合成狭缝彩虹全息术的研究

本文提出了一种合成狭缝彩虹全息术，合成狭缝的位置可以在三维方向随意移动。     

X射线全息术的未来

Ｘ射线全息术在生物样品、微电子和材料科学样品的高分辨率研究中是一项很有发展前途的技术，它能给出吸收和相衬，使用脉冲光源，与层析术结合还可进行三维成像。     

利用全息术计算叶片应力的方法

本文叙述了JY-1型激光演示仪的结构情况。演示仪由氦氖激光器、电源、光学部分等组成。     

合成多狭缝的彩虹消色像全息术

本文提出一种合成多狭缝彩虹消色像全息术,讨论了消色条件和由于记录时二次曝光产生的像点模糊,并给出物光波面转角的容限。     

基于迈克尔逊光路的周视消色散像全息术

本文报道了一种基于迈克尔逊光路的周视消色散像全息术。该方法在对物体的均匀全场照明和记录上有着独到的优点，而且原理，结构简单，实用性强，特别适用于制作模压全息图。     

用全息术感知光场的波前

本文中,我们介绍一种用全息术感知物体透射或反射波面的方法,由这一方法我们感知了由薄的平凸透镜和平凹透镜透射或由凹面反射产生的球面波。用测到的波前曲率半径我们计算了透射曲面和反射曲面的曲率半径,其结果与用其它常规的光学方法测得的一致。     

一种利用象散改进的白光重现全息术

K．Bazargan等在1980年提出利用控制第一个全息图重现象的象散量来使得第二个全息图的白光重现象成在全息图的后方的方法。     

彩虹全息术综合狭缝的理论分析

本文从像面光场移动的观点对一步无狭缝彩虹全息术中平移物体和透镜形成的综合狭缝进行了理论分析，并提出了一种新的综合狭缝二步彩虹全息方法。     

合成狭缝可移动的彩虹全息术的研究

本文提出一种合成狭缝可移动的彩虹全息术．若三维漫射体在（Ｘｏ，Ｙｏ）平面内平移照明物体的单色平面波处于（Ｘｏ，Ｚｏ）平面内则在透镜后你面上出现调制物光波复振幅分布的ｓｉｎｅ函数，其中心位置决定于物体平移的方向和照明物体的单色平面波在Ｘｏ方向的空间频率，从而实现合成狭缝可移动的彩虹全息术。     

二维编码片的一步彩虹全息术

本文提出了二维编码透明片的一步彩虹全息的记录方法，并给出了有关实验结果。     

漏模板印刷优化的新思维

近几年漏模板设计逐渐从经验主义向以试验设计为基础的现代科学研究方法转变实现印刷质量的提升。现代技术对漏模板设计的方方面面提出了很高的要求，要兼顾单板上细间距器件和大间距器件的要求。而且，为了控制印锡量，工程师必需选择最好的漏模板开口设计、漏模板厚度、开口锥度，要决定是否需要电抛光；选择不同的漏模板制造技术，不同的制作技术关系到不同的制造成本。业界对这些问题缺乏深入认识，促使我们进行试验深入研究各种漏模开口板设计的各种相关因素以及现代SMT工业中不同工艺流程的相关性。本次研究的研究对象包括各种不同的材料和工艺流程，同时设计了各种不同的漏模板开口和开口形状。我们进行了一系列的试验研究各种影响因素(输入变量)与响应变量(输出变量)的关系。结论建立在10，000，000个试验数据的基础上。结果有利于澄清业界广泛存在的关于漏模板设计以及漏模板设计与工艺流程关系的各种误解。研究结果建立了漏模板开口设计的全新思维及与印刷质量关系的基本架构。