微波等离子体化学气相沉积技术制备金刚石薄膜的研究

介绍了微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）制备金刚石薄膜的研究情况，重点论述了该法的制备工艺对金刚石薄膜质量的影响及其制备金刚石薄膜的应用前景。     

类金刚石薄膜的获得和应用

类金刚石薄膜是七十年代初期出现的新型非金属薄膜材料之一.这种与金刚石的特性相接近的薄膜具有优良的耐磨、耐蚀性以及许多优良的光学性能.在文章的第二部分介绍了离子束沉积和等离子沉积两种获得类金刚石薄膜的原理和方法,其中,离子束沉积法又分为低能碳离子束沉积法和双离子束及磁控溅射石墨沉积法两种:等离子体沉积法又分为辉光放电等离子体沉积法和大面积微波放电沉积法两种.介绍了薄膜的组分与结构和主要的沉积条件的关系.第三部分介绍了薄膜的物理性能、机械性能、光学性能.在介绍的同时继续以具体的文献说明主要的沉积条件对这些特性的影响.最后展望了类金刚石薄膜在8个方面的应用.文末附有参考文献19篇.     

液相电化学沉积法制备类金刚石薄膜的研究进展

阐述液相电化学沉积法制备类金刚石碳(DLC)薄膜的原理,介绍液相制备法的优势,从电解液、电压、掺杂元素以及反应机理4个方面介绍电化学法制备类金刚石薄膜的研究进展。总结DLC薄膜的性能以及在不同领域的应用,并对液相电沉积DLC薄膜的发展前景进行了展望。     

金刚石薄膜的发展、制备及应用

简要介绍了金刚石薄膜的发展,总结了金刚石薄膜的几种主要制备工艺并对各种工艺的优、缺点进行了分析。结合对金刚石应用的讨论,阐述了金刚石薄膜在工业领域中的应用前景和发展趋势。     

多功能热丝化学气相沉积金刚石涂层制备设备的研制

根据国内热丝化学气相沉积金刚石制备设备现状现状,结合HFCVD法制备金刚石薄膜原理,研制多功能热丝化学气相沉积金刚石涂层制备设备。     

大面积印刷纳米金刚石薄膜的场致发射的研究

研制了特定比例的纳米金刚石浆料,采用了丝网印刷工艺在石墨衬底上大面积印制了纳米金刚石场发射薄膜,实验探索了石墨衬底纳米金刚石薄膜的烧结工艺和后处理过程,利用扫描电镜(SEM)观察了纳米金刚石膜的表面形貌,经后处理的薄膜中纳米金刚石露出薄膜表面,纳米金刚石的棱角是天然的发射体.采用本课题组研制的多功能场发射测试台在10-6Pa的真空条件下进行了场发射特性的测试,结果发现石墨上低成本大面积印刷的纳米金刚石薄膜具有均匀稳定的场发射特性,作为电子器件的理想冷阴极发射,可在宇宙飞船、原子反应堆等恶劣条件下工作的平面显示器中得到应用.     

大气下火焰法合成金刚石薄膜

本文介绍了用氧-乙炔火焰法在大气下合成金刚石薄膜的实验结果,初步研究了基板温度对金刚石晶体生长速度、结晶习性的影响,指出了在金刚石(111)及(100)晶面上外延单晶金刚石膜的温度范围,还探讨了氧对薄膜的质量均匀性的影响。     

化学气相沉积法制备金刚石薄膜的工业应用

评述了金刚石薄膜的化学气相沉积方法,介绍了金刚石薄膜在工业中的应用前景,并分析了大规模应用所面临的技术困难。     

CVD金刚石薄膜抛光技术的研究进展

采用化学气相沉积 (CVD)方法在非金刚石衬底上沉积的金刚石薄膜 ,本质上为多晶 ,而且表面粗糙。然而 ,在金刚石薄膜的许多重要应用领域 ,如光学和电子学 ,都要求金刚石薄膜具有光滑表面 ,以便器件的制备或后续加工。本文论述了目前国际上出现的抛光CVD金刚石薄膜的主要方法 ,包括机械抛光法、热 化学抛光法、化学 机械抛光法、等离子体 /离子束抛光法以及激光抛光法等 ,深入分析了这些抛光方法的优点和不足 ,指出了今后需要重点解决的问题。最后 ,展望了CVD金刚石薄膜抛光技术的发展趋势     

金刚石薄膜的沉积技术及其应用

本文介绍了金刚石气相合成的历史,金刚石薄膜的沉积方法、沉积机理以及金刚石薄膜的性能,分析了金刚石薄膜沉积技术的发展方向及其应用前景。     

基片预处理对MWPCVD金刚石薄膜的影响

利用自行研制的石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜装置，研究了硅基片的不同预处理方式对沉积结果的影响。通过扫描电子显微镜形貌观察和喇曼谱分析表明，基片预处理能提高形核密度；用于预处理的金刚石研磨膏的粒度不同，影响金刚石薄膜沉积时的形核密度、晶形和薄膜的质量；表面划痕对沉积金刚石薄膜的影响具有双重性。     

金刚石薄膜场发射特性研究现状

金刚石薄膜具有负电子亲合能、高热导率和极强的化学惰性等优势，作为场发射材料引起了广泛关注。回顾了金刚石薄膜的分类，介绍了氢化金刚石薄膜具有的负电子亲合能特性，分析了金刚石薄膜场发射特性的影响因素，列举了场发射特性的优化方向，并总结了文献中报道的金刚石薄膜与其他材料复合获得的场发射阴极的性能，对于分析和改进金刚石薄膜器件场发射性能具有重要意义。     

金刚石薄膜的研究现状与发展前景

文章介绍了金刚石的性质和应用,总结了金刚石薄膜研究的历史,论述了金刚石薄膜的优良特性和技术发展,指出国内外学术界都在不断地开拓和发展金刚石薄膜的应用领域。     

化学气相沉积金刚石薄膜的摩擦学性能研究进展

介绍了化学气相沉积金刚石薄膜的主要方法 ,着重讨论了金刚石薄膜的摩擦学性能研究 ,简要分析了化学气相沉积金刚石薄膜中存在的问题。     

液相电沉积金刚石薄膜的研究进展

评述了液相沉积(类)金刚石薄膜的研究现状,介绍了液相合成(类)金刚石薄膜的装置、液态源及薄膜的性能,分析了如何更好地提高(类)金刚石薄膜质量,并在此基础上提出了一种可能制备出高质量金刚石薄膜的脉冲电弧放电沉积装置.     

纳米金刚石的制备及研究进展

纳米金刚石具有比普通金刚石更优越的性能,目前有诸多学者致力于纳米金刚石的研究。化学气相沉积法(CVD)制备纳米金刚石是近年来比较成熟的制备方法。通过简要描述纳米金刚石薄膜的生长机制,介绍了两种制备纳米金刚石薄膜的方法及其优势,讨论了两种方法在纳米金刚石的质量、尺寸及沉积速率等方面取得的最新研究进展,并对今后的主要研究方向进行了展望。     

金刚石薄膜材料的应用与合成技术

本文对金刚石薄膜的性能、应用，金刚石薄膜的合成方法以及薄膜样品的表征等作了较详细的介绍。并根据金刚石薄膜研究的现状提出应进一步探讨的几个问题。     

用于光学器件的类金刚石保护膜、減反射膜的性能评述

像金刚石一样坚硬的碳的同素异构体减反射膜是把一种碳氢化合物在电场中电离加速后沉积到基片上形成的.沉积是在一定的真空条件下进行的.这种类金刚石光学膜具有绝缘性能好、硬度极高、对酸类和有机熔剂具有化学惰性,具有1～2电子伏的光学带隙,折射率约为2.因此,人们对用这种光学膜作为保护涂层和减反射涂层产生了极大的兴趣.在第二部分介绍了为形成这种类金刚石薄膜而采用的真空镀膜技术.重点介绍了当今在类金刚石薄膜的制备中两种最成功的真空镀膜力法:射频镀膜法、双束法.在第三部分中.分析了薄膜的沉积条件和结构.然后分析和讨论了薄膜的特性.     

等离子体化学气相法沉积金刚石薄膜

本文介绍和评述了化学气相沉积法制备人造金刚石薄膜及其进展。重点评述了反应机理、发展历史、沉积方法、补底材料、检测手段。论述了有利于形成立方晶系金刚石材料的沉积条件。     

金刚石薄膜的性质、制备及应用

金刚石有着优异的物理化学性质，化学气相沉积金刚石薄膜的研究受到研究人员和工业界的广泛关注。通过评述金刚石薄膜的性质、制备方法及应用等方面的研究成果，着重阐述化学气相沉积金刚石薄膜技术的基本原理，分析了各种沉积技术的优、缺点。结合对金刚石薄膜应用的讨论，分析了金刚石薄膜在工业应用中存在的问题和制备技术的发展方向。分析结果表明：MWCVD法是高速率、高质量、大面积沉积金刚石薄膜的首选方法；而提高金刚石的生长速度、降低生产成本等是进一步开发刚石薄膜工业化应用所需解决的主要问题。