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1.
用脉冲激光沉积工艺在半导体(001)SrTiO3∶ω(Nb)=1.0%单晶基片上,外延生长出Ba(Zr0.2Ti0.8)O3(简称BZT)介电薄膜.在650℃原位退火10 min,薄膜为(001)外延生长的晶粒.薄膜的晶化特征与表面形貌用薄膜X-ray衍射仪和原子力显微镜测量完成.BZT薄膜(002)峰的半峰宽只有0.72°,说明薄膜晶化良好;薄膜的平均晶粒为90 nm,表面均方根粗糙度为4.3 nm,说明薄膜表面平整.在室温、100 kHz和500 kV/cm条件下,BZT的最大介电常数和调谐百分率分别达到317和65%. 相似文献
2.
采用溶胶-凝胶法制备了Ba(Zr0.2Ti0.8)O3薄膜(简称BZT)。通过X射线衍射测试结果可知,该BZT薄膜为钙钛矿结构且无其他杂相存在。LCR仪测试结果表明,当频率为1kHz时,薄膜具有最低的介质损耗。 相似文献
3.
Guo DongYun Li MeiYa Liu Jun Pei Ling Yu BenFang Zhao XingZhong Yang Bin Wang YunBo Yu Jun 《中国科学E辑(英文版)》2007,50(4):472-477
The Bi4Zr0.5Ti2.5O12 (BZT) thin films were fabricated on the LaNiO3 bottom electrode using sol-gel method. The structure and morphology of the films were characterized using X-ray diffraction, AFM and SEM. The results show that the films have a perovskite phase and dense microstructure. The 2Pr and 2Vc of the Pt/BZT/LaNiO3 capacitor are 28.2 μC/cm2 and 14.7 V respectively at an applied voltage of 25 V. After the switching of 1×1010 cycles, the Pr value decreases to 87% of its pre-fatigue values. The dielectric constant (ε) and the dissipation factor (tanδ) of the BZT thin films are about 204 and 0.029 at 1 kHz, respectively. The films show good insulating behavior according to the test of leakage current. The clockwise C-V hysteresis curve observed shows that the Pt/BZT/LaNiO3 structure has a memory effect because of the BZT film's ferroelectric polarization. 相似文献
4.
GUO DongYun LI MeiYa LIU Jun PEI Ling YU BenFang ZHAO XingZhong YANG Bin WANG YunBo & YU Jun Department of Physics Wuhan University Wuhan China Department of Electronic Science Technology Huazhong University of Science Technology Wuhan China 《中国科学E辑(英文版)》2007,50(4)
The Bi4Zr0.5Ti2.5O12 (BZT) thin films were fabricated on the LaNiO3 bottom electrode using sol-gel method. The structure and morphology of the films were character-ized using X-ray diffraction, AFM and SEM. The results show that the films have a perovskite phase and dense microstructure. The 2Pr and 2Vc of the Pt/BZT/LaNiO3 capacitor are 28.2 μC/cm2 and 14.7 V respectively at an applied voltage of 25 V. After the switching of 1×1010 cycles, the Pr value decreases to 87% of its pre-fatigue val-ues. The dielectric constant (ε) and the dissipation factor (tanδ) of the BZT thin films are about 204 and 0.029 at 1 kHz, respectively. The films show good insulating behavior according to the test of leakage current. The clockwise C-V hysteresis curve observed shows that the Pt/BZT/LaNiO3 structure has a memory effect be-cause of the BZT film’s ferroelectric polarization. 相似文献
5.
用脉冲激光沉积工艺在半导体(001)SrTiO3:ω(Nb)=1.0%单晶基片上,外延生长出Ba(Zr0.2Ti0.8)O3(简称BZT)介电薄膜.在650℃原位退火10min,薄膜为(001)外延生长的晶粒.薄膜的晶化特征与表面形貌用薄膜X-ray衍射仪和原子力显微镜测量完成.BZT薄膜(002)峰的半峰宽只有0.72°,说明薄膜晶化良好;薄膜的平均晶粒为90nm,表面均方根粗糙度为4.3nm,说明薄膜表面平整.在室温、100kHz和500kV/cm条件下,BZT的最大介电常数和调谐百分率分别达到317和65%. 相似文献
6.
为研究Ti掺杂的NbN薄膜的机械和摩擦学特性,采用射频和直流磁控共溅射技术制备了Ti掺杂的NbN(Ti:NbN)薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、能量色散X射线光谱仪(EDX)、扫描电子显微镜(SEM)、纳米压痕仪、高温摩擦磨损实验机分别对Ti掺杂的NbN薄膜的微观结构、组成成分、表面形貌、机械和摩擦学性能进行了研究.XRD测试结果显示,薄膜的结晶性随着Ti靶掺杂功率的增加(从0 W逐渐升高到40 W)而呈明显增强趋势,晶粒尺寸也由18.010 nm增加到21.227 nm.当Ti靶的掺杂功率为30 W时,NbN薄膜的硬度由4.5 GPa(未掺杂)增加到20.4 GPa,弹性模量由145.8 GPa(未掺杂)增加到224.5 GPa; 当Ti靶的掺杂功率为40 W时,NbN薄膜的摩擦系数由0.73(未掺杂)下降到0.51,磨损率由3.3×10-6 mm3/(N·mm)(未掺杂)下降到2.1×10-6 mm3/(N·mm).这表明,掺杂Ti可使NbN薄膜的机械性能和摩擦学性能得到很大的改善. 相似文献
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为了研究钛掺杂对Cu_3N薄膜特性的影响,利用射频和直流反应共溅射方法,在硅(100)和ITO玻璃衬底上,成功制备了不同Ti掺杂量的Cu_3N薄膜(Ti-Cu_3N薄膜).通过X射线衍射(XRD)发现,Ti-Cu_3N薄膜的结晶度均低于未掺杂的Cu_3N薄膜,但是随着Ti掺杂量的增加,结晶度增强.Ti-Cu_3N薄膜的晶格常数随着Ti掺杂量的增加先增后减,但均接近于Cu_3N的理论值.扫描电子显微镜(SEM)图片显示,随着Ti掺杂量的增加,薄膜表面变得粗糙,晶粒大小变得均匀.薄膜的微观硬度在Ti掺杂量为1.86at%时达到5.04GPa,而未掺杂的为4.19GPa.随着Ti掺杂量的增加,薄膜电阻率逐渐从未掺杂的5.73kΩ·cm下降到Ti掺杂量为1.86at%时的1.21kΩ·cm.Ti的掺杂使薄膜的平均反射率变大,但过量的Ti会导致透过率下降.随着Ti掺杂量的增加,薄膜的带隙先增大后减小,Ti掺杂量为1.60at%时获得1.39eV的最大带隙值. 相似文献
8.
张伟 《山东建筑大学学报》2009,24(6):539-542
利用Sol-Gel法、快速退火工艺在Pt(100)/Ti/SiO2/Si衬底上成功制备了Nd掺杂的Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15(C0.4S0.6NT)铁电薄膜.分别研究了退火工艺中热解温度、退火温度对C0.4S0.6NT薄膜取向及铁电性能的影响,并探讨了C0.4S0.6NT薄膜取向生长的微观机制.XRD衍射分析表明:350℃热分解温度得到的薄膜I(200)/I(119)达到最大;退火温度达到700℃,薄膜中的Bi2Ti2O7相全部转化成铋层状钙钛矿相;P-E电学性能测试显示:退火温度高有助于提高薄膜的剩余极化(Pr);350℃热分解温度,750℃退火温度得到高(200)取向的薄膜,铁电性能较好,Pr 和Ec分别为14.2μC/cm2和84.5kV/cm. 相似文献
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典型的压电材料Pb(Zr0.52 Ti0.48)O3因其优异的性能,可用来制备各种类型的压电器件,一直受到许多研究者的关注.采用PLD法在SrTiO3(100)单晶衬底上制备出了不同组分的PZT薄膜,讨论了不同激光能量和Zr/Ti比对Pb(Zr0.52Ti0.48)O3薄膜结晶质量的影响,得出最佳生长PZT薄膜的条件,... 相似文献
10.
研究了硬质合金基底上Cu/Ti作过渡层化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜的界面特性.利用激光Raman谱分析了过渡层不同生长阶段金刚石薄膜的质量的影响.采用SEM、EDS对金刚石薄膜硬质合金刀具横截面的结构进行了研究.结果表明:基体中的Co被Cu/Ti作过渡层有效的抑制住;Cu向基体内的扩散改善了基体的性能,提高了界面层金刚石薄膜的质量;Ti的引入促进了金刚石的形核,减少了界面处晶粒间的空隙,提高了金刚石薄膜与基体表面的实际接触面积. 相似文献
11.
数学优化方法在新安江模型参数率定中的应用分析 总被引:3,自引:0,他引:3
以3种数学优化方法及新安江(三水源)模型的理论为依据,介绍了优化方法在新安江三水源模型参数率定中的应用.将率定成果与API模型进行了对比,说明这3种优化方法在大宁河流域参数率定中应用效果良好,具有很好的参考和推广价值. 相似文献
12.
齿轮—五杆机构的轨迹特性研究 总被引:4,自引:0,他引:4
采用计算机机构动画仿真的方法,对齿轮五杆机构的轨迹特性进行了研究。分析了该机构双曲柄存在的条件,两连杆铰接点C的轨迹曲线可到达的区域及该轨迹曲线形状随机构结构参数的不同而变化的规律,从而为齿轮五杆机构的轨迹综合提供了重要依据。 相似文献
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以文安斜坡内带深层为研究对象,应用高分辨层序地层学等方法研究识别隐蔽油藏.通过兴隆1井地层重新划分及高分辨率三维地震应用,将该区沙三、沙四段地层之间重新确定为不整合接触.在三级层序地层框架建立的基础上,刻画各体系域砂体展布特征,构建了坡折带控制沙四下自生自储岩性油气藏成藏模式.通过钻井实践,首次在霸县凹陷发现沙四下段含油层系及新的烃源岩层,实现了深层自生自储式油藏类型的勘探突破. 相似文献
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高等学校固定资产计提折旧问题探讨 总被引:1,自引:0,他引:1
姚利红 《兰州工业高等专科学校学报》2009,16(4):75-78
中国现行会计制度规定,高等学校的固定资产不计提折旧。随着经济的发展和高等教育的改革,高等学校的经济成分越来越复杂,固定资产管理和核算中暴露出来的问题越来越突出。针对现行高校固定资产计价模式存在的问题,提出了对高校固定资产计提折旧的设想,研究了高校固定资产折旧的范围、折旧年限、折旧方法及会计处理办法。 相似文献
16.
主要借助螺线特性,对一类含间隙分布时滞的种群增长模型特征方程λ+c=d(1+λT) 相似文献
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王德强 《安徽工业大学学报》2004,21(3):202-204
采用不同浓度的纤维索酶和果胶酶混合液对红豆杉种子的胚进行了处理,采用3% 0.5%(m/v)的纤维索酶 果胶酶混合液效果好.得到了红豆杉胚原生质体;同时采用了B5、V-KM、MS3种培养基对所得到的原生质体进行了初步培养;实验结果表明.采用V-KM附加椰子汁(含天然植物激素)培养基培养胚性原生质体效果较好,并研究了植物激素的浓度和光照强度等对愈伤组织的诱导的影响,表明采用IAA和NAA对愈伤组织生长效果较好,光照强度在1000lx生长效果较好. 相似文献
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郑豪民 《平顶山工学院学报》2005,14(6):44-45
会计制度规定企业定期或者至少于每年年度终了,对各项资产进行全面检查,合理地预计各项资产可能发生的损失,并计提资产减值准备,既不高估资产或收益,也不少计负债或费用,从而避免虚增企业利润。但在实务中,一些企业却利用会计法规准则中的原则性,通过资产减值准备达到操纵会计利润的目的,本文即是从企业滥用资产减值入手,以实例来揭示企业计提秘密准备的意图,以引起业内人士的重视。 相似文献
19.
扬声器的自滤波特性与D类功放失真的改善 总被引:1,自引:0,他引:1
应用动圈式扬声器的电—力—声类比等效线路对动圈式扬声器的频率特性进行了初步的研究,提出了利用扬声器的自滤波性能改善因D类功放移相网络引起信号相位失真的方法。同时,采用比较、反馈的方法对音频信号的谐波加以抑制,使得数字功放的总体失真指数下降。 相似文献
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红土颗粒粒度的分维变化特征 总被引:6,自引:0,他引:6
借助分形几何理论,探讨红土在不同处理方法下其颗粒粒度的分维变化特征结果表明:红土的颗粒粒度具有线性分形结构的特点是客观存在的事实,其分维值的大小反映了土中颗粒粒度的分布情况,并与土的物理力学性之间存在一定的关系分维是描述土的颗粒粒度的一个新的特征参数 相似文献