CaF2添加量对玻璃陶瓷晶化过程及材料性能的影响

采用DTA、XRD和SEM等现代测试手段 ,探讨了氟化钙添加量对基础玻璃的晶化过程及材料性能的影响 ,研究结果表明 :添加适量的氟化钙将形成中间相 ,通过中间相诱导析晶 ,可降低基础玻璃的晶化温度 ,提高晶化速率 ,在所研究的CaO -Al2 O3-SiO2 系统中 ,氟化钙的最佳添加量为 6wt%。     

高温熔烧法制备金属基陶瓷涂层的研究

以玻璃熔块、氧化铬粉、粘土粉和硅酸锆微粉为原料制成的涂料,用滚涂法将其均匀涂覆在不锈钢管上,经高温(1000~1050℃保温20min)熔烧制备出了耐磨、抗高温氧化的陶瓷涂层。对陶瓷涂层的耐磨性、抗高温氧化性、抗热震性等性能进行了测试,并对影响涂层性能的因素进行了研究。结果表明:引入具有较大热膨胀系数的玻璃熔块料有利于提高涂层结合性;加涂层的试样均能明显改善基体的耐磨性和抗高温氧化性。涂层的耐磨性随硅酸锆微粉加入量的增加而提高,加入量为15%时耐磨性和抗热震性最好,其热震循环(1000℃空冷)可达22次。     

透辉石系统微晶玻璃釉用熔块的晶化行为

利用DTA、XRD、SEM、高温显微镜等测试手段研究了CaO -MgO -Al2 O3-SiO2 系统微晶玻璃釉用熔块的晶化行为 ,计算了其晶体生长活化能 ,分析了热处理过程中烧结与晶化的关系 ,同时对该熔块制作高耐磨墙地砖釉的可能性进行了验证     

部分稳定氧化锆在低温共烧微晶玻璃基板中的作用研究

利用氧化锆的相变能够提高材料韧性的作用,在MgO-Al2O3-SiO2微晶玻璃中添加部分稳定超细氧化锆,用烧结法制得微晶玻璃基板。使用AKASHI压痕法测试材料增韧前后的韧性,利用FESEM观察微晶玻璃断口形貌,用XRD测试样品中的晶体组成,并在多芯片基板上初步得到满意的使用效果。实验证明,添加一定量的超细氧化锆后微晶玻璃的韧性有很大的提高,基板的破损率有较大的降低。     

国内首批超薄液晶玻璃基板产品通过用户批量认证

蚌埠玻璃工业设计研究院控股子公司成都中光电科技有限公司生产的国内首批0．5mm超薄无砷TFT—LCD玻璃基板产品顺利通过国内核心用户天马微电子批量认证，并正式获得后续批量采购订单，成功打开市场。这标志着该公司完全掌握了超薄TFT—LCD玻璃基板制造技术，     

全球平板显示器件用玻璃的发展现状

本文详细地介绍了平板显示器用基板玻璃的种类和性能，对TFT玻璃、PDP玻璃、超薄浮法玻璃以及导电玻璃等不同种类的玻璃的生产工艺进行了细致介绍，同时还对这几种玻璃的生产厂商以及它们的各自市场情况进行了介绍。     

专利文摘

一种用于TFT玻璃基板退火的炉体连接装置 专利申请号：CN201320343396.0公开号：CN203382649U申请日：2013.06.14公开日：2014.01.08 申请人：陕西彩虹电子玻璃有限公司 本实用新型公开一种用于TFT玻璃基板退火的炉体连接装置，包括上法兰和下法兰，上法兰和下法兰之间通过长度能够伸缩的褶皱部件连接，上法兰和下法兰分别与上炉体和下炉体相连接。本实用新型通过设置上法兰和下法兰，上法兰和下法兰之间通过褶皱部件连接，上法兰固定在上炉体上，下法兰固定都在下炉体上，可以很好的将炉体进行连接，且能够有效阻止炉体外部空气进入使炉体内部，为TFT玻璃基板退火提供良好的炉内环境，能够有效的减少热态下TFT玻璃基板表面粘附的微小固体物质，使TFT玻璃基板表面清洁度满足要求，进而提高了所制备的玻璃质量。另外，通过条形孔可以快速调整上法兰和下法兰的位置，提高了生产效率。     

熔块生产过程中的质量控制

1 前言 陶瓷熔块是陶瓷生产的重要原料之一,是决定釉面质量优劣的关键因素.熔块是将釉用原料按一定的比例混合,在熔块炉里高温熔制、澄清,并经水浴或水冷金属轧辊将玻璃熔体急速冷却后获得的碎玻璃粒状或片状复合原料.将釉用原料熔制成熔块具有如下优点:     

非齐次线性方程组在求解最优玻璃料方中的应用

浮法玻璃生产中料方成分的变更或波动对成品玻璃质量有显著的影响。通过解析原料及其所含化合物的数据结构,确定各种原料的用量,挖掘最接近目标料方的优化方案,是浮法玻璃料方计算领域中的重要研究内容。研究发现,原料及其所含化合物、目标料方可用非齐次线性方程组的系数矩阵、常数项列向量表示,计算最优料方中各原料的用量问题可以转化为非齐次线性方程组求解。在方程组有解的情况下,求解得到最优料方;在方程组无解但有最优解的情况下,通过搭配使用非齐次线性方程组和最小二乘法可以求解最优料方。此计算方案能维持或提高料方计算结果的精度,同时也能提高原料工程师在计算料方中的工作效率,从而产生实际的经济效益,可广泛应用于浮法玻璃料方计算。     

复合澄清剂在TFT基板玻璃熔制过程中的作用机理

针对当前薄膜晶体管(TFT)基板玻璃熔制过程中澄清剂作用机理认识不足的问题,采用模拟TFT基板玻璃浮法熔制工艺与高温熔融动态观察相结合的方式,研究了SnO₂、CaSO₄、NaCl等单一和复合澄清剂在熔制过程中的适用温度、澄清效果等,对基板玻璃热学性能、玻璃块体中Na⁺含量与NaCl澄清剂使用量的关系进行探讨。结果表明:SnO₂单一澄清剂的适宜用量为0.10%(质量分数);复合澄清剂中0.10%(质量分数)SnO₂+0.35%(质量分数)CaSO₄形成的梯度澄清效果最佳;复合澄清剂SnO₂+NaCl构成协同澄清,澄清效果随NaCl用量的增加而提高,但NaCl澄清剂的使用量应不高于0.076 3%(质量分数),以满足基板玻璃对残留碱金属离子含量的严格要求。以上研究成果对改善TFT基板玻璃熔制质量和产品品质具有重要的参考意义,有利于相关工业化生产降本增效。     

LTPS基板玻璃表面擦划伤影响因素研究

市场对LTPS基板玻璃要求更高的品质,通过分析影响LTPS基板玻璃擦划伤的主要因素,重点研究了不同LTPS基板玻璃料方及生产冷却速度对玻璃的抗擦划伤能力的影响,为其品质的提升提供参考依据。     

泥结石墨坩埚坯料抗氧化性能初步研究

在传统的泥结石墨坩埚坯料中，添加不同种类的添加剂，以期提高其抗氧化性能，实验结果表明，添加硅粉，玻璃熔块等能有效抑制鳞片石墨的高温氧化，延长坩埚的使用寿命。     

熔块窑炉使用发生炉煤气和全电能污染物排放对比

熔块是制造陶瓷的重要原料,虽然随着陶瓷产品种类调整需求量不断下降,但其仍然是生产陶瓷产品不可缺少的部分。熔块和玻璃有一些共性,但是产品特性却有很大差别,玻璃行业已经成熟的电加热在熔块行业虽然已经转化取得初步成功,但是因为成本等原因没有得到有效推广。笔者通过对电加热和目前普遍使用的煤制气加热的污染物排放进行了对比,证实在日益严峻的环保治理大环境下,电加热可以成为熔块加工的重要选择。     

骨瓷熔块关键技术研究

为解决传统含铅骨瓷熔块在使用中的各种危害问题,研制出无铅骨瓷熔块。在唐山客户使用过程中遇到釉泡、低成本高温快烧等问题。本文首先对釉泡、低成本高温快烧等问题产生的原因进行分析,分析结果对熔块的配方进行优化改进;然后针对客户生产现场的实际情况,对球磨机的球磨效率、窑炉的温度曲线进行调整。最后,通过对骨瓷熔块配方的优化和客户生产工艺的调整,使釉泡、低成本高温快烧等问题得到解决。同时通过有效对膨胀系数、软化点、熔块熔流的品质管控,无铅骨瓷熔块在唐山市场更有竞争力,客户的优等品率得到大幅提升,产品质量大幅提高。     

Merck和FlexEnable开发出全树脂液晶屏

<正>德国Merck公司和英国Flex Enable公司宣布,在柔性树脂基板上形成了IPS(in plane switching)模式的液晶显示器。这是通过在背板上使用有机TFT阵列实现的,完全没有使用玻璃。与采用玻璃基板的传统液晶显     

TFT基板玻璃清洗工序水循环系统杂质去除浅析

TFT基板玻璃生产过程中清洗工序通过盘刷、滚刷、二流体、超声波等单元清洗基板玻璃表面,去除掉生产过程中产生的玻璃粉、研磨粉、纸粉等杂质,每个单元都需要大量水冲淋基板玻璃,为节省用水量,水通过水箱滤芯过滤后循环使用,根据水中杂质含量的不同滤芯的过滤精度也不同。普通过滤系统只有一个滤芯过滤,滤芯负载大,过滤能力弱。含有导流槽的过滤系统在滤芯前方增加一个导流槽,将大的杂质和颗粒从水中剥离出来,减轻了滤芯的负载,提高了水循环系统去除杂质能力,延长了滤芯的使用寿命,提升了水的水质。     

实验用新型熔块炉的研制

陶瓷工业生产中所需要的熔块，从实验开始到实验成熟是一种很复杂的、漫长的过程。一种熔块新品种的诞生要经过无数次地实验和反复地调整，才有可能进入试生产阶段，而每次实验和调整，都要进行关键的高温熔制才能掌握其性能。在实际试制中，不可能每次把实验料投入到生产炉中，这样做既占用生产设     

水淬钙镁磷肥玻璃熔块结构上的不混溶性

本文报导对水淬钙镁磷肥玻璃熔块进行显微结构研究所取得的最新结果。通过差热分析、X-射线衍射分析、电子显微镜观察发现钙镁磷肥玻璃体中存在着不混溶现象,指出玻璃分相是有效磷存在的本质原因。根据相平衡与晶体化学原理,阐明了钙镁磷肥玻璃熔块的结构特征,同时联系生产对工艺控制因素作了评述。     

高档卫生洁具釉用熔块的研制

主要介绍了高档卫生洁具釉用熔块的技术路线及过程研制。重点研究了原料质量控制、熔块工艺流程、熔块在釉中实验及坯釉结合性能等,并对结果进行分析,最后提出了生产过程中的具体建议。     

高档卫生洁具釉用熔块的研制

主要介绍了高档卫生洁具釉用熔块的技术路线及过程研制。重点研究了原料质量控制、熔块工艺流程、熔块在釉中实验及坯釉结合性能等，并对结果进行分析，最后提出了生产过程中的具体建议。