低真空大排气量真空设备的研制

介绍了低真空大排气量真空设备的研制过程、主要装置的特征和工作原理。对各种调试方法进行了说明并给出了结果。这些结果数据直观、结论明确、实用。对设备研制过程中遇到的技术难点作了分析。它的经验将对今后类似工程有着宝贵的参考价值。     

椭圆封头的重心及剖切迹线形状的计算

本文导出了椭圆封头重心的计算公式，还讨论了封头上的支臂与封头接触部分的曲线形状及其计算方法．     

极高真空溅射离子泵的研制

研制出了获得极高真空的溅射离子泵，该溅射离子泵４小时烘共烤后温度降至１００℃，装磁钢，妄动离子泵进行敢，３４小时后压力达５．８×１０＾－１０Ｐａ。从抽速实验结果来看，该泵在１０＾１０Ｐａ时仍有１００Ｌ／ｓ的抽速。说明此泵在较 压力下仍有较强的潘宁放电。     

多靶连续卷绕镀膜机溅射室布气均匀性研究

大面积柔性基底上连续磁控卷绕溅射镀膜技术高速发展.本文主要描述了该类设备在镀膜均匀性方面的不足和关键因素,并着重通过理论计算分析了抽气结构对溅射室压力均匀性的影响,最后提出了优化的充气与抽气管道设计.通过试验证明所设计的可调整的抽气结构能够很好满足镀膜均匀性要求.     

聚变堆第一壁材料溅射装置真空系统设计研究

直线等离子体装置(Linear Plasma Device,LPD)是研究托卡马克上边界等离子体与材料相互作用的重要平台.本文针对新建LPD的真空系统设计研制开展了相关研究.该真空系统设计为两级隔断式结构,等离子体放电和材料预处理可以在各自真空腔室同步进行、互不干扰.通过真空测试实验,真空控制系统运行稳定,短时间烘烤后...     

多室连续式真空炉的研制与应用

介绍了多室连续式真空炉的性能、结构、特点以及在真空钎焊、粉末冶金材料真空烧结、金属材料真空热处理、电子器件与不锈钢保温容器的真空排气与封接等领域的应用及现状。     

提高溅射离子泵抽速的研究

按抽气过程推出了溅射离子泵的抽速公式。实验研究了阳极结构、阴极材料对提高抽速的作用。通过离子泵抽氩清洗后抽速提高现象的分析研究.证实了阴极材料表层成分对离子泵抽速有几倍的影响;钛阴极的泵在抽氮气达到稳定值后,阴极表层即盖满 TiN,而泵的正常抽速是离子溅射 TiN 生成的钛原子在阳极表面抽气提供的。研究表明,理想的离子泵阴极材料不仅应当溅射率高,溅射膜有高的吸气性能,而且应对入射的被抽气体原子有足够高的扩散能力。     

HL-2M装置真空室预抽气系统的研制

通过搭建HL-2M真空室整体预抽气系统,对真空室的设计、加工和安装工艺是否达到超高真空技术要求进行了试验检测.采用三套分子泵机组和一套低温泵机组作为主抽系统,对HL-2M真空室进行了预抽,72小时后真空室真空度达到3.7×10-5Pa,超过了预期的预抽真空度.在本底真空度为3.7×10-5Pa的条件下采用静态定容法测试...     

高效率平面磁控溅射器的研制

介绍一种新型磁控溅射装置。它采用两块极性相对的环状磁铁的设计方法，通过扩大靶表面的等离子放电区域面积，使传统磁控溅射枪使用中经常受到的两个限制－溅射速率与靶的利用率得到了较大的改善。实验中铜靶在溅射功率密度为１１Ｗ／ｃｍ＾３时溅射速率约为８００ｎｍ／ｍｉｎ，如何继续提高功率则可获得更高的速率。而靶的利用率可达６４％左右。另外，在认为出射粒子符合ｃｏｓθ分布的前提下，发现当α＝３．３时，实验数据和理     

我国真空获得产品的现状和未来

本文介绍了我国真空获得产品的现状，分析了国外真空获得产品的发展水平及目前我国真空获得产品存在的问题，并指出了今后发展方向     

玻璃破碎新鲜表面吸气特性及其诱导下快速抽气新方法研究

高真空获得及维持技术对微纳材料制备、微电子设备制造、真空电子器件工艺优化等领域的科学研究及工业应用至关重要。文章面向高真空获得及维持过程中吸气材料吸气机理解析及寻优材料替代之关键科学问题,致力于克服传统高真空技术维持高真空状态能耗高、传统高真空获得方法依赖于昂贵设备和复杂操作等缺陷,提出了一种基于玻璃破碎新鲜表面诱发高真空获得及压力下限突破的新方法;文章首先开展了吸气成分及分压力测试实验及最大有效抽速实验研究。实验结果表明新鲜玻璃破碎表面具备吸气效应;解析玻璃新鲜表面吸附的主要气体成分及分压力变化,剖析出主要吸附气体组分为氢气和氮气;定量评估了新方法的抽气能力,利用蒙特卡洛方法仿真分析了泵出口管道的传输概率,获得新方法的最大有效抽速。相比现有真空获得和维持技术,文章所提出的新方法具有易激活、材料性价比高、抽速可观等优势,有助于为狭小空间高真空获得及维持提供新型技术途径及应用有效性参考。

     

一种水环泵抽气时间自适应分段计算方法研究

含有水环泵的真空系统是一种典型的变抽速抽气系统。针对变抽速抽气时间计算问题,目前常用的方法是分段计算法。为了提高计算精度,相关研究主要集中在优化抽气速率模型以及提高抽气速率数值计算精度上,对分段方法研究较少。本文对变抽速抽气过程的分段方法进行了研究。首先,讨论了分段计算结果随分段数的收敛性,分析了收敛性的影响因素。其次,建立了抽气时间验证计算模型,设计了一种自适应分阶段计算方法。最后通过对实例计算结果的对比,验证了该方法能以较少的分段数得到较高的计算精度。     

兰州重离子加速器前束线真空系统改造

介绍了兰州重离子加速器 (HIRFL)前束线真空系统的基本结构 ,给出了HIRFL前束线真空系统改造前的流导、气体负荷及压力分布情况。提出了具体的改造方案。使真空系统达到了设计要求 :泵口压力小于 5× 10 -6Pa ,两泵中心平面压力小于 1× 10 -5Pa。结果表明HIRFL前束线真空系统的改造方案是可行的     

多弧源磁控溅射多功能离子镀膜机的开发

本文系统地介绍了真空多弧源磁控溅射多功能离子镀膜机的开发情况、基本性能、主要特点、结构原理及采取的各种技术措施，评估了该设备的经济技术价值及开发者的良好心愿     

影响KT—150型扩散泵抽速因素的研究

本文运用气体动力学的理论，重点从结构上分析了影响ＫＴ－１５０型扩散泵的抽速因素。对设计其他类型的扩散泵具有一定的参考作用。     

来自日本真空市场的启示

来自日本真空市场的启示本文作者在第１２届国际真空会议（荷兰·海牙）上收集到一份日本真空工业协会介绍日本真空工业发展现状的文章，该文介绍了自１９８６年至１９９１年日本真空设备的销售情况（见图１），作者依据此图整理出表１，并从表一中得到以下几方面启迪，特...     

JPG—6型磁控溅射低阻值电阻镀膜机的研制

ＪＰＧ－６型磁控溅射低阻值电阻镀膜机，是代替过去生产效率低，产品性能差的蒸发式镀膜机的一种新型镀膜设备。本文就设备的研制意义、工作原理、主要性能指标，以及结构设计特点等问题进行了论述．文中还给出了低阻值金属膜和金属氧化膜电阻的主要参数及其阻值范围。     

旋转式圆柱形磁控溅射靶的磁场计算

类似于矩形平面溅射靶的磁场和旋转式圆柱形的靶筒组成旋转式圆柱形磁控溅射靶。与常规的圆柱形磁控溅射靶相比较，该旋转式靶提高了靶材利用率和膜厚均匀度。本文介绍了旋转式圆柱形靶的结构和磁场计算方法，给出了计算公式、数据及其特性曲线。强度适度和均匀分布的磁场，保证了溅射靶的工作性能，并为靶结构的设计提供了依据。     

真空感应熔炼靶材磁控溅射生产高阻值薄膜电阻器

介绍了用真空感应熔炼方法生产用于高阻值薄膜电阻器的磁控溅射靶材，并报告了用这种靶材进行薄膜电阻器生产的溅射工艺参数和热处理方法，以及电阻器的电学性能测试结果。实际生产表明，这种用真空感应熔炼方法生产的靶材，完全能用于薄膜电阻器的磁控溅射并能得到满意的薄膜电阻器的性能指标。