聚乙二醇添加量对薄膜形貌和光致变色性能的影响

本文在制备Ag/TiO2纳米薄膜的过程中,通过添加聚乙二醇(PEG-2000)来调节薄膜的微观结构,进而研究了PEG-2000的添加量对薄膜形貌和光致变色性能的影响,发现添加0.25g PEG-2000可以制得具有均匀、合宜尺寸的多孔TiO2薄膜,能为Ag纳米粒子的沉积提供模板,从而得到能在较窄的波段内发生明显光响应的光致变色薄膜。     

TiO_2薄膜的XRD和XPS研究

运用 XRD和 XPS分析了反应电子束蒸发制备 Ti O2 薄膜热处理前后的晶体结构和各元素的化学状态。XRD结果表明 ,基片温度小于 30 0℃时 ,沉积态薄膜为非晶态 ;热处理后薄膜部分发展为具有 (0 0 4 )晶面择优趋向的锐态矿结构。 XPS分析表明 ,在工艺参数为真空度 2× 10 - 2 Pa,沉积速率 0 .2 nm/s,基片温度分别为 12 0℃ ,2 0 0℃和 30 0℃的条件下 ,热处理前薄膜中含有低价氧化钛 (Ti3+ ) ,其质量分数随基片温度的升高而降低 ,薄膜中O/Ti在 2 .1左右 ,热处理后低价氧化钛全部转变为具有良好化学计量的 Ti O2 ,薄膜中 O/Ti在 2 .2左右。热处理前后薄膜中均吸附有水分子。     

纳米TiO_2/SiO_2光催化自清洁复合薄膜在建材中的应用

阐述了纳米 Ti O2 光催化和自清洁的机理 ,并结合机理进一步介绍了纳米 Ti O2 / Si O2 光催化自清洁复合薄膜在建材中的应用 ,对于影响其性能的一些因素也进行了探讨。实验证明 ,一定量的 Si O2 掺杂可以提高 Ti O2 薄膜的光催化和超亲水性能。将其与玻璃和陶瓷等基体结合 ,具有优异的环境净化和自清洁能力 ,在建材工业中有着广泛而巨大的应用前景     

SiO_2/TiO_2复合膜光催化降解胶片废水的研究

以煤矸石烧结滤料为载体,以SiO2/TiO2复合膜为催化剂,在自制的紫外光光催化反应器中,以去除胶片废水的色度为研究目标,考察了废水色度、pH、曝气/光照对SiO2/TiO2复合膜光催化活性的影响.结果表明,当废水的初始吸光度为0.554、光催化降解的时间为2 h时.SiO2/TiO2复合膜光催化降解胶片废水的脱色率可达到99.4%;脱色率与光照时间呈线性相关(R2=0.994 2),且可用Langmuir-Hinshelwood一级动力学模型进行拟合,表观速率常数为0.027 5min-1;SiO2/TiO2复合膜光催化降解胶片废水的处理费用约为1.2元/m3,较接触氧化工艺的处理成本低,有一定的工程应用价值.     

掺镧对玻璃表面TiO2薄膜光催化性能的影响

采用溶胶－凝胶法制备了玻璃表面上掺杂镧的ＴｉＯ２薄膜,利用高压液有色谱仪、可见紫外分光光度计和扫描电镜研究了不同镧掺杂量及不同热处理温度对玻璃表面ＴｉＯ２薄膜光催化降解油酸的影响,得出了具有较高油酸解放率时的最佳镧的掺杂量和合适的热处理温度制度。     

喷雾热解法制备TiO_2薄膜及其性能分析

试验采用熔胶-凝胶技术,通过喷雾热分解法制备了纳米TiO2薄膜,分析了不同热解温度对薄膜的微观结构特性和光学性能的影响,并通过试验对TiO2薄膜的光催化性能进行了分析,研究了TiO2薄膜的自清洁性能和光催化降解性能。试验表明：热解温度在500℃、喷雾量控制在1．5-2ml／s、喷雾距离控制在35～45cm时,所形成的TiO2薄膜质量最佳,并具有很好的光催化性,该薄膜可见光透过率达89％,TiO2膜层经紫外光照射2h膜层对水的接触角降到3°。TiO2膜层对油酸的光催化降解率为87％。     

TiO_2/CdS复合纳米材料的制备及其光催化性能

用化学浴沉积法制备出了TiO_2/CdS复合纳米材料,并以有机染料次甲基蓝模拟染料废水,评价其光催化活性。结果表明:TiO_2/CdS复合纳米材料的光催化降解能力明显优于TiO_2(P25)。当TiO_2与CdSe的制备摩尔比为3∶2时,经400℃高温煅烧后,其光降解效果最佳,可见光辐射100 min降解率可达到94.4%。     

椭偏法研究ZrO_2薄膜的宽光谱特性

为了获得ZrO2薄膜的光学常数,采用了德国SENTECH生产的SE850宽光谱反射式光谱型椭偏仪,测量和分析了用光控自动真空镀膜机沉积在K9玻璃基底上的两个单层ZrO2薄膜样品,得到了ZrO2薄膜在380nm"2300nm宽光谱上的光学常数曲线和薄膜厚度.结果表明:样品1采用Cauchy模型和Tauc-Lorentz模型得到的厚度和光学常数结果一致;对样品2把单层ZrO2薄膜分成三层得到的均方差(MSE)比没有分层的均方差少0.381,分层得到的ZrO2薄膜的厚度的测量值与TFCalc软件的计算值非常接近,同时得到薄膜的折射率曲线.测量结果对ZrO2薄膜的薄膜设计和多层膜的制备有一定参考价值.     

TiO2薄膜制备的研究

以漂珠为载体,采用液相沉积法制备了TiO2膜,对成膜过程中的一些影响因素进行了研究,结果表明:氟钛酸浓度超过0.2 mol/L时,镀出的膜厚度较大;硼酸的含量只对成膜速度有影响,而不会影响膜的厚度;沉积时间越长所镀的膜也就越厚;当温度在20℃~30℃范围内时,成膜效果最好。     

退火处理对P型ZnO薄膜光电性能影响的研究

ZnO薄膜为重要的第三代半导体材料,因其优异的光电性能在微电子行业及光电方面诸多领域备受关注,ZnO薄膜的P型掺杂是实现ZnO基光电器件的关键.本文利用射频磁控溅射法通过N-A1共掺技术,在普通玻璃衬底上成功生长出P型ZnO透明导电薄膜.探讨了不同退火气氛和不同退火温度对薄膜样品光电性能的影响,研究结果表明：当氮氧比为9∶1、溅射功率为140W、在400℃真空条件下退火时成功制备出性能优越的P型ZnO薄膜,其电阻率为152Ω.cm,薄膜可见光透射率达到90％以上.