CVD金刚石薄膜技术发展现状及展望（上）

简要描述了CVD金刚石薄膜技术的发展历程。介绍了纳米特别是超纳米金刚石膜、CVD金刚石大单晶的技术特点及其应用。超纳米金刚石膜在MEMS（微机电系统）、电化学和生物医学上的应用和CVD金刚石大单晶是当前的研究热点。简言之,金刚石的发展向着更大或者更小的方向深入进行,即＂非大即小＂。     

论CVD金刚石合成技术及其发展趋势

阐述HPHT金刚石发展的局限性与CVD金刚石的进展历程。论述以CVD技术合成金刚石的方法及其发展趋势,包括提高CVD速度和改进CVD金刚石性质。     

CVD金刚石技术和应用（下）

通过大量文献资料和有关网页,叙述了近年来国内外化学气相沉积金刚石的制备、加工和应用技术研究的进展、商业化现状等。文章列举了大量图片和数据,试图展示近几年CVD金刚石有关方面的信息。文章显示,CVD金刚石技术研究和商业开发虽然都取得了长足的进步,但仍然有巨大的发展空间,特别是在传统的金刚石无法涉足的一些高技术应用领域。     

化学气相沉积金刚石薄膜研究及应用

本文论述和研究了化学气相沉积金刚石薄膜的不同途径，并对各种不同方法进行了分析和评价。同时，对金刚石薄膜在工业上的应用进行了介绍。研究表明，金刚石镀膜技术在工业上有着巨大的应用潜力。     

CVD金刚石技术和应用

通过大量文献资料和有关网页,叙述了近年来国内外化学气相沉积金刚石的制备、加工和应用技术研究的进展、商业化现状等。文章列举了大量图片和数据,试图展示近几年CVD金刚石有关方面的信息。文章显示,CVD金刚石技术研究和商业开发虽然都取得了长足的进步,但仍然有巨大的发展空间,特别是在传统的金刚石无法涉足的一些高技术应用领域。     

CVD金刚石薄膜成核机理的研究

利用微波等离子体化学气相沉积（ＣＶＤ）设备,在硅基片上进行了金刚石薄膜的沉积实验。结果表明,在基片温度约为９５０℃,碳源浓度为１％,反应室内气体压力为４６６６．２８Ｐａ时可获得高质量金刚石薄膜。研究认为,在该实验条件下,氢原子脱附几率大,形成的碳县键不易倒伏,容易被碳原子替代,从而形成ＳＰ＾Ｅ杂化健,因而有利于提高金刚石的成核密度。     

CVD金刚石制备方法及其工业化前景分析

文章对多种CVD金刚石膜制备方法进行了介绍,同时对近年来国内外CVD金刚石技术及其产业发展状况、应用领域开发、潜在的市场前景等方面进行了分析讨论。指出：作为21世纪的高新材料,CVD金刚石及其工具产品的产业化发展,必将在科技、军工及民用工业等技术领域起非常重要的作用。     

CVD金刚石新近应用探析（工业金刚石战略发展思考之二）

概述工业金刚石从天然金刚石到HPHT金刚石再到CVD金刚石的发展。对比分析聚晶质CVD金刚石和单晶质CVD金刚石的力学性质与电子学性质。介绍聚晶质和单晶质CVD金刚石的新近应用,涵盖复合材料、医疗、电化学、热控技术、微电子机械系统（MEMS）、光学、电子学和声学等领域。阐述超纳米结晶金刚石（UNCD）的特性及其在MEMS、生物传感器、机械密封件与耐磨层以及超光滑金刚石薄膜应用的优异性能。     

CVD金刚石切削工具

阐述金刚石切削工具在机加工中的重要作用和CVD金刚石的优异性能以及CVD金刚石切削工具的形式。对CVD金刚石薄膜切削工具和CVD金刚石厚膜切削工具的特点和应用范围进行了分析对比，并指出存在问题和发展前景。     

CVD纳米金刚石涂层工具研究进展

概述了CVD纳米金刚石涂层工具的研究开发现状、存在的主要问题,重点介绍了硬质合金基体表面预处理方法及纳米金刚石生长工艺参数对CVD纳米金刚石涂层工具结构和性能的影响。其中,介绍了硬质合金基体表面预处理方法主要有酸液浸蚀去钴、施加中间过渡层、机械或等离子体处理、负偏压等;纳米金刚石生长工艺参数则主要从碳源浓度、基体温度、反应气压三方面进行了介绍;最后,对CVD纳米金刚石涂层工具发展趋势和应用前景作出了展望。     

高速生长CVD金刚石单晶及应用

文章简要地介绍了近年来国内外CVD金刚石单晶的高速生长和应用进展。实验中采用微波等离子体化学气相沉积（CVD）方法,同质外延高速生长金刚石单晶,通过改变反应腔压强、反应气氛（在CH4/H2中引入氮气N2、二氧化碳CO2、氧气O2、）等,调制单晶生长速率、质量、颜色、表面粗糙度、光谱等特性。利用高温氢等离子体进行退火,可使金刚石单晶的颜色有很大的改善。研制了CVD金刚石单晶刀具,用于金属材料的曲面镜面加工。     

CVD金刚石膜超精密度刀具技术研究

文章对CVD金刚石的物理特性进行了描述,研究了CVD金刚石膜制作超精密刀具的工艺技术方法,设计了生产工艺流程,对生产的CVD金刚石膜直刃和圆弧超精密刀具的精度及加工件的精度进行了测试,表明CVD金刚石膜是一种非常优异的超精密刀具的制作材料,应用前号非常广阔。     

CVD金刚石应用前景探讨

阐述CVD金刚石发展及其在工业金刚石中的重要地位。聚晶质和单晶质CVD金刚石在切削工具、散热元件、耐磨零件、高强度复合线材以及检测器等方面已取得成功的应用,但有些问题仍待解决。对单晶质CVD金刚石的突出性能及其在高科技应用的可能性与发展远景作了评述。     

CVD金刚石薄膜与硬质合金的结合力的改善途径

化学气相沉积金刚石涂层硬质合金工具综合了金刚石和硬质合金的优异性能,可广泛应用于难加工材料的切削、电子工业等诸多领域。制造金刚石薄膜涂层工具的关键在于增强金刚石膜与硬质合金基体间的结合力。文章综述了增强化学气相沉积金刚石膜与硬质合金基体结合力的多种措施。     

影响CVD金刚石膜完整性的几个关键问题

直流喷射化学气相沉积金刚石膜,其完整性一直是个难以解决的技术难题,并且直接影响了其推广应用。文章通过研究金刚石膜的质量、衬鹿与膜的结合力、以及衬鹿的膨胀系数等,分析了影响金刚石膜完整性的几个关键因素。