电厂热控系统中热控保护装置的故障分析与保护探究

随着我国经济的不断发展,伴随着热控保护手段与技术更加成熟,热控保护装置在电厂中的应用也越来越广泛,并在其承担关键性作用,成为电厂中的设备元件正常运转的最好保障,但是当今我国热控保护装置在现实设计及使用中,仍然隐藏了不少问题,使电厂安全受到了极大的影响,而本文主要阐述了电厂热控系统中的热控保护装置的故障分析以及保护措施。     

中速磨煤机热控设备的可靠性分析

根据330MW机组磨煤机热控设备的地位与作用,提出热控设备可靠性问题。分析调试质量、基建安装、正常运行期间磨煤机热控设备的工作环境,了解到中速磨煤机的热控设备要注重于通过对磨煤机一次风门、润滑油控制系统和推力瓦温度保护逻辑等的改造,以保障磨煤机安全稳定运行。本文重点分析了内蒙古蒙达发电有限责任公司330／~／W机组磨煤机热控保护系统与热控设备存在的问题,以提高中速磨煤机热控设备的可靠性。     

热控设备管理要点探析

随着社会的不断发展,我国的用电量每年都在飞速增长,因此热控设备的重要性也愈加凸显。但是在实际的生产过程中,热控设备在投入使用之后经常因为各种原因出现缺陷,影响发电系统的正常运转,甚至埋下不小的安全隐患。因此,为了保证热控设备的正常工作,相关工作人员应当对导致热控设备出现故障的原因进行分析并且有针对性地提出解决方案,确保整个发电系统的正常运转。同时,应制定热控设备的日常维护方案,创建一套能够快速、有效检修热控设备的保障体系。本文将对热控设备管理过程中存在的问题进行分析,并且提出加强热控设备管理的具体措施。     

基于有限元方法的数控铣床整机热特性分析

使用有限元方法,对新设计的XK717数控铣床进行了整机热特性分析,并与XK510数控铣床 (成熟产品)的分析结果进行比较,根据比较结果,找出XK717数控铣床热特性的薄弱部件,从而为提高XK717数控铣床的整机热特性指明了改进的方向.     

航天器柔性热控薄膜研究现状

柔性热控薄膜材料广泛应用于各种航天器平台,其性能对维持航天器正常工作环境至关重要.本文针对空间热控技术发展要求,综述了国内外柔性热控薄膜材料的技术指标以及应用现状.介绍了国内外各种航天器上普遍应用的一次表面镜、二次表面镜、腐蚀防护膜和热控带等柔性热控材料的工作原理及应用范围,并对国内外典型柔性热控产品性能进行了对比.并介绍了相变热控材料、CCAG热控薄膜等新型智能柔性热控材料的研究情况.     

柔性热控材料性能的实验方法研究

简略回顾了导电膜和热控材料的制备工艺研究、批量生产技术与设备建立的情况。着重讨论了导电型Kapton基热控材料的性能及其在空间环境中性能稳定性实验方法、实验结果 ,并与进口同类材料的稳定性作了比较。通过一系列性能稳定性评估研究 ,充分说明国产热控材料不仅在总体性能上可以与进口同类材料相媲美 ,而且在紫外辐照、电子辐照、湿热、原子氧等环境中稳定性优于同类进口材料。对这一结果所进行的AFM分析表明制备方法与工艺对热控材料的性能是至关重要的。     

强电磁场条件下热控涂层的分解机理及其对电性能的影响

热控涂层是航天器热控系统中重要的功能性涂层材料.针对热控白漆ACR-1在真空强电磁场条件下的耐温性、分解特性、电性能(介电常数、损耗角正切)以及电性能的退化情况进行了研究.结果 表明,热控涂层进入热分解阶段后,其表观颜色逐渐变深,涂层结构由致密转化为多孔状,损耗角正切值随着降解程度的提高而逐渐增大,电磁场在热控涂层中的能量损耗也相应增大,从而导致热控涂层的热平衡温度提升.当涂层材料分解殆尽,完全碳化,其损耗角正切值急剧增大,电磁波损耗也急剧增大,设备电性能指标下降明显,偏离了设计要求.     

航空相机光学系统热控设计

为保证航空相机光学系统的有效性和较高的成像质量,根据相机的热环境和结构特点进行了热控设计。采用热隔离等被动热控措施延长系统的热时间常数,降低光学系统对外部热环境变化的灵敏度。建立了镜头和窗口组件的传热模型和热阻网络模型,并对其在极端工况下的最大漏热率进行了分析计算,得到保持光学系统恒温所需的加热功率,根据计算结果设计了加热回路和分配加热功率。针对热控设计和航空相机的工况进行了稳态和瞬态仿真分析,对加热功率进行了优化。镜头和窗口的稳态温度分布均在(20±1)℃范围内,表明漏热补偿效果较好;瞬态分析结果表明,在飞行拍摄的过程中,温控系统将光学系统的温度控制在17.5℃～20.5℃范围内,满足热控指标要求,为提高光学系统的可靠性和热控设计优化提供了理论依据。     

空间相机高速TDI CCD焦面组件热设计及试验研究

受到质量和功耗的限制,某相机焦平面组件热控不能采用传统辐射冷板与主动温度补偿结合的方法.基于相机宽温适应性的特点,提出了降低相机工作温度与大热容焦面电箱结构储热相结合的被动热控方法,通过相机热平衡试验在热真空罐中进行了验证,并结合试验数据探讨了如何通过被动热控方法获取更低TDI CCD工作温度的问题,给出了优化方案.试...     

反应磁控溅射沉积TixAlyNz热控薄膜研究

采用反应磁控溅射技术,以Ti和Al为溅射靶材料,Ar和N2为溅射气体,在Al基底上沉积TixAlyNz热控薄膜.优化制备薄膜的最佳实验条件.对薄膜进行XRD、XPS分析及热光学测试,研究了TixAlyNz薄膜的结构特点及热光学特性.结果表明,采用独立Ti、Al靶的磁控反应溅射制备的TixAlyNz热控薄膜,通过控制薄膜厚度与组成,在忽略飞行器内部热作用的条件下其平衡温度为34℃.