properties GdTbFeCo thin film were investigated by the variable control method.And the influence mechanism was analyzed in detail.After the sputtering parameters were optimized,it was found that when the distance between target and substrate was 72 mm,the thin film thickness was 120 nm,and the sputtering power,sputtering pressure and sputtering time was 75 W,0.5 Pa and 613 s,respectively,the coercivity with perpendicular anisotropy could be as high as 6735 Oe,and the squareness ratio of the hysteresis loop was almost equal to 1.     

日盲型紫外探测系滤光膜的研制

针对紫外探测系统利用紫外日盲区的特殊要求,选取HfO2和Mgf2、JGS1三种高低折射率材料组合形式。在石英基底上,采用电子束和离子辅助沉积技术及石英晶体振荡监控厚度方法。对HfO2和JGS1膜电子束沉积工艺进行了研究,对HfO2与不同材料组合的沉积工艺进行了优化,解决了膜层与基底之间附着力的问题,同时改善了Mgf2膜随厚度变化易的龟裂现象。研究了0.24~0.28μm紫外日盲波段薄膜的沉积工艺和光谱特性问题。     

Preparation and magnetic properties of Co-P thin films

Magnetic Co-P thin films were prepared by electroless deposition. The experiment results show that the film thickness has a significant influence on the coercivity. While the film thickness varied from 300 nm to 5 μm,the coercivity dropped sharply from 45.36 to 22.28 kA/m. As the film thickness increased further,the coercivity varied slowly. When the thickness of the film was 300 nm,the deposited film could realize the coercivity as high as 45.36 kA/m,and the remanent magnetization as high as 800 kA/m .The ...     

粉末溅射金属氧化物气敏薄膜和元件Ⅰ.粉末溅射金属氧化物气敏薄膜

利用反溅,发展了粉末溅射工艺;指出了粉末溅射对研制稳定的薄膜气敏元件的重要性;给出了粉末掺杂比与薄膜掺杂比关系的实验结果;给出了SnO₂(100~x)／CeO₂(x)最佳灵敏度的掺杂x％的范围;给出了灵敏度随膜厚变化的特征,以及一些薄膜的最佳膜厚lx的数值;给出了响应时间随膜厚变化的规律.     

椭偏参数测量误差对薄膜参数测试精度的影响

为了分析透明均匀介质膜的椭偏方程中所隐含的椭偏参数和薄膜参数（膜厚、折射率）之间的误差关系,提出基于误差传递公式和反函数组定理,通过求出椭偏参数对薄膜参数的偏导在名义膜厚和名义折射率处的值来反求后者对前者的偏导值,进而绘出不同入射角下膜厚和折射率误差与椭偏参数测量误差之间的关系曲线的方法.该法所得结果表明,椭偏参数测量误差导致的膜厚误差和折射率误差并非在同一入射角下达到最小;它们最小时所分别对应的最佳入射角随着入射光波长、薄膜名义膜厚、名义折射率和基片折射率变化而变化;若以各自最佳入射角时所对应测得的膜厚和折射率作为薄膜参数测试值,则能有效提高测量精度.该结论与在激光椭偏仪上的实际测量结果相符.文中方法对分析其他超越方程中多个变量之间的误差关系以及各变量值的优化选取有一定参考价值.     

不同因素对铁磁性薄膜中表面自旋波频率的影响

为了了解铁磁性薄膜中表面自旋波的物理性质,采用量子格林函数方法研究了铁磁性薄膜中表面自旋波的频率,分析了温度、外磁场、表面交换耦合、表面各向异性、薄膜厚度和波矢对表面自旋波频率的影响.结果表明,声学和光学表面自旋波的频率随温度的升高而减小.随着外磁场、表面交换耦合、表面各向异性和波矢的增加,声学和光学表面自旋波的频率随之增加.随着原子层数的减小,声学和光学表面自旋波频率增大.但当薄膜的原子层数大于5时,薄膜厚度对声学和光学表面自旋波频率的影响很小.     

在多孔基底上形成免污离子壁垒超薄膜技术的新途径

文中介绍了在多孔基底MCP输入面上制作免污离子壁垒膜层的新工艺的基本原理和方法 ,给出了膜层成分分析和带膜MCP特性测试结果 ,并初步讨论了电子通过与膜厚的关系。提出了尚需深入探讨的具体问题     

多晶硅薄膜疲劳特性片外测试方法

多晶硅是微机电系统(MEMS)表面制造工艺的主要结构材料,其疲劳特性是影响MEMS器件可靠性的一个重要因素,因而,研究多晶硅薄膜材料的疲劳特性具有广泛的实际意义.国外主要采用片上测试方法研究多晶硅薄膜的疲劳特性,本文发展了一种新型片外测试方法,利用压电驱动、电容位移检测和高精度CCD图像实时监控技术,全面测试了多晶硅薄膜的疲劳性能.并通过对实验数据的W e ibu ll方法处理,得到了拉伸状态下带缺口和不带缺口的多晶硅薄膜的应力-循环周次曲线.该方法大大降低了对试件制造工艺性的要求,能够有效地测量薄膜的疲劳性能.