化学镀非晶态Ni－Mo－P合金析出机理研究

通过对Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ非晶态合金形成过程的研究，借鉴表面催化理论对Ｎｉ－Ｐ二元合金析出机理的解释，提出了Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ三元合金镀层的析出机理。     

化学沉积Ni—Mo—P合金结构和耐蚀性的关系

本文采用Ｘ射线衍射和全浸试验方法，对化学镀Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金层的结构和抗蚀性能进行研究。结果表明：在硫酸溶液中，三元非晶态Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金层的耐蚀性高于二元非晶态Ｎｉ－Ｐ合金层的耐蚀性。     

析氢电催化剂Ni—Mo—Pb合金的研究

用电沉积法得到了非晶态Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐｂ合金，该事金在碱性溶液中对氢的阴极析出具有很好的电催化活性，并有良好的可逆性和稳定性。给出了Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐｂ电极上析氢反应的有关动力学参数。用稳态极化测量和ＸＲＤ对Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐｂ电催化剂进行了表征。     

化学沉积Ni─Mo─P合金结构和耐蚀性的关系

本文采用Ｘ射线衍射和全浸试验方法，对化学镀Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金层的结构和抗蚀性能进行研究。结果表明：在硫酸溶液中，三元非晶态Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金层的耐蚀性高于二元非晶态Ｎｉ－Ｐ合金层的耐蚀性。     

化学镀Co—W—P三元合金的研究

研究了镀液中各组分及ｐＨ值与镀层中钨、磷含量的关系，获得Ｃｏ７３Ｗ１６Ｐ１１合金镀支，并通过人工汗液浸泡试验比较了Ｃｏ－Ｗ－Ｐ合金镀层与不锈钢、Ｃｏ－Ｐ、Ｎｉ－Ｗ－Ｐ、Ｎｉ－Ｐ合金镀层的耐蚀性。     

化学镀Co—P／Ni—P磁记录介质的研究

对用化学镀制取Ｎｉ－Ｐ／Ｃｏ－Ｐ磁记录介质的工艺进行了研究，结果表明，对基片进行合适的预处理后，首先化学镀一层Ｎｉ－Ｐ合金层，厚度在２４μｍ左右，然后再化学镀Ｃｏ－Ｐ磁性合金，可获得良好的磁记录性能。     

化学镀Ni—Mo—P合金阳极溶解行为的XPS研究

利用ＸＰＳ等手段研究了化学镀Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金在Ｈ２ＳＯ４溶液中的阳极溶解行为。结果显示，稳定电位下阳极形成稳定致密的钝化膜，其主要成分为Ｎｉ（ＯＨ）２，其余为Ｎｉ（ＰＯ４）２，ＭｏＯ２及部分结合水，阳极电位正移，阳极表面膜厚度增加，结合水减少，在０．２Ｖ左右，阳极溶解电流剧增，局部腐蚀严重。     

非晶态镀层的进展

概述了非晶态镀层的发展趋势，重点讨论了金属－金属系中Ｆｅ－Ｗ、Ｆｅ－Ｍｏ、Ｎｉ－Ｗ、Ｎｉ－Ｍｏ、Ｃｏ－Ｗ，金属－半金属系中Ｎｉ－Ｐ、Ｃｏ－Ｐ、Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ、Ｎｉ－Ｗ－Ｐ、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｒ－Ｐ，Ｃｒ－Ｃ等非晶态镀层的组成，结构，特性等。     

电沉积Ni—Mo—P—SiC复合镀层的热力学分析

计算并绘制了Ｎｉ－ Ｐ－ Ｈ２Ｏ系电位－ ｐＨ图,从热力学角度分析了电沉积Ｎｉ－ Ｍｏ－ Ｐ－ ＳｉＣ复合镀层的机理。结果表明,磷不能单独从水溶液中沉积出来,但它可以与镍以Ｎｉ３Ｐ的形式实现共沉积。     

化学镀非晶质电阻膜的现状与展望

叙述了化学镀非晶质电阻膜分类和制作技术，其中包括Ｎｉ－Ｐ，Ｎｉ－Ｗ－Ｐ，Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ，Ｎｉ－Ｃｒ－Ｐ，Ｎｉ－Ｂ，Ｎｉ－Ｗ－Ｂ，Ｎｉ－Ｍｏ－Ｂ，Ｎｉ－Ｂ－Ｐ，Ｎｉ－Ｐ－ＳｉＣ以及Ｎｉ－Ｂ－ＳｉＣ等非晶质电阻膜的化学镀技术。介绍了化学镀非晶质电阻膜的形成机理。归纳了化学镀非晶质电阻膜的优点，指出了今后的发展方向。     

非晶态镀层发展趋势

概述了非晶态镀层的发展趋势，重点讨论了金属－－金属系中Ｆｅ－Ｗ、Ｆｅ－Ｍｏ、Ｎｉ－Ｍｏ、Ｃｏ－Ｗ，金属－半金属系中Ｎｉ－Ｐ、Ｃｏ－Ｐ、Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｒ－Ｐ、Ｃｒ－Ｃ等非晶态镀层的组成、结构、特性等。     

搅拌对Ni—P—MoS2化学复合镀的影响

论述了各种搅拌方法，如空气氧、氮和电磁搅拌对Ｎｉ－Ｐ－ＭｏＳ２化学复合镀层性能、外表的影响，通过试验对比得出，镀液的搅拌非常重要，是必不可少的，而对Ｎｉ－Ｐ－ＭｏＳ２复合镀镀槽来说，空气搅拌比其它搅拌方式要好。文中对几种搅拌方法所取得的试验进行了分析比较。     

化学镀Ni－Mo－P合金阳极溶解行为的XPS研究

利用ＸＰＳ等手段研究了化学镀Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金在Ｈ＿２ＳＯ＿４溶液中的阳极溶解行为。结果显示，稳定电位下阳极形成稳定致密的钝化膜，其主要成分为Ｎｉ（ＯＨ）＿２，其余为Ｎｉ（ＰＯ＿４）＿２、ＭｏＯ＿２及部分结合水。阳极电位正移，阳极表面膜厚度增加，结合水减少，在０．２Ｖ左右，阳极溶解电流剧增，局部腐蚀严重。此时，表面膜的主要成分为Ｎｉ＿３（ＰＯ＿４）＿２，其余为Ｎｉ（ＯＨ）＿２及ＭｏＯ＿２。合金在阳极溶解过程中出现磷（钼）在合金的富集。     

Mo—Ni／Al2O3催化剂的TPR特性与加氢脱硫性能

应用ＴＲＰ、ＸＰＳ及ＸＲＤ等技术研究了用浸渍法制备了的Ｎｉ／Ａｌ２Ｏ３、Ｍｏ／Ａｌ２Ｏ３和Ｍｏ－Ｎｉ／Ａｌ２Ｏ３３种催化剂的还原性能，并将Ｍｏ－Ｎｉ／Ａｌ２Ｏ３双金属催化剂与同类型的Ｍｏ－Ｃｏ／Ａｌ２Ｏ３和Ｗ－Ｎｉ／Ａｌ２Ｏ３催化剂进行了比较。结果表明：在Ｍｏ－Ｎｉ－Ａｌ２Ｏ３中，ＭｏＯ３呈高度分散状态，ＮｉＯ的加入减弱了Ｍｏ与载体间的强相互作用，并在催化剂表面形成了两种易还原的复合物，大大降低了     

电沉积锌—镍—钴三元合金的研究

通过对镀液组成及电镀参数的研究，确定了电沉积Ｚｎ－Ｎｉ－Ｃｏ三元合金的工艺条件，获得的三元合金镀层其耐蚀性明显优于Ｚｎ－Ｎｉ合金镀层，且随钴含量增加耐蚀性增强。     

化学镀Co－P／Ni－P磁记录介质的研究

对用化学镀制取Ｎｉ－Ｐ／Ｃｏ－Ｐ磁记录介质的工艺进行了研究。结果表明，对基片进行合适的预处理后，首先化学镀一层Ｎｉ－Ｐ合金层，厚度在２４μｍ左右，然后再化学镀Ｃｏ－Ｐ磁性合金，可获得良好的磁记录性能。     

电镀Ni—Mo合金阴极的制备研究

通过正交实验确定了一种电镀法制备Ｎｉ－Ｍｏ合金活性阴极的配方与工艺条件，该阴极在３０Ｃ，８ｍｏｌ／１ＮａＯＨ溶液中电流密度为０．２Ａ／ｃｍ＾２时析氢电位为－１．１２Ｖ。详细讨论了镀液组份，ｐＨ值，温度及电流密度等因素对Ｎｉ－Ｍｏ合金阴极析氢活性的影响。     

铜电极上Zn—Ni—P合金电沉积行为的研究

采用循环伏安法研究了铜电极上Ｚｎ－Ｎｉ－Ｐ合金电沉积行为。结果表明：在Ｚｎ－Ｎｉ合金镀液中加入ＮａＨ２ＰＯ２，Ｚｎ－Ｎｉ－Ｐ电沉积的阴极极化减小，对合金电沉积起活化作用，有利于Ｚｎ－Ｎｉ－Ｐ合金镀层的形成，所获得的Ｚｎ－Ｎｉ－Ｐ合金层与Ｚｎ层，Ｚｎ－Ｎｉ合金层相比阳极溶解峰电位正移，使含磷的锌基合金的耐蚀性大大提高。     

Ni—Co—B合成电镀工艺

概述了Ｎｉ－Ｃｏ－Ｂ合金电镀工艺，Ｎｉ－Ｃｏ－Ｂ合金镀具有高光亮性和反射性，高硬度和延展性，高耐蚀性，耐热性和耐磨性。     

Mi—Mo合金电沉积层的X—射线光电子能谱研究

利用Ｘ－射线光电子能谱对Ｎｉ－Ｍｏ沉积层表层中Ｎｉ、Ｍｏ的存在形式进行了分析,并对其表面进行了Ａｒ＾＋离子刻蚀深度分析,结果表明：Ａｒ＾＋离子未溅射时,沉积层中的Ｎｉ和Ｍｏ分别以Ｎｉ（ＯＨ）２和ＭｏＯ３（或ＭｏＯ＾２－４）形式存在：Ａｒ＾＋离子浅射３ｍｉｎ后,沉积层中的Ｎｉ和Ｍｏ分别以ＮｉＯ和ＭｏＯ２形式存在;Ａｒ＾＋离子溅射１５ｍｉｎ后,沉积层中的Ｎｉ和Ｍｏ分别以单质Ｎｉ和单质Ｍｏ形式存在。