共查询到19条相似文献,搜索用时 78 毫秒
1.
为防止飞机刹车副用炭/炭(C/C)复合材料在刹车过程中氧化失效,研究了以磷酸、氧化硅和磷酸盐等为原料所制备的磷酸盐涂层的抗氧化性能,结果表明:涂覆有涂层的C/C复合材料在700 ℃氧化66 h后,其氧化失重率仅为1.11%;涂层试样在1 200 ℃氧化5 min后,失重率不超过0.8%;经900 ℃、3 min←→室温、2 min 100次热震后,涂层试件失重率为1.6%.涂层与基体结合牢固,一直保持完好,没有剥落,说明该涂料具有耐高温、热稳定性好等优点,适合作为C/C复合材料表面防氧化涂层. 相似文献
2.
系统研究了SiO2与B2O3之比、高熔点添加剂种类(包括MoSi2,Y2O3,SiC)及含量对硼硅酸盐(SAB)玻璃涂层高温稳定性、高温流动性的影响规律和最佳工艺参数组合,采用涂刷法在带有疏松结构的SiC内涂层炭/炭(C/C)复合材料表面制备了高温稳定性和流动性良好的硼硅酸盐玻璃外涂层,并测试了带有不同SiC/硼硅酸盐玻璃复合涂层C/C复合材料试样在1500℃静态空气中的抗氧化性能.结果表明:采用SiO2,B2O3摩尔比为4∶1时所得硼硅酸盐玻璃具有相对较高的高温流动性和高温稳定性;与添加Y2O3,SiC相比,在上述硼硅酸盐玻璃中添加MoSi2可以较大幅度提高所得玻璃涂层对C/C基体的氧化保护性能,并且当硼硅酸盐玻璃外涂层中硼硅酸盐与MoSi2的质量比为4∶1时,所得硼硅酸盐玻璃外涂层对SiC-C/C表现出较好的氧化保护能力,氧化17h后涂层C/C试样的失重仅为4.31%. 相似文献
3.
采用等离子喷涂(Atmospheric plasma spraying,APS)法在炭/炭复合材料碳化硅(SiC)内涂层表面制备了硅酸钇涂层。分别采用XRD和SEM分析了所得涂层的微观结构,并测试了带有SiC/硅酸钇复合涂层的炭/炭复合材料试样在1500℃静态空气中的抗氧化性能。结果表明:通过调节喷涂粉料中的SiO2和Y2O3的摩尔比,可制得Y2SiO5、Y2Si2O7、Y2Si2O7/Y2SiO5和Y4Si3O12/Y2Si2O7/Y2SiO5四种不同结构的硅酸钇涂层;1500℃氧化73h后,SiC/Y4Si3O12/Y2Si2O7/Y2SiO5涂层试样的氧化失重速率相对较低,仅为1.01×10-4g.cm-.2h-1。 相似文献
4.
为提高炭/炭(C/C)复合材料的高温抗氧化性能,采用料浆涂刷法首先在C/C复合材料表面制备了预炭层,然后以Si粉及石墨粉(Si粉与石墨粉的质量配比为:60~80:10~25)为原材料采用包埋法经高温热处理获得C/SiC内涂层,最后在涂有C/SiC内涂层的C/C复合材料表面采用包埋法制备Si-Mo-Cr外涂层。借助扫描电镜、X射线衍射、电子能谱等分析测试手段对涂层试样的微观结构进行了分析,研究了涂层C/C复合材料在1 873 K和1 973 K下的氧化行为。结果表明:由于涂层氧化过程中表面生成了SiO2和Cr2O3复合玻璃层,其在1 873 K温度下表现出优异的防氧化性能,可以有效保护C/C复合材料达135 h。当氧化温度提高至1 973 K并氧化30 h后,该复合涂层氧化过程玻璃层完整性被破坏,涂层失效。 相似文献
5.
采用包埋法和预涂-烧结法相结合的组合工艺在炭/炭(C/C)复合材料表面制得SiC-Glass复合涂层, 并借助X射线衍射仪(XRD)和扫描电镜(SEM)对该复合涂层进行了表征, 研究了涂层C/C试样在不同温度下的氧化动力学规律。结果表明: 复合涂层具有双层结构, 包埋SiC内层由β-SiC相和少量游离硅相组成, 外层由MoSi2颗粒掺杂的硼硅酸盐玻璃构成; 内外层之间结合紧密; 在1300~1600℃的空气气氛中, SiC-Glass涂层表现出良好的抗氧化性能, 其氧化激活能为118.1kJ/mol, 氧化主要受控于氧在Glass层中的体扩散速率; 在1600℃空气气氛中氧化65h后, SiC-Glass涂层C/C试样的氧化失重率仅为1.02%。 相似文献
6.
7.
8.
以磷酸、B4C、SiC和Al2O3粉料为原料, 采用一种新颖的水热法对炭/炭(C/C)复合材料基体进行了抗氧化改性. 重点研究了水热反应温度对改性试样的物相组成、微观结构及抗氧化性能的影响. 采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱仪(EDS)及X射线光电子能谱(XPS)对改性后试样进行了表征. 结果表明:经过水热改性处理, 炭/炭复合材料表面缺陷被玻璃相B2O3、HPO3和微晶Al(PO3)3所组成的涂层所覆盖, 材料的抗氧化性能明显提高; 抗氧化性能在120~200℃范围内随着水热改性温度的升高而提高; 在200℃水热改性后的炭/炭复合材料在700℃的空气中氧化10h后的质量损失仅为2.31%. 相似文献
9.
为提高炭/炭(C/C)复合材料的高温抗氧化性能,同时分析涂层制备及高温氧化对涂层材料力学行为的影响,在C/C复合材料表面采用反应熔渗、料浆涂刷结合化学气相沉积工艺制备了SiC/ZrB2-SiC/SiC三层高温抗氧化涂层。利用SEM和XRD分析复合涂层的微观结构和相组成,考察涂层复合材料1500℃高温抗氧化和1500℃-室温的抗热震性能,研究高温氧化及热震对涂层C/C复合材料力学行为的影响。结果表明,复合涂层试样1500℃静态空气环境下具有优异的抗氧化及抗热震性能:1500℃氧化20 h后试样保持增重,1500℃至室温热震50次后增重为0.69%。因涂层制备过程中粉料的渗入反应,复合材料弯曲强度增长了7.08%。在经历1500℃氧化20 h和1500℃至室温50次热震后,涂层复合材料弯曲强度有所下降,且因材料界面结合力的减弱使得纤维拔出特征明显,材料塑性断裂特征增强。 相似文献
10.
采用等离子喷涂法在涂覆SiC内涂层的炭/炭复合材料表面制备了Cr-Al-Si外涂层。采用XRD和SEM分析了涂层的物相组成及微观结构, 并测试了复合涂层炭/炭复合材料试样在1500℃静态空气中的抗氧化性能。结果表明: 合金外涂层主要由Al3.21Si0.47、 Cr3Si及Al2O3组成, 厚度约为120μm, 无穿透性裂纹; 多孔结构单一β-SiC内涂层的防氧化能力较差, 氧化10h后涂层试样的氧化失重就接近10%, 外加Cr-Al-Si涂层后, 涂层试样的氧化性能显著提高, 氧化61 h后试样的失重仅为5.3%。 相似文献
11.
硼在碳/碳复合材料中的状态及其催化石墨化作用 总被引:6,自引:0,他引:6
以糖酮树脂作粘结剂,添加树脂碳微粉、硼类催化剂、短切PAN基高强碳纤维,制得了含硼C/C复合材料。通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子(XPS)等手段,检测了硼、氧化硼在C/C中的状态,研究了它们对C/C复合材料的催化石墨化作用,分析了石墨化温度、催化剂种类及其用量对石墨化度的影响。结果表明:硼以固溶体的形式存在C/C复合材料,通过吸电子断键、代替碳原子消除缺陷等机理形式,使最难石墨化的玻璃碳和 相似文献
12.
13.
14.
以SiC、ZrC、ZrB2前驱体和二甲苯可溶煤沥青为原料共裂解制备了Si-Zr-B掺杂沥青, 掺杂沥青经共炭化、冷压成型以及高温热处理得到了Si-Zr-B掺杂沥青基炭材料。采用XRD、SEM、EDS等手段分析了掺杂沥青基炭材料的组成和微观形貌, 并研究了其在1500℃静态空气环境中的氧化行为。结果表明, 随着SiC前驱体含量的降低, Si-Zr-B掺杂沥青基炭材料的失重率呈现先减少后增大的趋势, 当原料中SiC、ZrC和ZrB2前驱体质量比为1:2:1时, 所制备的样品具有较好的抗氧化性能, 它在1500℃氧化4 h, 失重为27.5wt%, 氧化深度为0.7 mm。在Si-Zr-B掺杂沥青基炭材料表面氧化形成的致密的SiO2-ZrO2-B2O3玻璃态阻氧层可以有效降低氧化性气氛向材料内部扩散的速率, 提高其抗氧化性能。 相似文献
15.
白炭黑、B4C改性酚醛树脂粘接石墨高温性能研究 总被引:11,自引:0,他引:11
在B4C改性酚醛树脂(phenol-formaldehyde resin,PF)高温粘接剂的基础上,向其中添加白炭黑(超细SiO2)制备新型粘接剂,并对石墨材料进行粘接和热处理,测试了不同温度热处理后的粘接强度。结果表明,2550℃处理后新型粘接剂仍具有理想的耐热温度和粘接强度。利用扫描电镜(SEM)对样品断面形貌进行观察,研究了粘接界面的组成和结构变化及其与粘接性能之间的关系。实验结果表明,白炭黑的添加,对提高胶层的致密性和粘接强度具有明显的效果。 相似文献
16.
High‐Modulus Low‐Cost Carbon Fibers from Polyethylene Enabled by Boron Catalyzed Graphitization 下载免费PDF全文
Bryan E. Barton Michael J. Behr Jasson T. Patton Eric J. Hukkanen Brian G. Landes Weijun Wang Nicholas Horstman James E. Rix Denis Keane Steven Weigand Mark Spalding Chris Derstine 《Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)》2017,13(36)
Currently, carbon fibers (CFs) from the solution spinning, air oxidation, and carbonization of polyacrylonitrile impose a lower price limit of ≈$10 per lb, limiting the growth in industrial and automotive markets. Polyethylene is a promising precursor to enable a high‐volume industrial grade CF as it is low cost, melt spinnable and has high carbon content. However, sulfonated polyethylene (SPE)‐derived CFs have thus far fallen short of the 200 GPa tensile modulus threshold for industrial applicability. Here, a graphitization process is presented catalyzed by the addition of boron that produces carbon fiber with >400 GPa tensile modulus at 2400 °C. Wide angle X‐ray diffraction collected during carbonization reveals that the presence of boron reduces the onset of graphitization by nearly 400 °C, beginning around 1200 °C. The B‐doped SPE‐CFs herein attain 200 GPa tensile modulus and 2.4 GPa tensile strength at the practical carbonization temperature of 1800 °C. 相似文献
17.
以三氯化硼、甲烷和氢气的混合气体为前驱体,利用磁悬浮天平热重系统研究了850~1200℃区间内化学气相沉积掺硼碳的原位动力学.探索了温度对沉积速率的影响,计算了该温度区间内沉积过程的表观活化能,同时借助SEM和EDS技术.测试了不同温度点(900℃、1000℃、1100℃和1200℃)沉积产物的微观结构和成分.结果表明,化学气相沉积掺硼碳属于典型的热激活反应过程;在所研究的温度区间内存在5种不同的反应控制机制;随着温度的升高,沉积产物的n(B)/n(C)和堆积密度都显著变小,说明高n(B)/n(C)和高致密度的掺硼碳涂层应在较低的温度下制备. 相似文献
18.
19.
Danis I. Badrtdinov Carlos Rodriguez-Fernandez Magdalena Grzeszczyk Zhizhan Qiu Kristina Vaklinova Pengru Huang Alexander Hampel Kenji Watanabe Takashi Taniguchi Lu Jiong Marek Potemski Cyrus E. Dreyer Maciej Koperski Malte Rösner 《Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)》2023,19(41):2300144
A key advantage of utilizing van-der-Waals (vdW) materials as defect-hosting platforms for quantum applications is the controllable proximity of the defect to the surface or the substrate allowing for improved light extraction, enhanced coupling with photonic elements, or more sensitive metrology. However, this aspect results in a significant challenge for defect identification and characterization, as the defect's properties depend on the the atomic environment. This study explores how the environment can influence the properties of carbon impurity centers in hexagonal boron nitride (hBN). It compares the optical and electronic properties of such defects between bulk-like and few-layer films, showing alteration of the zero-phonon line energies and their phonon sidebands, and enhancements of inhomogeneous broadenings. To disentangle the mechanisms responsible for these changes, including the atomic structure, electronic wavefunctions, and dielectric screening, it combines ab initio calculations with a quantum-embedding approach. By studying various carbon-based defects embedded in monolayer and bulk hBN, it demonstrates that the dominant effect of the change in the environment is the screening of density–density Coulomb interactions between the defect orbitals. The comparative analysis of experimental and theoretical findings paves the way for improved identification of defects in low-dimensional materials and the development of atomic scale sensors for dielectric environments. 相似文献