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ITO/Al2O3复合透明导电膜的制备及光电性能 总被引:1,自引:0,他引:1
采用磁控溅射技术 ,在预先沉积有金属Al膜的玻璃衬底上制备了ITO薄膜。通过高温热处理 ,获得了透射率高、导电性能好的ITO/Al2 O3 复合透明导电膜。研究了不同Al薄膜厚度下ITO薄膜的晶体结构及其光、电性能 ,结果表明 ,当预沉积Al层厚度为 4 0nm左右时 ,ITO的结晶质量得到提高 ,取向性能变好 ,电阻降低 ,而且在 4 0 0 - 80 0nm范围内具有很高的可见光透过率。实验表明 ,通过改变预沉积Al膜的厚度 ,可以改变ITO薄膜最大透过率对应的波长 ,实现ITO预器件工作波长的匹配 相似文献
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采用直流反应磁控溅射法制备了ITO透明导电薄膜,针对氧流量、溅射气压、溅射电流3种工艺参数对ITO薄膜电阻率和可见光区透射率的影响进行了分析和研究。结果表明:从ITO薄膜作为太阳电池用减反射层和电极出发,得到了工艺参数的优化值,分别为氧流量0.2 ml/min(标准状态),溅射气压3 Pa和溅射电流0.2 A,ITO薄膜的电阻率为3.7×10-3Ω.cm,透过率(550 nm)高达93.3%。另外,利用该优化工艺条件下制备的ITO薄膜作为电极和减反射层,制备了结构为ITO/n+-nc-Si∶H/-i nc-Si:H/p-c-Si/Ag的太阳能电池,电池开路电压Voc达到534.7mV,短路电流Isc达到49.24mA(3 cm2),填充因子为0.4228。 相似文献
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以电化学方法合成的Al2O3多孔膜为基体,采用交流电沉积的方法在膜孔中沉积纳米TiO2,制备出纳米TiO2/Al2O3复合薄膜。对TiO2/Al2O3复合薄膜的形貌、结构和组成进行了表征;对TiO2/Al2O3复合薄膜光催化甲基橙溶液进行了研究。结果表明Al2O3/TiO2复合薄膜呈现出较好的光催化活性,电沉积TiO2的时间、热处理温度、选择不同光源照射均对TiO2/Al2O3复合薄膜光催化活性有一定的影响。 相似文献
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以正硅酸乙酯、异丙醇铝为先驱体,甲基三乙氧基硅烷为有机硅烷,采用溶胶-凝胶旋涂方法在普通玻璃和硅片表面镀制纳米复合薄膜.通过FT-IR、VIS透射光谱的分析及薄膜表面接触角的测量,研究了Al2 O3与SiO2配比和热处理温度对复合薄膜的化学结构、透光率及疏水性的影响.结果表明该薄膜具有疏水、致密、透明等性能;Al2 O3的加入未降低复合薄膜的可见光透光率,其中经400℃热处理后不同配比复合薄膜在可见光区的透光率均大于85%,且不影响复合薄膜的疏水性. 相似文献
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电子器件柔性化、超薄化对柔性ITO透明导电膜需求越来越为迫切,但是由于ITO薄膜本身性质局限和柔性衬底问题,使得ITO透明导电膜的光电性能极容易受到影响。以PET柔性基材制备ITO膜为例,从ITO透明导电膜膜系结构出发,研究就ITO透明导电膜的制备工艺,对提高ITO透明导电膜的光电性能进行简要的探讨。 相似文献
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磁控溅射制备ITO薄膜光电性能的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用直流磁控溅射方法在玻璃基底上制备了ITO薄膜.分别用分光光度计和四探针仪测试了所制备ITO薄膜在可见光区域内的透过率和电阻率,研究了溅射气压、氧氩流量比和溅射功率三个工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响.研究结果表明,制备ITO薄膜的最佳工艺参数为:溅射气压0.6 Pa,氧氩流量比1:40,溅射功率108 W.采用此工艺参数制备的ITO薄膜在可见光区平均透过率为81.18%,薄膜电阻率为8.9197×10-3Ω·cm. 相似文献
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在低基片温度下制备的ITO透明导电膜的性能 总被引:3,自引:0,他引:3
发展了使用直流辉光放电等离子体辅助反应蒸发法在低温玻璃基片上制备ITO膜的工艺,研究了主要的工艺参数,如Sn/In配比,氧分压,基片温度等对于膜的透光率和电阻的效应。 相似文献
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低电阻ITO透明导电膜的制备和应用 总被引:3,自引:0,他引:3
锡掺杂的铟锡氧化物透明导电膜(简称膜ITO)是一种面电阻率低,透光率高,导电性能好的膜层,近年来在国内外发展较快,其制备方法较多。本文就采用磁控溅射法制备ITO 膜的设备及成膜过程中的若干工艺问题进行了探讨。 相似文献
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利用聚苯乙烯(PS)微球模板技术和直流磁控溅射技术在ITO(In2O3∶Sn)薄膜表面进行Ag的微网格修饰,得到具有良好周期性的表面结构。研究了PS微球直径和直流磁控溅射Ag时间对ITO薄膜表面形貌、可见光区透过率、漫反射率和导电性能的影响。实验及分析证明,对ITO表面进行Ag微网格修饰,当微球直径为2μm,溅射时间为30s时,最大可提高薄膜的导电性能19.5%,其漫反射性能可提高200%,同时在可见光区透过率的降低控制在10%以下,这将有助于提高ITO薄膜作为太阳能电池透明电极的陷光性能。 相似文献
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以四氯化钛和六水三氯化铝为原料,采用电化学方法制备了TiO2/Al2O3复合粉体。以XRD对粉体进行表征发现,以电解TiCl4和AlCl3的混合溶液得到的粉体中,氧化铝主要分布在颗粒的表面。分别电解TiCl4与AlCl3的水溶液,待成胶后再混合而得到的粉体中,两种成分布比较均匀。对复合粉体进行高温处理,在500℃可以得到R—TiO2/γ-Al2O3的复合粉体,而在95O℃可以得到R—TiO2/Oα-Al2O3的复合粉体,在1200℃可以得到Al2TiO5复合陶瓷粉。 相似文献
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ITO膜的制备方法和TD—360型立式ITO透明导电膜生产线 总被引:2,自引:1,他引:2
本文介绍了用铟锡(IT)合金靶和氧化铟锡(ITO)烧结靶制备ITO膜的特点;采用ITO靶时溅射工艺参数对ITO膜性能的影响;以及我们自行设计制造的TD-360型立式ITO生产线的特点。试验运行表明:国产ITO导电玻璃生产线生产的产品完全能够达到国外同类产品水平。 相似文献
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采用溶胶-凝胶法在陶瓷基体上制备了纳米La2O3/TiO2复合薄膜。利用XRD研究了La2O3不同复合量对纳米TiO2晶型转化的影响,利用SEM研究了Al2O3底膜对La2O3/TiO2复合薄膜形貌的影响,利用亚甲基兰溶液紫外光降解实验研究了La2O3/TiO2复合薄膜的光催化性能.结果表明:复合0.5%(物质的量)La2O3的TiO2干凝胶经850℃煅烧后仍为锐钛矿(64%(质量分数))占主导的混晶结构,平均粒径在10nm左右;当Al2O3底膜和La2O3/TiO2复合薄膜的厚度分别为4层和3层时,经850℃煅烧后,复合薄膜致密且无微裂纹出现,而且具有佳的光催化性能. 相似文献
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应用中频反应磁控溅射设备制备了Al2O3:Ce3+的非晶薄膜。在溅射时靶电压随氧气分压比的增加而减小,而当氧分压比增大时靶电压沿另一条路径变化,即呈现迟滞回线现象。通过控制氧分压比改变Al2O3:Ce3+薄膜的发光性质。经光致发光检测,薄膜的光致发光谱是在374nm附近的非对称波峰,它来自于Ce3+离子的5d1激发态向基态4f1的两个劈裂能级的跃迁。Ce3+含量和薄膜的化学成分是通过X射线散射能谱(EDS)测量的。当氧分压比增加时薄膜的发光强度增加,在氧分压比为15%是发光强度最大,其后随氧分压比增大发光强度有减小趋势。薄膜的厚度随氧分压比的增加而呈减小的趋势。X射线衍射(XRD)检测表明所制备透明薄膜为非晶态。扫描电镜检测(SEM)显示,随着氧分压的增加非晶薄膜表面趋于致密平滑。发射纯蓝光的Al2O3:Ce3+非晶薄膜在平板显示等领域有着广泛的潜在应用前景。 相似文献
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在室温条件下通过直流磁控溅射法在普通玻璃基体上制备了光电性能优良的ITO薄膜。靶材为ITO陶瓷靶,其中In2O3与SnO2的质量比为9∶1。运用UV-2550紫外可见光光度计测量样品的透光率,采用SZT-2四探针测试仪测量样品表面的电阻率,用扫描电镜(SEM)对样品进行表征。研究了溅射压强、溅射功率等参数对薄膜光电性能的影响。研究表明,ITO薄膜的电阻率随着溅射功率的增大而减小,在溅射功率为110W时ITO薄膜的透光率有相对好的数值。溅射压强为1.0Pa时既能保持ITO薄膜低的电阻率又能保证高的透光率。 相似文献