SmDyFeCo磁光薄膜的磁特性研究

采用射频磁控溅射方法制备了ＳｍＤｙＦｅＣｏ非晶磁光薄膜，研究了氩气压，溅射功率对ＳｍＤｙＦｅＣｏ薄膜磁特性的影响。实验表明，和ＤｙＦｅＣｏ非晶薄膜相比，ＳｍＤｙＦｅＣｏ非晶薄膜的矫顽力Ｈｃ随温度变化更为缓慢，并且具有更大的垂直磁各向异性常数，因而具有更好的记录特性，本征磁光克尔角可达０．３１，可以作为一种实用化的磁光记录介质。     

非晶稀土——过渡金属磁光薄膜热稳定性研究

采用射频磁控溅射方法制备非晶ＤｙＦｅＣｏ磁光薄膜。样品的克尔回线、转矩曲线的测试显示，薄膜具有优良的磁和磁光性能。退火研究表明，随着退火时间的增加，矫顽力下降，垂直磁各向异性能减少，但克尔角变化不明显，其内在机制与薄膜中的微缺陷和应力的弛豫过程有关。     

界面对TbFeCo薄膜磁畴的形成和移动的影响

本文用振动样品磁强计和磁光克尔回线测试仪研究了非晶ＴｂＦｅＣｏ薄膜和ＡＩＮ薄膜之间的界面对非晶ＴｂＦｅＣｏ薄膜磁畴的形成和移动的影响，得出结论：ＡＩＮ薄膜的表面粗糙程度对非晶ＴｂＦｅＣｏ薄膜的磁和磁光性能有影响。当表面光滑时，非晶ＴｂＦｅＣｏ薄膜的磁滞回线和磁光克尔回线的矩形比高，这是由于磁畴的成核和移动与界面粗糙性质紧密相关的结果。     

（Dy,Gd）FcCo磁光记录薄膜温度特性的计算与分析

依据实验结果，运用平均场理论，计算了（Ｄｙ，Ｇｄ）ＦｅＣｏ磁光记录薄膜随温度连续变化时的饱和磁化强度Ｍｓ，得到了居里温度、补偿温度及Ｍｓ（Ｔ）随材料成分变化趋势图。这些结果对于研究磁光材料的温度特性及热稳定性具有一定的参考价值。     

超负磁致伸缩晶体Sm－Fe、Sm－Dy－Fe和Sm－Dy－Fe－Al的研究

本文研究了轻稀土负磁致伸缩ＳｍＦｅ＿ｘ（１．４０＜ｘ＜１．９４），Ｓｍ＿ｘＤｙ＿（１－ｘ）Ｆｅ＿ｙ（０．８４＜ｘ＜０．９２．１．８０＜ｙ＜１．９０），Ｓｍ＿（０．９０）Ｄｙ＿（０．１０）（Ｆｅ＿（０．９５）Ａｌ＿（０．０５））＿（１．８０）晶体的制备、热处理及磁学性能，发现ＳｍＦｅ＿ｘ合金的λ－ｘ曲线存在两个峰值，峰值的ｘ点随热处理发生的变化有一定的规律性，还比较了热处理前后，Ｓｍ－Ｆｅ、Ｓｍ－Ｄｙ－Ｆｅ和Ｓｍ－Ｄｙ－Ｆｅ－Ａｌ的相组成对性能的影响。热处理用于改善磁致伸缩性能，并且制得了高磁致伸缩性能的ＳｍＦｅ＿２和（Ｓｍ，Ｄｙ）Ｆｅ＿２合金。     

溅射制备Pt1—xCox（x=0.2—0.4）合金膜的基本光学和磁光常数

在光子能量为１．５ｅＶ－４．８ｅＶ的范围内，测量了用溅射合金靶方法制备的易磁化方向垂直于膜面的Ｐｔ１－ｘＣｏｘ（ｘ＝０．２－０．４）合金膜的光学常数和磁光常数。该合金膜的光学常数夺成份极不敏感。磁光常数随Ｃｏ成份的增加而增加。克尔转角在光有量为４．２ｅＶ附近的峰值随Ｃｏ成份的增大可用费米面附近ｄ电子轨道态密度和Ｐｇ５ｄ电子极化的增大来解释。     

溅射条件下对FeSiB薄膜磁性及巨磁阻抗效应的影响

采用射频磁控溅射法,在不同溅射条件下制备了ＦｅＳｉＢ薄膜。研究了溅射条件下对薄膜应力、磁滞回线及磁阻抗效应的影响。结果表明：随着溅射氩气压强的增加,薄膜内应力从压应力变为张应力,磁滞回线的形状随溅射条件下的不同也发生改变。对磁各向异性的变化作了分析和讨论,而面内横向单轴磁各向异性的重要性在磁阻抗效应的实验中充分得到了体现。     

NdFe7—xMox薄膜的制备和磁性研究

利用对向靶溅射，同时对基片进行退火进行处理的方法，在玻璃基片上成功地制备出了ＮｄＦｅ７－ｘＭｏｘ（ｘ＝０，０．５）薄膜，并对其进行了磁性研究，ＶＳＭ测量结果表明，，Ｍｏ掺入导致了材料矫顽力ＨＣ的增大，却相应降低了饱和磁化强度Ｍｓ。随着退火温度Ｔ 提高，Ｈ随之增大，当Ｔ－５７３Ｋ时，出现一极大值为３７．８ｌＡ／ｍ，此时的热磁测量表明，样品具有最高居里温度，ＴＣ＝７７５Ｋ。     

超负磁致伸缩晶体Sm—Fe,Sm—Dy—Fe和Sm—Dy—Fe—Al的研究

本文研究了轻稀土负磁致伸缩ＳｍＦｅｘ（１．４０≤ｘ≤１．９４），ＳｍｘＤｙ１－ｘＦｅｙ（０．８４≤ｘ≤０．９２，１．８０≤ｙ≤１．９０），Ｓｍ０．９０Ｄｙ０．１０（Ｆｅ０．９５Ａｌ０．０５）１．８０晶体的制备，热处理及磁学性能，发现ＳｍＦｅｘ合金的λ－ｘ曲线存在两个峰值，峰值的ｘ点热处理发生的变化有一定的规律性，还比较了热处理前后，Ｓｍ－Ｆｅ、Ｓｍ－Ｄｙ－Ｆｅ和Ｓｍ－Ｄｙ－Ｆｅ－Ａｌ的相组成对性能     

Co-Ag颗粒膜的磁光克尔效应

采用离子束溅射法制备了Ｃｏ－Ａｇ颗粒膜,并分别在１００℃、２５０℃、４００℃、５００℃下进行了退火。利用磁光克尔谱仪、椭圆偏振光谱仪对样品的光学常数、复介电函数、磁光克尔参数在室温下进行了测量。对于Ｃｏ２０Ａｇ８０系列样品,随着退火温度的升高磁光克尔旋转角θｋ增大,且在Ａｇ的等离子振荡边附近出现了大的增强峰,峰的位置随退火温度的升高出现红移。通过理论计算分析,这种克尔效应的增强是Ａｇ等离子振荡边作     

用溅射法合成Nd—Fe—B薄膜中的交换耦合作用的研究

采用ＤＣ对向靶溅射系统制备了Ｎｄ１４Ｆｅ８６－γＢγ薄膜,随着γ值的增大,薄膜中产生了复杂的Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ相,随机分布的软磁相与硬磁相之间存在着ＥｘｃｈａｎｇｅＳｐｒｉｎｇＥｆｆｅｃｔ,并对此进行了分析和讨论,得出了利用这种随机分布结构中的ＥｘｃｈａｎｇｅＳｐｒｉｎｇＥｆｆｅｃｔ是提高Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ薄膜最大磁能积的有效途径。     

采用溅射法制备SrGa2S4：Ce薄膜

采用ＲＦ溅射技术制备了ＳｒＧａ２Ｓ４：Ｃｅ薄膜，并获得了发射波长为４４６ｎｍ的纯蓝色发光，其ＣＩＥ色坐标为ｘ＝０．１４，ｙ＝０．０９，研究了ＳｒＧａ２Ｓ４：Ｃｅ薄膜的激发谱和发射光谱，采用ＸＲＤ测定了薄膜的晶体结构，采用ＳＥＭ观察了薄膜的表面形貌，同时着重研究了后退火气氛，温度和时间对薄膜发光特性的影响。     

Sn对烧结钕铁硼合金高温磁性能的影响及机制分析

研究了Ｓｎ对三元ＮｄＦｅＢ合金和含Ｄｙ、Ａｌ的钕铁硼合金高温磁性能的影响，发现添加Ｓｎ成分系统中，都能显著降低磁通不可逆损失，但是，Ｓｎ只对含Ｄｙ合金的矫顽力热稳定性有明显改善作用，从微磁学角度分析表明，对于三元ＮｄＦｅＢ合金，不可逆损失减小的原因是Ｓｎ改善了显微组织，从而降低了合金内部的局部退磁场。而对于含Ｄｙ的合金，掺入Ｓｎ使局部退磁减小及矫顽力热稳定性改善，两者都对磁通不可逆损失降低有贡献、     

CoxFe3—xO4薄膜的湿法制备及性能

提出了在碱性溶液中通过加入添加剂在涤纶，玻璃，铜片等基体上快速制备ＣｏｘＦｅ３－ｘＯ４磁性薄膜的方法。实验结果表明，湿法制备的薄膜具有多晶的尖晶石结构，随着Ｃｏ含量的增高，矫顽力逐渐增大，耐蚀性良好。     

Co_xFe_（3－x）O_4薄膜的湿法制备及性能

提出了在碱性溶液中通过加入添加剂在涤纶（ＰＥＴ），玻璃，铜片等基体上快速制备Ｃｏ－ｘＦｅ＿（３－ｘ）Ｏ＿４磁性薄膜的方法。实验结果表明，湿法制备的薄膜具有多晶的尖晶石结构，随着Ｃｏ含量的增高，矫顽力逐渐增大，耐蚀性良好。     

磁场下Sm0.88Dy0.12Fe2合金的晶格畸变研究

本文研究外加磁场情况下，Ｓｍ０．８８Ｄｙ０．１２Ｆｅ２合金的微观结构，确定了低磁场下，该合金中（Ｓｍ，Ｄｙ）Ｆｅ２相由立方晶转变为正方晶系，原子发生了位移，初步分析了微观晶格畸变与宏观磁致伸缩应变的关系。     

高矫顽力SmCo/Cr薄膜的制备、结构及磁性

通过磁控溅射采用基板水冷方法制备ＳｍＣｏ／Ｃｒ双层膜。薄膜的成分及厚度、薄膜的制备条件,如溅射时的氩气压对薄膜的磁性有较大的影响。通过仔细控制这些参数,制备出矫顽力高达１８１ｋＡ／ｍ的薄膜。     

300KeV氩离子辐照非晶态合金两代表面发泡形成

室温下，用３００ＫｅＶ氩离子辐照了非晶态合金Ｆｅ４０Ｎｉ４０Ｐ１２Ｂ８、Ｆｅ４０Ｎｉ４０Ｓｉ１２Ｂ８、Ｆｅ３９Ｎｉ３９Ｖ２Ｓｉ１２Ｂ８和Ｆｅ３９Ｎｉ３９Ｍｏ２Ｓｉ１２Ｂ８，研究了表面形貌随剂量的演变。在所研究的１．０×１０１７到５．０×１０１７离子／Ｃｍ２的剂量范围，表面形貌以发泡形貌为主，并观测到了两代表面发泡的形成，第二代表面发泡的直径与第一代发泡相比，明显减小。溅射自始至终影响着表面形貌，溅射对表面发泡的腐蚀抑制了剥落、层离等表面腐蚀的出现。当剂量增加到足以溅射掉第一代表面发泡时，针孔形成，针孔的密度随剂量增加而增加。     

Fe76.5—xCu1NbxSi13.5B9纳米晶合金的结构和磁性研究

本文研究了Ｆｅ７６．５－ｘＣｕ１ＮｂｘＳｉ１３．５Ｂ９纳米晶合金中Ｎｂ含量的变化（ｘ＝１－７）对结构和磁性的影响。结果表明，随ｘ值的增高，α－Ｆｅ（Ｓｉ）纳米晶相的尺寸减小，体积分数，含Ｓｉ量及其ＤＯ３有序度降低。Ｎｂ含量对残余非晶相的结构有影响。合金的饱和磁致伸缩系数（λｓ）随ｘ值的增加而增大，在ｘ＝３时，合金的起始磁导率（μｉ）最大，矫顽力（Ｈｃ）最小。     

HDDR工艺各向异性Nd（Fe,Co）B粘结磁体的磁性与取向磁场的关系

研究了取向磁场对ＨＤＤＲ工艺制备的各向异性Ｎｄ（Ｆｅ,Ｃｏ）Ｂ粘结磁体永磁性能的影响,实验指出采用ＨＤＤＲ工艺制取的含Ｇａ的Ｎｄ（Ｆｅ,Ｃｏ）Ｂ磁粉具有较强的各向异性。在用这种磁粉制备粘结磁体时,随着施回报以向磁场强度的逐渐增强,磁体的剩磁,矫顽力和磁能积不同程度地增大,其永磁性能明显提高。