浮法玻璃在线制备双层复合薄膜的性能

将离子渗透着色技术(IPC)和化学气相沉积技术(CVD)加以结合,在浮法玻璃生产线的锡槽内和A0区进行2次镀膜形成复合膜,克服了单一镀膜技术存在的不足.已经试制出了咖啡色、金黄色、桔红色、蓝色、绿色、灰色等5个系列的复合膜产品,对这种产品的薄膜显微硬度、耐酸碱性、耐磨性、光谱性能、热学性能进行了测定,结果表明:这种复合膜层既具有装饰性,又具有节能性,膜层均匀、平整、牢固,是性能优良的阳光控制镀膜玻璃产品.     

浮法玻璃复合法在线镀双层膜的研究

在浮法玻璃生产线的锡槽内和玻璃板面温度600℃的退火窑区分别采用电化学方法和化学气相沉积法,在浮法玻璃表面在线镀膜,制备了双层膜。对双层膜的光谱性能、耐磨性和耐酸碱性进行了测试。用扫描电镜、原子力显微镜对膜的表面形貌和断面进行了观察。结果表明：这种在线复合法制备的双层膜增强了单层膜的阳光控制功能,同时可赋予玻璃多种需要的颜色。双层膜光谱性能和颜色特征可以通过改变工艺条件得到调节。膜层表面均匀,耐磨性、耐酸碱性良好。     

浮法玻璃在线镀膜技术现状与发展

介绍了浮法玻璃在线镀膜技术的种类、发展历史与现状.经历电浮法、热喷涂等镀膜技术之后,常压化学气相沉积已成为当今最主要的在线镀膜技术,产品种类包括以硅质膜为代表的阳光控制镀膜玻璃、以氧化锡导电膜为代表的低辐射镀膜玻璃和功能导电玻璃等.在线镀膜的技术难点和研发重点是改善镀膜工艺与浮法工艺的适配性,实现产品功能多样化,提高前驱体原料的利用率,延长镀膜周期.     

纳米压痕法研究金刚石薄膜的力学性能

用热丝化学气相沉积法在硅基体上制备了大面积硼掺杂金刚石薄膜,硼的浓度大约为2×10~(20)/cm3。利用纳米压痕仪及其附件研究了薄膜和纳米划擦有关的力学性能。结果表明:薄膜具有较高的硬度,平均硬度约为30GPa,弹性模量约为419GPa;薄膜与基体的结合强度较高,薄膜发生剥落的第一次破坏力大约是4N。比较而言,薄膜中心区域的硬度高于边缘,结合强度则相反。     

斯坦因退火窑生产15mm浮法玻璃的实践

简要介绍了斯坦因退火窑的结构特点，并论述了生产15 mm玻璃的调整方法及出现炸板时的处理措施。     

浮法玻璃在线水洗设计

本文介绍了一种浮法玻璃在线水洗装置的设计特点     

锡增强浮法玻璃力学性能的研究

强度是指材料抵抗破坏或失效的能力,是衡量玻璃结构件的重要指标之一。通过测试浮法玻璃的抗冲击强度、抗弯强度,结合电子探针和XPS等进行分析发现:当玻璃的厚度相同时,不同表面的浮法玻璃的抗冲击强度、抗弯强度不同,表现为:锡面>空气面,渗锡可增强浮法玻璃的强度。     

浮法玻璃温度应力

依据浮法玻璃板为沿厚度方向一维导热降温生产的特点,分析了在降温过程中玻璃板温度应力的发生和变化。     

浮法玻璃的退火特点及其在厚,薄玻璃上的应用

从传统的退火理论出发,根据浮法玻璃成形的工艺过程,分析了浮法玻璃的退火特点,并结合了３ｍｍ、１２ｍｍ的生产实际论述了退火理论在超厚超薄玻璃上的应用。     

常压CVD法制备氮氧化硅薄膜沉积特性的研究

采用常压化学气相沉积方法(atmospheric pressure chemical vapor deposition,APCVD)制备了氮氧化硅(Si—O—N)薄膜,研究了影响其沉积速率和生长模式的因素。在φ(NH_3):φ(SiH_4)=20:1,基板温度为650℃的条件下,当混合气体流量小于720ml/min时,薄膜的形成主要受气体扩散过程控制;当混合气体流量大于720 ml/min时,则主要受表面气相反应过程控制;混合气体流量为720 ml/min的条件下,氮氧化硅薄膜的沉积过程主要受基板表面的气相反应过程控制,薄膜沉积厚度与沉积时间成线性关系,反应速率为常数1640 nm/min,表面活化能为283 kJ/mol。通过SEM分析发现:氮氧化硅薄膜的形成方式符合三维成核模型,即反应初期Si,N,O等原子在基板表面相遇结合在一起形成原子团,一定数量的原子团构成临界核;反应中期临界核长大为岛状结构,岛不断长大,岛与岛之间相互接合形成通道网络结构;反应后期,原子不断填补网络空洞,最后成为连续薄膜。     

温度对直流热阴极化学气相沉积硼掺杂金刚石薄膜的影响

为了获得高品质的硼掺杂金刚石薄膜,采用直流热阴极化学气相沉积法在不同的温度下制备了硼掺杂金刚石薄膜。利用等离子体发射光谱、扫描电子显微镜、X射线衍射和Raman光谱研究了温度对硼掺杂金刚石薄膜生长特性的影响。研究发现:等离子体活性基团 C2的浓度随温度升高而增加。除了1080℃时生长的薄膜存在孔洞外,在较宽的温度范围(800～1000℃)都能够生长高质量的硼掺杂金刚石薄膜,并随温度升高薄膜质量和晶体结晶度都有所提高。与未掺杂生长的金刚石薄膜相比,掺硼薄膜即使在较低的温度(800℃)时也没有出现非金刚石相。这主要是因为掺杂剂B(OCH3)3 在气相反应中能够生成含氧活性基团,对非金刚石相具有很强的刻蚀作用。     

等离子体化学气相沉积法合成石英玻璃

用高频等离子体作为热源,采用化学气相沉积法合成了石英玻璃样品.实验分别使用02和空气作为等离子体电离气体和冷却保护气体,改变等离子体电离工作气体种类时,等离子体火焰长度和石英玻璃沉积温度变化较大,而灯具冷却保护气体的改变对等离子火焰长度和石英玻璃沉积温度的影响不大.当等离子体电离气体和灯具保护气体均为O2时,等离子体火焰长度为12cm,石英基体温度为1 300℃,当等离子体电离气体和灯具保护气体均为空气时,等离子体火焰长度可达24cm,石英基体温度升高到l 840℃,可确保气相沉积过程进行,合成的石英玻璃在波长190nm处光透过率达84%,羟基含量3.5×10-6,可达到全光谱透过的要求.     

镀SiO2膜玻璃基片上化学气相沉积法制备SnO2:Sb薄膜

采用化学气相沉积法在镀有SiO2膜的钠钙硅玻璃基片上制备了Sb掺杂SnO2(antimony-doped tin oxide,ATO)薄膜.研究了基板温度、基板输送速度和氮气流量对ATO薄膜结构和性能的影响.用X射线衍射仪、扫描电镜、X射线光电子能谱仪、紫外-可见光谱仪、双光束红外分光光度计对薄膜的结构、形貌和成分进行了表征.结果表明:沉积温度为490 ℃以上时,薄膜主要以四方相金红石结构存在.随着基板输送速度的提高,薄膜择优取向由(110)转变为(200).薄膜中掺杂的Sb以Sb5 的形式存在;当基板温度为530 ℃时,薄膜表面的C没有完全燃尽,以C-O形式存在于薄膜中.薄膜的可见光透过率随基板温度的升高而增大.具有(110)择优取向的薄膜的红外反射性能较好.     

2 mm浮法薄玻璃的生产实践

根据实际经验,总结2 mm浮法薄玻璃实际生产过程中应用的一些工艺技术措施.     

基板温度对常压化学气相沉积法制备TiO2复合薄膜性能的影响

以Ti(OC3H7)4为先驱体,SnO2:F镀膜玻璃为基板,采用常压化学气相沉积法制备了TiO2/SnO2:F复合薄膜.用扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见-近红外透射光谱等手段对样品的物相和性能进行了研究.结果表明:金红石相的SnO2:F底膜促进了TiO2金红石相的形成;当基板温度为480 ℃时,TiO2/SnO2:F复合薄膜出现针状结构,但随着基板温度继续升高,针状结构消失.样品的可见光透过率随基板温度而变化,其值为60%～90%,基本满足建筑物的采光要求.当基板温度为530 ℃时,TiO2/SnO2:F复合薄膜的光催化性能最好.     

APCVD法SiH4-NH3-CO2系统制备氧氮玻璃薄膜的研究

在６６０℃下以ＳｉＨ５４－ＮＨ３－ＣＯ２作为反应气体利用常压ＣＶＤ（ＡＰＣＶＤ）设备沉积得到了氧氮玻璃薄膜,此温度比文献物ＡＰＣＶＤ法低２００℃以上,有效地降低了沉积温度,实验发现ＮＨ３中水汽对沉积反应的显著影响,初步研究表明,运用ＡＰＣＶＤ法将这种薄膜应用于普通钙硅玻璃的表面改性,可使镀膜玻璃的表面硬度比退火玻璃提高一５０％以上。     

浅谈离心式压缩机在浮法玻璃生产中的应用前景

采用废热锅炉产生蒸汽驱动汽轮机来带动离心式压缩机,为浮法玻璃生产服务,从而节约动力投资,降低产品成本,为玻璃厂在节能降耗方面进行大胆尝试提供一个发展方向.