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工件在电镀前抛光是一道费工费时的工序,我们利用电解、液体磨料冲刷复合抛光工艺,可及时去除电解过程中在工件表面产生的钝化膜,提高电解抛光质量和速度,降低劳动强度,此工艺特别适用于批量较大、表面形状较复杂的零件的抛光。 相似文献
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金相试样电解机械复合抛光工艺 总被引:1,自引:0,他引:1
简要介绍了在自行改装的P-2型金相试样抛光机上,对五种不同类型的金相试样通过正交试验法进行的电解机械复合抛光工艺试验的过程及结果,试验表明,该工艺具有对材料的适应性广,试样抛光效率高及质量好的优点。 相似文献
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如今模具的重要性日益凸显,模具质量和制造水平都亟待提高。高速加工技术是先进制造技术的共性基础技术,其插补功能强大、配套完善、控制可靠、可自动换刀,尤其适用于自由曲面的加工。本文从模具材料,模具复杂型面加工,模具制造周期及抛光,高速加工在我国的应用以及国内外的研究进展等方面结合高速加工的特点综合考虑,探讨了高速切削实现注塑模具切削及抛光同机复合工艺的优势和可能性。 相似文献
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阐述了不锈钢表面复合抛光原理,研究分析确立了先进行前期机械抛光处理不锈钢表面至Ra 0.2μm然后进行复合抛光,最后进行电化学光亮化处理的大面积抛光工艺路线,重点研究了前期机械抛光处理和复合抛光工艺参数,介绍了复合抛光技术特性指标和工业应用效果。 相似文献
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利用磨削抛光装置对铝合金试件进行正交试验,得出磨削抛光铝合金的较优工艺参数是:喷射角30°、喷嘴直径1.2mm、工作压力7.5kgf/cm2.铝合金试件在该条件下进行磨削抛光时,表面质量最好.该工艺参数对磨削抛光铝合金类试件具有一定的实用价值. 相似文献
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对目前抛光单晶蓝宝石基片的工艺方法,如游离磨料磨削、金刚石砂轮磨削、在线电解修整磨削(ELID)、化学机械抛光(CMP)、固结软磨料抛光、磁流变抛光(MRF)、超声振动辅助磨削的加工原理、方法和特点进行综述。分析了各方法的优势和不足以及最新研究成果存在的关键问题。其中游离磨料磨削、在线电解修整磨削、金刚石砂轮磨削的材料去除速率较高,化学机械抛光是抛光大面积基片的唯一方法,磁流变抛光后的基片表面不存在亚表面损伤。根据单晶蓝宝石基片的应用需求和目前抛光方法的不足,对后续研究的方向进行了预测。 相似文献
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超声波磁流变复合抛光中几种工艺参数对材料去除率的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
提出了一种光学抛光的新方法——超声波磁流变复合抛光。介绍了该抛光方法的基本原理和实验装置,进行了超声波磁流变复合抛光实验,采用轮廓仪实测了光学玻璃超声波磁流变抛光材料去除轮廓曲线。通过该项工艺实验,研究了五种工艺参数(磁场强度、超声振幅、抛光工具头与工件的间隙、抛光工具头转速、工件转速)对光学玻璃材料去除率的影响。在一定实验条件下,获得的材料去除率为0.139 μm/min,并获得了超声波磁流变复合抛光工艺参数与材料去除率的关系曲线,得出了光学玻璃超声波磁流变复合抛光的材料去除规律。 相似文献
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论述了金属小齿轮电化学、液体冲刷复合加工艺的原理和方法,并通过实验对电流密度、电解液、液体冲刷速度等参数对加工效率和表面质量的影响进行了分析。 相似文献
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磁性复合流体(Magnetic Compound Fluid,MCF)具有优异的抛光性能,然而MCF抛光液中的水分在抛光过程中流失,抛光性能随之降低,这将增加抛光成本并严重影响MCF抛光的工程应用。针对磁性复合流体抛光液在抛光过程中水分流失的问题,探究了抛光过程中MCF水分含量对MCF形貌特征、抛光区域温度、正压力与抛光质量的关系,构建MCF中水分对抛光质量的影响机理。首先,分析了抛光过程中不同水分占比抛光液对抛光性能的影响规律,采用工业相机观察MCF抛光液抛光前后的形貌特征。然后,通过总结抛光过程温升-磁流体状态-抛光作用力-抛光质量的内在联系,构建不同水分含量MCF的抛光机理。最后,通过向MCF抛光液中定量补充水分,有效地缓解了MCF抛光液抛光效果降低的问题。实验结果表明:(1)当MCF抛光液水分占比为45%时初始抛光效果较好,抛光10 min内工件的表面粗糙度由0.410μm下降到0.007μm;而使用已持续抛光50 min的MCF加工10 min后工件的表面粗糙度由0.576μm下降到0.173μm。MCF随着抛光时间的增加MCF抛光性能大幅下降;(2)随着抛光液中含水量的降低... 相似文献
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