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本文用束传播方法(BPM)设计了具有弯曲波导吸收区结构1.3μmInGaAsP/InP超辐射发光二极管(SLD),分析了不同吸收区长度La和弯曲的曲率半径R对SLD特性的影响,给出了直观的结果,并进行了优化设计。在假定吸收区后端面反射率为1,和忽略吸收区内的吸收损耗的条件下,取d=0.2μm,w=2μm,Lp=400μm,La=200μm,R=500μm,I=200mA,经吸收区反射耦合回有源区内的光与有源区前端面入射光的强度比率仅为9.5×10-3。 相似文献
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用LPE研制的室温连续工作的1.48μm单量子阱激光器 总被引:1,自引:0,他引:1
利用液相外延(LPE)技术研制出室温连续工作的InGaAsP/InP分别限制单量子阶(SCH-SQW)双沟平面掩埋(DC-PBH)激光器。室温下,腔面未镀膜的激光器最低阈值电流为23mA(激光器腔长为200μm,CW,13℃)。激射波长为1.48μm,最高输出功率达18.8mW(L=200μm.CW,18℃)。脉冲输出峰值功率大于50mW(脉冲宽度1μs、频率1kHz),未见功率饱和。量子阱的阱宽为20nm[1]. 相似文献
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采用低温生长缓冲层,高温生长GeSi外延层的方法在n型Si衬底上外延生长(i)Ge0.85Si0.15-(p)Si层,以此材料作为吸收区制备成GeSi/Si异质结pin台面光电二极管。其波长范围为0.7-1.55μm,峰值波长位于1.06μm,暗电流密度低达0.033μA/mm^2(-2V),在1.06μm和1.3μm处的响应度分别为1.8A/W(-2V)和0.066A/W(-V)。 相似文献
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对1.3μm和1.55μm波长的Si1-xGex波长信号分离器(WSD)和Si1-xGex/Si应变超晶格(SLS)红外探测器的集成结构进行了系统的分析和优化设计.优化结果为:(1)对Si1-xGexWSD,Ge含量x=0.05.波导的脊高和腐蚀深度分别为3μm和2.6μm.对应于λ1=1.3μm和λ2=1.55μm波长的波导脊宽分别为11μm和8.5μm.(2)对Si1-xGex/SiSLS探测器,Ge含量x=0.5.探测器的厚度为550nm,由23个周期的6nmSi0.5Ge0.5+17nmSi组成. 相似文献
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报道了1.3414μmNd:YAlO3激光端面泵浦的室温2.1000μm.Co;MgF2脉冲激光的实验结果,得到了279.4mJ能量输出,器件斜率效率达23%,阈值能量为125mJ。 相似文献
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GaInNAs/GaAs量子阱激光器的发展与未来 总被引:1,自引:0,他引:1
GsInNAs是一种直接带隙半导体材料,在长波长(1.30和1.55μm)光通信系统中具有广阔的应用前景。通过调节In和N的组分,既可获得应变GaInNAs外延材料,也可制备GaInNAs与GaAs匹配的异质结构,其波长覆盖范围为0.9 ̄2.0μm.GaInNAs/GaAs量子阱激光器的特征温度为200K,远大于现行GaInNAsP/InP激光器的特征温度(T0=50K)。GaInNAs光电子器件 相似文献
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MBE生长高质量GaAs/AlGaAs量子阱激光器 总被引:6,自引:4,他引:2
我们利用分子束外延方法研制了GaAs/AlGaAs缓交折射率分别限制(GRIN-SCH)单量子阱和双量子阱激光器.对腔长为600μm的端面不镀膜的宽接触条型F-P腔激光器,阈值电流密度(平均值)分别为290A/cm2和240A/cm2.腔长在1200μm的双量子阱激光器的阈电流密度低达190A/cm2.对出光面和背面分别镀以增透膜和高反膜的宽接触条型(80μm).激光器,线性输出功率高达1.82W;出光面的斜率效率达到1.04W/A;利用湿法化学腐蚀所制备的脊形波导结构单量子阱激光器阈值电流最低可达8mA 相似文献
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研究了高能Ar^+注入对P^+薄层特性的影响。结果表明,正面高能Ar^+注入能在有源区下隐埋一层缺陷带,可有效地净化表面有源区。用高能Ar^+/B^+注入制备出了反向漏电流仅1.9mA/cm^2(-1.4V)的二极管。 相似文献
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128×1元GaAs/AlGaAs多量子阱扫描红外焦平面的红外成像 总被引:2,自引:1,他引:2
研制成功了128×1元GaAs/AlGaAs多量子阱扫描型红外焦平面(FPAs),器件的响应率达到RP=2.02×10^6V/W,截止波长为λ=8.6μm,根据常规的黑体探测率定义,得到器件的黑体探测率为Db=2.37×10^6cm.Hz/W,并最终获得了清晰的曙物体残留热像图。 相似文献
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反应淀积氮化铝薄膜及其性质的研究 总被引:9,自引:0,他引:9
实验使用脉冲激光熔蚀金属铝靶,使溅射的物质粒子和真空室中的氮气反应以淀积氮化铝(AlN)薄膜,淀积时引入氮气直流放电以促使Al和N发生完全反应制备高质量符合化学计量比的AlN薄膜。讨论了脉冲能量密度、基底温度、气体放电对所沉积薄膜组织结构的影响。实验结果表明,当DE=1.0J·cm-2,PN2=13.333kPa,Tsub=200℃,V=650V,f=5Hz,dS-T=4cm时,高质量的AlN薄膜被成功地沉积于Si(100)基片上。分析表明薄膜是具有高取向性的AlN(100)多晶膜,薄膜的能带间隙约为6.2eV,其电阻率和击穿电场分别为2×1013Ω·cm和3×106V·cm-1。 相似文献
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本文通过对1.55μm双异质结激光器中0.95μm的高能发光峰的分析,证明了InGaAsP有源区的Auger复合是造成载流子向侧InP限制层漏泄的主要原因,也是影响激光器T0值的主要因素。 相似文献
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把1.3μm波长分段吸收式脊形波导结构发光二极管进行不同温度的加速老化寿命试验,共测试248500器件小时。该器件在25℃、150mACW的平均寿命为1.2×106h,其退化激活能Ea=0.48eV;与标准单模光纤耦合后,在25℃、100mA下的光功率大于30μW,最大可大于50μW。 相似文献
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最近,选用N 型体材料碲镉汞(Hg1- xCdxTe) 作衬底,成功制备了平面PonN 结构的光电二极管。文中报道了制备各个波段PonN 结的一些进展。碲镉汞平面PonN 结采用砷掺杂在N 型衬底上形成P区,砷掺杂由砷离子注入加上退火扩散形成。对PonN 二极管的电流电压关系温度特性的研究表明:直到140K,长波(λc = 9 .1μm)PonN 结的暗电流以扩散电流为主。制备了从中波到长波各个波段的碲镉汞PonN 结构红外探测器。目前,对于λc = 5 .2μm 的器件,R0 A 值达到68Ωcm2 ,黑体探测率D*bb(500K) 可达2 ×1010cm Hz1/2/ W;对于λc = 14 .5μm 的器件,R0 A 值达到0-2Ωcm2 ,黑体探测率D*bb(500K) 可达1 ×109cm Hz1/2/ W。 相似文献
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GaAs/AlGaAs多量了阱结构的红外探测器是近几年出现的一种新型红外探测器。本文对基基本原理作了介绍。并报导了最新研制成果;Dλ=1.42×10^11cmHz1/2W^-1=Rλ=2.32×10^6V/W,峰值响应为8.5μm的高性能GaAs/AlGaAs量子阱红外探测器。 相似文献
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含La或Sm的BaNd_(2-y)R_yTi_(4+x)O_(12+2x)瓷的结构与性能 总被引:2,自引:2,他引:0
BaO-Nd2O3-TiO2系富钛区含La或Sm的陶瓷,XRD、SEM显微结构分析表明,其主晶相为R(R=La或Sm)取代Nd固溶体BaNd2-yRyTi5O14和BaNd2-yRyTi4O12,均属斜方晶系,并存在少量的次晶相R2Ti2O7、BaTi4O9、Ba2Ti9O20等。富钛区BaNd2Ti4+xO12+2x(x=0~1.400)组分和含La或Sm的BaNd2-yRyTi5O14组分所组成的瓷料,介质损耗显著地降低,介电常数和电容温度系数遵从李赫涅德凯对数混合定律。 相似文献