真空蒸镀法制备Sb膜电极及其性能

采用真空蒸镀法制备了金属Sb膜电极, 通过XRD、SEM、恒流充放电循环、循环伏安(CV)等方法, 研究了Sb膜电极的结构、形貌和电化学性能, 并对嵌脱锂机理进行了分析. 结果表明: 蒸镀后, 金属Sb为六方晶体, (003)晶面择优取向. Sb膜电极与基底铜箔的微观形貌接近, Sb金属以片层颗粒堆积在Cu箔颗粒上面. 在首次嵌锂过程中, 能观察到Li₃Sb合金的生成和Sb相的消失, 在脱锂之后, 能观察到Sb相的重新出现和Li₃Sb合金的消失, 且Sb相还是回复到(003)面择优相. Sb膜电极的首次充放电比容量分别为652和454 mAh/g, 循环16周后放电比容量还为300 mAh/g, 性能远优于Sb粉电极.     

真空蒸镀聚乙烯醇薄膜

采用真空蒸发沉积(蒸镀)聚乙烯醇薄膜,通过SEM和光学显微镜观察聚乙烯醇薄膜呈现典型的岛状形式并均匀分布于衬底表面,且以梯田状台阶式长大.衬底温度是影响PVA薄膜沉积速度的主要因素.红外光谱分析表明其蒸镀薄膜的主要化学结构特点是羰基代替了部分羟基.     

真空蒸镀氧化铟透明导电膜

一、前言 本文介绍一种制造透明导电膜的方法,即用高纯铟作膜料,通过电阻蒸发制成氧化钢透明导电膜。由于它不是用合金而是用高纯铟作膜料,故节省了原料。由于它用电阻蒸发镀膜而不用电子束蒸发,所以省去价格昂贵的具有电子束蒸发的镀膜机,另外由于此法可以一次成膜,不必再在大气中进行退火处理。因此又节省了人力和电力,因而是一个经济、简便、切实可行的方法。透明导电膜既透明又导电,具有良好的光学性能和电学性能,因而有着重要而广泛的用途,譬如可用作绝热玻璃的红外反射层;车辆、船舰、飞机、宇宙飞船、人造卫星等玻璃的电热层(用于防…     

苏联现代真空蒸镀工艺一瞥

几年前,自从在 SVC 年会上提交了一篇题为《苏联电子束蒸镀工艺》的文章之后,苏联真空沉积领域内出现了一些令人关注的重大进展。本文将以这些成就为题,主要叙述真空镀膜的一些方法,其中主要包括电子束蒸发沉积的不同方法。     

用电子束真空蒸镀法将二氧化锆和二氧化硅透光保护膜镀在玻璃上

用电子束真空镀膜法在加热到300℃的衬底上镀制了双层1/4波长ZrO_2—SiO_2和单层SiO_2薄膜,大大提高了玻璃的透过率(τ_(π2x)～98÷99％),并在40℃,相对湿度达80％和周期降露的条件下可提供良好的防蚀性能。此种涂层可用来保护不稳定玻璃免受潮湿空气的腐蚀,亦可用来制备各种透光膜,     

大规模真空蒸镀二氧化钛薄膜及其表征

采用大型真空镀膜设备在玻璃基底上蒸镀二氧化钛(TiO2)薄膜,并对TiO2薄膜进行了SEM、AFM、XRD、紫外可见光吸收光谱、亲水性的测试及分析,探讨了退火温度对薄膜性能的影响.结果表明制备的TiO2薄膜具有良好的均匀性.在室温条件下,TiO2薄膜具有无定型的结构;在300～500℃的条件下,TiO2薄膜退火2h后以锐铁矿晶型为主,600℃退火的TiO2薄膜明显向金红石型转变.随退火温度的升高,薄膜对紫外光和可见光的吸收有明显提高,并出现了明显的红移现象.另外,亲水性也随退火温度的升高而变强,500和600℃退火的TiO2薄膜表面出现超亲水性.     

塑料薄膜的真空蒸镀技术和应用

塑料薄膜在真空中蒸镀铝、锌等金属已有二十余年工业化历史。蒸镀金属后的薄膜具有金属光泽和导电性,用来制造金银丝、贴花等装饰品和电容器。近年来由于这种材料具有优良的综合性能、又比较经济,因此在包装方面的应用发展很快。随着薄膜的成型和表面处理技术的改进,再加真空中镀膜既省能又无公害,所以塑料薄膜的真空镀膜技术日益受到人们的重视,真空蒸镀薄膜的用途也越来越广泛。     

确定真空蒸镀起始压强的方法

真空蒸镀时镀膜室内的环境压强如何选择才合适，这是获得优良薄膜的重要前提。本文简要论述压强Ｐｒ与工件相对蒸发源距离Ｌ间的关系，从而确定蒸发镀膜时所需的起始压强大小。     

生产用大型蒸镀设备真空系统的故障与诊断

以ＺＺＷ－Ｈ１４００Ⅱ大型真空蒸发镀膜设备为例，结合生产实际，详细介绍了设备真空系统常见故障与诊断、排除方法     

用化学蒸镀法制造C/C复合材料

新日本制铁公司采用化学蒸镀法(CVI)研制了高强度、高密度碳纤维增强碳(C/C)材料,同时也研究了甲烷在C/C复合材料的空隙中进行扩散和分解的条件,寻求了一种能定量地进行密度预测的方法。C/C复合材料在常温下蒸镀300小时后,其抗弯强度为500MPa,平均导热率达到48W/m·k。     

真空电子束熔炼和蒸镀用的环状阴极电子枪的设计

本文讨论一种环状阴极电子枪在真空电子束熔炼、蒸镀装置中应用的一些问题,指出这种环状阴极自加速电子枪具有一系列优点,特别适合于作为中小功率应用和实验室装备。文中给出了利用计算机辅助设计时有关的计算方法和程序特点,并给出若干实例。     

关于真空蒸镀技术中的几个问题

在党的自力更生的方针指导下,我厂自制了几台真空镀膜设备,较快地解决了光学零件的镀膜生产问题。本文拟就我厂几年来在自制设备与工艺试验过程中所遇到的有关设备和工艺方面的几个问题作一些介绍。     

真空蒸镀装饰膜工业化生产中的若干问题

真空蒸发镀膜是装饰膜生产的常用工艺。结合生产实践,对真空蒸镀装饰膜工业化生产中生产设备的选用及关建工艺进行了分析,对装饰膜规模化生产中的一些管理经验作了简单介绍。     

离子蒸镀

离子蒸镀是最近才发展起来的一种新的表面处理技术。它是利用辉光放电之能量进行离子镀膜的,故称做离子蒸镀。 离子蒸度的基本原理是由低压气体的放电所产生的等离子体中,包含有大量的离子、电子以及被活化的气体原子等高能粒子;置于负高压的试料(阴级)彼等离子包围,由于离子的轰击作用而使其表面达到清洁处理目的(在氩气存在的条件下);另一方面,从蒸发源蒸发出来的气化原子(如金属或非金属),由于等离子体中的电子的作用而电离,其离子在电场力的作用下被加速到试料表面上,从而形成镀膜。 离子蒸钦法,基片和镀层不论是金属或非金属均可,若不…     

手表表盘真空蒸镀“彩色”铬膜

一、基本原理由于薄膜和基底金属对入射光的依次反射,将入射光的振幅分解为若干部分,这些部分光波相遇时将发生干涉,使反射光减弱。若基底的折射率为η_2,膜层的折射率和几何厚度分别为η_1和d_1光波自折射率为η_0的介质入射到膜层上,则在η_0至η_1界面上的菲涅耳反射比为r_(01)=(η_1-η_0)/(η_1+η_0)(1)光波自η_1至η_0界面上的菲涅耳反射比为     

真空蒸镀SiOx膜的特性及加工应用

讨论了用于软包装的镀铝膜和ＳｉＯＸ镀膜,同时也讨论镀铝、镀ＳｉＯｘ的工艺方法和ＳｉＯｘ镀膜加工、应用。     

二氧化铈对准晶真空蒸镀薄膜的影响

采用DMD-450真空镀膜仪将Al65Cu20Fe15准晶粉末沉积在Q235钢表面制备薄膜。研究了二氧化铈对薄膜的组织和结构的影响。采用透射电镜（TEM）、扫描电镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）等分析了薄膜的组织结构和表面形貌。利用纳米压痕仪（MTS）测试了薄膜的显微硬度和弹性模量。结果表明：通过准晶粉末真空蒸镀可以形成准晶薄膜。其组成相有CuAl2，A1Cu3 and I（Al65Cu20Fe15）相等。薄膜的成分取决于制备工艺。二氧化铈对薄膜的结构没有产生明显的影响。但是薄膜的显微硬度和弹性模量随二氧化铈添加量的增加而提高。当二氧化铈添加量为5％（质量分数）时，薄膜的显微硬度达到9．0GPa，弹性模量最高达到190GPa。此外，二氧化铈的添加明显增加了薄膜的耐蚀性能。     

建筑玻璃真空蒸镀薄膜厚度的理论计算

本文对建筑玻璃大面积多蒸发源真空蒸镀的膜厚均匀性进行了理论分析，给出了膜厚及其分布的计算公式和计算实例．对如何提高薄膜的均匀性进行了讨论．     

真空蒸镀红荧烯薄膜及其形貌分析

红荧烯(rubrene)即5,6,11,12-四苯基并四苯,是一种重要的小分子有机半导体材料,可以用以制备红荧烯有机场效应管和太阳能光伏器件。本文首先对传统的热蒸发真空系统进行改造,使之能蒸镀有机薄膜。在一定的蒸发温度下,经过不同蒸镀时间蒸镀红荧烯薄膜,蒸镀时间分别为5,6,7,8 h,获得了具有多晶结构的红荧烯薄膜,并对其形貌进行了分析。结果表明非晶结构的红荧烯薄膜首先在硅衬底上生长,非晶红荧烯薄膜生长至一定厚度后,多晶结构的红荧烯从其中形成。