电流密度高的超导线圈

日立电缆公司和日立公司合作,应用铌-钛三锡多芯细线绕制成的超导线圈,在4.3K温度下产生的磁感应强度高达17.2T. 此磁场线圈的内直径为42mm,外直径为114mm,高为150mm.线圈缠在不锈钢框架上,能承受铌-钛三锡放出的热量.将线圈放在15.1T偏转磁场线圈里,在4.2K温度下,通过155A电流产生的最大     

能产生十万高斯磁场的超导电体线圈

最近国外试验成功用超导电体线圈获得了磁感应强度高达十多万高斯的强磁场。此种超导电体螺管线圈用直径为1/40时的特种铌锡导线绕成,整个绕线长600呎。线圈在工作时被浸于温度为-465℉的氦液体中。线圈通过电流为266安培,导线系绕在直线为1/3时的管子上,整个线圈长约2吋,直径约2吋。     

无铅Sn-Cu电镀层锡须的形成与长大

通过扫描电镜观察,研究不同处理工艺中电子元件引线框架表面Sn-Cu电镀层上锡须的形成与长大,结果显示,高温高湿处理易于促使锡须的形成与长大,经过一定的时间后,锡须生长速度减缓;循环热处理或室温处理对锡须的形成影响较小;当施加恒定外应力后进行室温处理,锡须的形成完全受到抑制.锡须的形成与长大是由于电镀层中存在压应力,压应力促使镀层中锡发生再结晶并长大成锡须.     

非晶含锡有机膜的热处理行为

射频辉光放电等离子体聚合四丁基锡制备了非晶含锡有机膜，研究了该膜在大气中的热处理行为。表明在不同热处理温度下，发生了锡的氧化、有机物脱除、晶化和相变等过程。     

ITO透明导电薄膜的制备及光电特性研究

以氯化铟和氯化锡为前驱物,采用溶胶 凝胶法在玻璃基片上制备了ITO薄膜。研究了掺锡浓度、热处理温度和热处理时间等工艺条件对ITO薄膜光电特性的影响。制备的ITO薄膜的方阻为300Ω/□,可见光平均透过率为80%,电阻率为4×10-3Ω·cm,其光电特性已达到了TN LCD透明电极的要求。     

用锡磷青铜制造弹性零件的热处理工艺技术

用锡磷青铜ＱＳｎ６．５－０．１Ｙ制造弹性原件，如接触簧片等，为改善其弹性性能，采用的主要方法是冷塑性变形加低浊退火。本文为寻求合理的低温退火工艺规范，满足弹性元件的性能要求，首先制定出热处理退火后的机械性能指标，然后在此基础上，采用正交设计法，优选出最佳的热处理工艺参数，用以指导生产实践。     

X射线衍射分析热处理温度对透明导电膜结构与导电性能的影响

采用溶胶一凝胶法以铟、锡氯化物为前驱物制备不同热处理温度下的ITO膜，对制备的ITO膜样品进行X射线衍射分析。研究表明热处理温度对ITO膜的衍射峰相对强度、晶粒尺寸和晶格常数有较大的影响，随着热处理温度的增加，ITO膜随机取向增加，晶粒增大，晶格常数在400℃时畸变最小。热处理温度为450℃时ITO膜的择优取向较弱，晶粒较大，晶格畸变较小，ITO膜的方阻最小。     

编读通信

<正>下期要目SnAgCu无铅焊膏用溶剂的优化研究一种醇基低固含量免清洗助焊剂的研制微电子芯片热电冷却系统的传热特性LTCC多层微电路材料与金属化匹配研究稀土元素Pr替位改性的超高温铌酸铋钙CaBi2Nb2O9压电陶瓷热处理工艺对钙硼硅玻璃性能影响     

热处理时间对铁磁性微晶玻璃磁性能的影响

以Fe2O3-CaO-SiO2-B2O3-P2O5系统为基础,采用基础玻璃析晶法制备铁磁性微晶玻璃热种子材料。通过XRD,确定了热处理样品中的主晶相为磁铁矿、硅灰石和赤铁矿;采用振动样品磁强计(VSM),测试样品室温下的磁性能;通过SEM,观察样品中晶体的形貌。研究了热处理时间对其磁性能的影响。结果表明:合理的热处理时间为2h,制得的铁磁性微晶玻璃的比饱和磁矩为26.2A·m2·kg–1。     

微处理机应用于热处理技术管理与服务的探讨

探讨微处理机应用于热处理技术管理与技术服务的手段并提供一个实例—BJC热处理技术信息系统。该系统综合应用数据库技术、数学模型与最优化设计及计算机仿真技术等,具有热处理工艺管理及工艺辅助设计等多种功能,是一个直接为企业现场服务的实用系统。     

激光热处理光束优化系统

激光束的光强分布以及光斑形状对激光热处理硬化层性能影响极大,一般要求光强均布的矩形光斑或宽带光斑;但是光强均布的激光束不一定产生均匀的硬化层,目前的激光热处理光束优化装置得到的是中间厚,两边薄的月牙形分布硬化层.为了改善激光热处理硬化层分布的均匀性,在分析国内外激光热处理光束优化系统研究现状及存在问题的基础上,提出了光束优化系统的两种方案,激光扫描环形光斑和线形光斑.建立了两种光斑温度场的数学模型,模拟了温度场分布.从理论上说明了两种方案能够改善激光热处理硬化层分布均匀性.     

激光热处理在汽车行业的应用与推广实践

本文阐述了本公司近几年来汽车行业开展激光热处理的研究与实践。文章着重介绍了汽车行业对激光热处理需求现状，并介绍了本公司开展激光热处理技术实践、技术实践和普及推广实践。报道了本公司在激光热处理涂料、光路系统反各调试去、工件材质的影响、及机械正弦波淬火机等方面的研究和进展。     

金属材料强化原理基本途径及热处理新技术

综合论述金属材料强化原理，基本途径及热处理新技术，文章从宏观性能－微观组织结构－材料强化工艺三者的相互依存关系，叙述了各种材料强化的本质、原理与基本途径，对挖掘金属材料的潜力和开发新材料以及发展强化材料热处理新工艺，新技术作了系统论述。对微观强化机制；晶界强化、固溶强化、位错强化、沉积弥散强化、形米热处理强化等的原理和实现工艺的途径作了综合介绍。     

激光热处理的工艺模型与实验研究

本文根据激光与金属材料的相互作用,从建立一般热传导方程出发;导出了激光热处理过程的温度场方程;讨论了数值模拟激光热处理时的各个参数取值,并用此方程对热处理过程进行了数值模拟,得出与实验吻合较好的结果。     

细线径漆包线圈键合工艺优化及可靠性分析

以多芯片组件中常用到的细线径漆包线圈为研究对象,对影响其键合可靠性的各因素进行了研究.结果表明:线圈引脚搪锡后去除卤素元素、键合后涂覆或线圈直接键合法,可避免发生电化学反应腐蚀;合理的键合参数和漆包线圈引脚变形量的控制能减小引脚根部应力;适当的点胶加固措施,可避免线圈产生谐振而受损;调试时不应拨动漆包线圈,以避免本体松...     

自动化控制系统在热处理NCC系统的应用

本文介绍了莱钢宽厚板热处理常化控制冷却自动控制系统的设备、工艺、控制策略和功能,作为钢板热处理的后续工序,常化控制冷却系统实现了宽厚板材强度的提高和韧性的改善,使板材产品获得高附加值。     

氧化钒薄膜的制备及其在光激励下对太赫兹波的调制

采用磁控溅射法在蓝宝石基底上制备金属钒薄膜,然后在O2中快速热处理获得具有相变特性的VOx薄膜。实验对比了不同的热处理温度和热处理时间对薄膜性能的影响,薄膜的结晶状况用X射线衍射(XRD)进行分析;利用THz时域频谱系统,观测薄膜在不同激励光功率下的相变特性及其对THz波的调制作用。结果表明,在570℃条件下快速热处理60s所制得的VOx薄膜性能最佳,薄膜对THz波透过性最好,光激励后对THz波的调制作用最大,调制幅度达到83.9%,且引发相变的功率阈值低。     

热处理对NiP/CoNiP薄膜织构和磁性能的影响

用化学镀的方法制取了NiP/CoNiP薄膜并将样品进行真空热处理。用XRD、VSM、EDS等测试手段分析了热处理影响薄膜结构和磁性能变化的原因。结果发现,热处理使薄膜的结构发生了由α-Co向β-Co的同素异构转变;经热处理后晶粒尺寸长大到30 nm左右;经350℃热处理后薄膜的矫顽力升高到5.57×104 A/m;经400℃热处理后矩形比达到0.28。     

纳米尺度压电薄膜PZT的结构特征和性能

采用改进的溶胶-凝胶(Sol-Gel)方法在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备锆钛酸铅(PZT)纳米晶薄膜,研究了不同的热处理方式对PZT薄膜的晶粒结构、尺寸及电学性能的影响。X-射线衍射(XRD)分析表明:传统的热处理方式更有利于得到具有一定择优取向性的PZT薄膜。原子力显微镜(AFM)显示:快速热处理方式使PZT薄膜的晶粒具有自形晶结构,晶粒的排布更为有序,从而改善了薄膜的致密性。阻抗分析仪的测试结果表明:经快速热处理的薄膜,漏电流大约比传统热处理处理的薄膜的漏电流降低了20倍左右。     

陶瓷材料的微波处理（一）

尽管用微波能来处理各种陶瓷材料还处于开发的初期阶段,但它却带来了许多令人鼓舞的新希望.微波处理优于普通处理方法并日渐重要的原因有如下几个方面:(1)由于节约能源且处理时间较短,故制造成本大大降低;(2)产品一致性和成品率得以改善;(3)能大大改善微结构和性能;(4)能合成新的材料.微波热处理根本不同于普通热处理.微波热处理时,热产生于材料内部而不是来源于外部和加热源.如图1所示,由其内部和容积热的所得结果,发现微波热处理的材料中