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OSP的制作受到很多因素的影响,例如药水浓度、温度、PH值等。当OSP膜的厚度到不到要求或膜面织密性、均匀度不足时,其在表面贴装焊接耐高温能力将变差,导致上锡不良。下文主要讨论的是PCB表面处理OSP的工艺控制的一些方法,意在探寻最为经济、简单而又行之有效的工艺。 相似文献
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随着表面贴装技术(SMT)和BGA/CSP等超大规模集成电路的广范应用,对细导线、细间距的印制板的平整度及翘曲度要求越来越严格,传统的热风整平工艺表现出越来越多的缺点,而另外一种工艺:OSP有机助焊保护膜则来越受到业界的青睐,并且表现出其优越性。就其两种工艺对比如下: 相似文献
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用分子束外延技术在BaF2衬底(111)晶面上生长了PbSe单晶薄膜,研究了不同Se/PbSe束流比(Rf)对薄膜表面形貌的影响. 在无Se束流(Rf=0)下制备的PbSe薄膜表面呈现三维岛状结构. 当Rf较小(例如0.2) 时,样品表面呈现三角形孔状结构特征,孔的尺寸随Rf的增大而减小. 当Rf较大(0.6)时,样品表面的三角形孔消失,出现单原子层厚度的螺旋结构. 螺旋由台阶环构成,平面尺寸为1~3μm,表面台阶平均宽度为150nm,台阶间高度差为一个单原子层(1ML=0.354nm) . PbSe薄膜表面微结构的演化是由于Se束流改变了薄膜中的应变弛豫方式,从而改变了薄膜的生长模式引起的. 最后,我们在以螺旋结构为特征的PbSe缓冲层表面自组织生长了PbTe量子点,观察到两种高度分布的量子点. 相似文献
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OSP(Organic Solderability Preservative有机可焊性保护剂)工艺是以化学的方法,在裸铜表面形成一层薄膜。这层膜具有防氧化,耐热冲击,耐湿性,因而,在PCB制造业中,OSP工艺在现今即未来发展工艺中都将占据一定地位。 相似文献
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碳钢表面弧光离子渗铝层组织的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
本文采用加弧辉光离子渗金属技术在碳钢(10、60、T12)表面进行了弧光离子渗铝,利用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、X-射线衍射仪以及X-射线微束衍射仪,对弧光离子渗铝层的组织进行了测定。 相似文献
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众所周知,在电子产品组装中,元(组)件与印制板的连接方法以焊料焊接为主。自2006年7月1日以来,电子产品实施“无铅化”的指令——RoHS和WEEE,更是给世界电子产品制造业带来重大转变,即为了满足电子产品“无铅化”要求,PCB的表面处理方式必须进行重新开发、选用和评价。 相似文献
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为了满足电子工业对于无铅化的迫切要求,印制线路板(PWB)的最后表面处理工艺正逐渐由热风整平(SnPb)转移到其他适合无铅焊接的表面处理工艺,这类工艺包括有机保护膜(OSP)、沉银、沉锡以及化学沉镍金。其中因为OSP膜的可焊性优异、工艺简单且操作成本低而成为无铅化表面处理工艺的最佳选择之一。最新研发的耐高温有机保护膜(HTOSP)是符合工业标准的新一代OSPI艺,它能够满足无铅化对可焊性更严格的要求。
本文将介绍HTOSP的化学特性,包括膜层成分分析,主要唑类衍生物和OSP膜的热分析,以及OSP膜的表面分析。气相色谱一质谱分析法(GC/MS)可以测定交链反应中夹带在OSP膜中的小分子有机化合物。热重量分析法/差动扫描测热法(TGA/DSC)用于测试唑类衍生物和OSP膜的热稳定性。光电子能谱分析法(XPS)用于分析HTOSP膜经过多次无铅回流后的表面的氧化情况。
本文也将从实际的生产经验出发,介绍OSP膜厚控制的稳定性。HTOSPI艺提供了稳定而灵活的膜厚控制方法。厚度分析显示OSP膜在膜形成的过程中具有微整平效果,而且所形成的膜厚度能够完全保护在工业生产中经过不同微蚀处理的各种板材的铜面不被氧化。HTOSP膜的耐高温性及稳定的膜厚控制确保TPWB在无铅焊接时具有优异的可靠性。 相似文献
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《印制电路资讯》2008,(6):52-52
2008年9月19日由正业科技和牛津仪器联合举办的“线路板表面OSP膜无损检测暨RoHS检测高峰论坛”在东莞市高步镇中汇文华大酒店成功举办。会上推出了由牛津仪器最新研发的产品X-Strata980,该仪器运用X荧光原理实现痕量元素分析及镀层厚度测量,其成功推出标志着牛津仪器已经成为全球唯一的能提供包括便携式、台式(微聚焦、块状分析)XRF(荧光镀层厚度)分析仪器的供应商,能够为客户提供针对RoHS筛选的完整解决方案。而“OSPrey800测厚仪”是迄今为止世界上第一台科学测量OSP膜厚的仪器,它能够适时无损害检测并运用光学原理精确测量OSP膜厚度。 相似文献
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一、前言
在有机质封装载板与HDI电路板领域中,过去数年中UV雷射的用途已呈现显著的增加,其主要的推手应归功于小号(4mil之下)微盲孔(Microvias)用途的扩增。此外也还有其他用途的出现,例如:精密切外形与精准烧蚀绿漆成像之工程,也都带动了UV雷射的盛行。本文将举例某些系统机组之工作, 相似文献
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观微 《激光与光电子学进展》1988,25(3):32
评价光学表面的一个重要参数是表面粗糙度,即使很少量的粗糙也能引起光散射,使光学系统性能变坏。例如,为把表面微观不规则性降到最低,通常在拋光以后还需测量表面粗糙度。对于粗糙度评价已发展了多种技术,其中有些是直接测量表面轮廓的,另一些(如光散射)则是间接测量。 相似文献
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铸渗表面合金化层的TEM分析魏世忠吴逸贵李炎祝要民陈振华(洛阳工学院材料系,洛阳471039)铸渗表面合金化可使表面具有耐磨、耐热、耐蚀等特殊性,适用于冶金、矿山、化工等工业部门。近年来,对其工艺的研究很多,本文介绍用透射电镜对铸渗合金化表面组织分析... 相似文献
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不锈钢表面热喷涂陶瓷层经激光处理的显微结构研究吴秋红,贺连龙,李斗星,陶曾义,崔嵬,叶恒强(中国科学院金属研究所固体原子像实验室,沈阳110015)(华中理工大学机械二系)材料表面陶瓷涂层被广泛地用于提高耐磨和开成热阻挡层。等离子喷涂和热喷涂是获得材... 相似文献
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碳化硅表面氧化层非晶化的TEM原位观察梅志顾明元吴人洁(上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海200030)碳化硅颗粒表面氧化处理是一种促进基体与增强体界面结合、保护增强体免遭铝液浸蚀的方法。但有关碳化硅表面的SiO2氧化膜的存在形式,尚存在... 相似文献