真空离子镀膜经验讲习班公告

<正>讲课内容:真空基础知识、薄膜沉积技术、离子镀膜机结构、离子镀膜一般工艺制订、离子镀代替电镀、离子镀超硬涂层、磁控溅射新技术、装饰膜材及色调、离子镀膜应用等。也可根据客户要求确定讲课内容。(2)现场操作实习:参观三束材料表面改性国家重点实验室,工具镀膜生产加工厂及镀膜机制造厂,镀膜专利工艺、操作决窍分析。     

真空离子镀膜经验讲习班公告

<正>讲课内容:真空基础知识、薄膜沉积技术、离子镀膜机结构、离子镀膜一般工艺制订、离子镀代替电镀、离子镀超硬涂层、磁控溅射新技术、装饰膜材及色调、离子镀膜应用等。也可根据客户要求确定讲课内容。(2)现场操作实习:参观三束材料表面改性国家重点实验室,工具镀膜生产加工厂及镀膜机     

真空离子镀膜经验讲习班公告

<正>讲课内容:真空基础知识、薄膜沉积技术、离子镀膜机结构、离子镀膜一般工艺制订、离子镀代替电镀、离子镀超硬涂层、磁控溅射新     

真空离子镀膜经验讲习班公告

<正>讲课内容:真空基础知识、薄膜沉积技术、离子镀膜机结构、离子镀膜一般工艺制订、离子镀代替电镀、离子镀超硬涂层、磁控溅射新技术、装饰膜材及色调、离子镀膜应用等。也可根据客户要求确定     

径流分子泵在多弧离子镀膜设备的最新应用

通过对新开发问世的径流分子泵进行介绍,其独特抽气特性,为多弧离子镀的工艺优化提供了理论依据。传统多弧离子镀的抽气工艺和镀膜工艺,是在扩散泵和涡轮分子泵抽气能力的制约下总结出来的。径流泵机组的问世,为多弧离子镀膜提供了更加宽广的镀膜工艺选择空间。这样就有必要对抽气工艺和镀膜工艺进行重组和优化,进一步提升多弧离子镀膜设备的性能和经济效益。     

第二十讲 真空离子镀膜

正(接2020年第3期第96页)13.5.3过滤式真空电弧离子镀膜技术A过滤式电弧离子镀膜机结构型式典型的过滤式真空电弧离子镀设备结构如图47所示。其核心结构是一个A ksenov过滤器。它是一个具有螺旋管电磁线圈的不锈钢或石英弯管。电磁线圈提供控制等离子体流运动的外加     

《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行

由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(CVD)、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。书中还系统地介绍了反应溅射镀膜、非平衡磁控溅射和中频交流溅射镀膜技术。《真空镀膜设备》详细介绍了真空镀膜设备的设计方法与镀膜机各机构元件的设计计算、设计参数的选择,其中还重点系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和膜厚均匀性设计。     

离子镀技术中基板偏压作用的研究

本文进行了离子镀机理的研究。用俄歇电子谱仪测定了不同工艺的离子镀膜与基板界面的过度层；用急冷忽热试验法评定了不同工艺的离子镀膜与基板间的结合力，用扫描电镜观察了不同离子镀基板偏压的膜层组织形貌。通过实验证明了离子镀中基板偏压有着以下几点重要作用：加基板偏压可以清除基板表面的氧化物污染层，直流二极型离子镀可以使固态不互溶金属组成的膜－基界面形成“伪扩散层”，其膜－基界面结合力比空心阴极离子镀膜－基结合力高；直流二极型离子镀随着基板偏压的提高可以细化膜层织组、消除柱状晶，提高镀层致密度。     

真空离子镀铬合金厚膜替代电镀硬铬工艺研究(一)

离子镀功能厚镀膜主要用于提高工件耐磨性和耐蚀性,膜层厚度40μm以上。离子镀铬合金厚镀膜代替电镀硬铬工艺研发,已取得满意成果,可以投入工业生产,可以向社会提供技术及专用设备。     

氮化钛涂复超硬刀具的研究

一、前言 自从Mattox将辉光放电技术与蒸发镀膜技术相结合创立离子镀以来,在工业发达国家里,离子镀技术受到了极大的重视。目前,在各种有效的离子镇方法中,活性反应镀(ARE)工艺、空心阴极离子镀(HCD)工艺和磁控溅射离子镀工艺最引人注目。其中采用 HCD 工艺制成了各种超硬的化合膜,例如:TiN,TiC,Al2O3等膜。HCD法的TiN涂复工艺已在装饰镀膜、超硬工具、模具等方面得到了广泛地应用。 八十年代初,我所研制成功了空心阴极离子镀设备。主要用来镀表带、表壳等金黄色氮化钛装饰膜。在此基础上,又研制了TiN涂复刀具的HCD设备,并在TiN…     

LSA—1型电弧离子镀膜机结构研制

简述了电弧离子镀的进展及其特点;介绍了它的工作原理,着重论述了电弧离子镀膜机的基本结构及作用和真空泵的选择,最后指出了它的应用前景。     

北京市华瑞真空技术公司简介暨地址变迁启事

本公司是北京市科委认定的高新科技企业 ,是生产真空设备的专业厂家。公司的科技人员均多年在真空行业从事产品设计、制造工作 ,可根据用户需要设计、生产各种用途的真空设备。产品设计的指导思想 :技术的先进性 ;整机质量的高稳定性 ;运行的高可靠性 ;工艺的高重复性。产品特点 :一体性强 ;单元化设计 ;安装方便 ;操作简单 ;便于维护 ;通用性好。主要产品系列 :多弧离子镀膜机 ;磁控溅射镀膜机 ;电阻蒸发和电子枪蒸发镀膜机 ;光学离子镀膜机、油扩散泵机组。　　本公司重合同 ,守信誉。注重售后服务 ;提供售前咨询新迁地址 :北京市朝阳区潘…     

新型等离子体束溅射镀膜机

本文介绍了新型的等离子体束溅射镀膜机的系统组成、特点、试验结果等内容.该镀膜机将等离子体发生和控制技术应用于溅射镀膜中,克服了磁控溅射的靶材利用率低及难以沉积铁磁性材料的缺点.使用该镀膜机成功地进行了溅射镀膜的试验,试验结果得到了刻蚀均匀性较高的靶材,其靶偏压与靶电流的关系与国外结果相吻合.     

应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析

针对几种应用于工具镀膜的磁场控制的电弧离子镀弧源,分析了其结构、工作原理以及弧斑运动、放电特性;比较了不同磁场辅助受控弧源的靶结构及磁场位形,并讨论了对弧斑运动、放电及镀膜工艺的影响;对磁场控制的电弧离子镀弧源的发展进行了展望。     

在陶瓷基片上离子镀铜及工艺实验

本文从离子镀技术的基本原理出发,用普通真空镀膜机设计,改装成离子镀设备。为了实现对非导体陶瓷基片进行离子镀膜,根据非导体本身不可能传送自由电子的特性,设计了法拉第网和对基片烘烤。经过100多次工艺实验,终于在陶瓷基片上获得附着力2Kg/mm~2的离子镀铜膜并总结出工艺参数。     

M2高速钢离子渗氮与离子镀TiN复合工艺

在改进后的DLKD800型离子镀膜机中，对M2高速钢基体材料施以离子修氮与离子镀TiN复合工艺。研究表明离子渗镀复合处理后，可使高速钢W6Mo5CR4v2（即M2）试样TiN膜硬度的测试情、基体表面硬度值（渗氮层部分）、膜基间的复合强度都有明显地提高。高速钻头经离子渗镀复合工艺后，使用寿命有显著提高。     

多弧离子镀膜机阴极弧源的改进及其工艺的实验研究

本文叙述了对多弧离子镀膜机阴极弧源所做的实验研究，提出了如何降低靶极工作电流、提高靶材利用率、减小蒸发粒子的颗粒度以及提高成膜质量的方法。详细介绍了在我所研制的ＨＬＺ－７５０型八个弧源的多弧离子镀膜机上所做的 ＴｉＮ超硬涂层及装饰涂层的工艺研究及实测结果。     

《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行

<正>由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(CVD)、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。书中还系统地介绍了反应溅射镀膜、非平     

同轴磁控溅射离子镀膜在装铈膜和超硬膜中的应用

同轴式磁控溅射离子镀膜机是磁控溅射和离子镀膜相结合的一种镀膜设备。从不小于1.5×2m 大面积基底上所镀膜层的均匀性和实际应用的可行性来看,是一种较好的成膜手段。1.国内现状目前国内生产蒸发式镀膜设备的厂家不少。这种方法是以高纯铝丝或铁铬镍合金丝等作为膜材,在大面积上镀镜或镀建材玻璃膜。普遍认为蒸发膜存在着如下问题:     

《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行

<正>由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(CVD)、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析