真空离子镀膜经验讲习班公告

<正>讲课内容:真空基础知识、薄膜沉积技术、离子镀膜机结构、离子镀膜一般工艺制订、离子镀代替电镀、离子镀超硬涂层、磁控溅射新技术、装饰膜材及色调、离子镀膜应用等。也可根据客户要求确定讲课内容。(2)现场操作实习:参观三束材料表面改性国家重点实验室,工具镀膜生产加工厂及镀膜机制造厂,镀膜专利工艺、操作决窍分析。     

真空离子镀膜经验讲习班公告

<正>讲课内容:真空基础知识、薄膜沉积技术、离子镀膜机结构、离子镀膜一般工艺制订、离子镀代替电镀、离子镀超硬涂层、磁控溅射新技术、装饰膜材及色调、离子镀膜应用等。也可根据客户要求确定讲课内容。(2)现场操作实习:参观三束材料表面改性国家重点实验室,工具镀膜生产加工厂及镀膜机     

真空离子镀膜经验讲习班公告

<正>讲课内容:真空基础知识、薄膜沉积技术、离子镀膜机结构、离子镀膜一般工艺制订、离子镀代替电镀、离子镀超硬涂层、磁控溅射新技术、装饰膜材及色调、离子镀膜应用等。也可根据客户要求确定讲课内容。(2)现场操作实习:参观三束材料表面改性国家重点实验室,工具镀膜生产加工厂及镀膜机制造厂,镀膜专利工艺、操作决窍分析。     

真空离子镀膜经验讲习班公告

<正>讲课内容:真空基础知识、薄膜沉积技术、离子镀膜机结构、离子镀膜一般工艺制订、离子镀代替电镀、离子镀超硬涂层、磁控溅射新技术、装饰膜材及色调、离子镀膜应用等。也可根据客户要求确定     

多层复合真空离子镀膜技术的新发展

本文回顾了多弧——磁控溅射多功能离子镀膜设备的结构和功能，并且对该设备在氮化钛掺金离子镀（IPG）方面的典型应用，做了较为详细的膜层性能分析。同时，本文了对近年来一种新型的多功能离子镀设备——复合式离子镀膜设备的结构及特点做了介绍，给出了该类型设备的典型应用场合，并且向读者介绍了使用该设备镀制的金属/金属陶瓷多层膜的优异性能。     

同轴磁控溅射离子镀膜在装铈膜和超硬膜中的应用

同轴式磁控溅射离子镀膜机是磁控溅射和离子镀膜相结合的一种镀膜设备。从不小于1.5×2m 大面积基底上所镀膜层的均匀性和实际应用的可行性来看,是一种较好的成膜手段。1.国内现状目前国内生产蒸发式镀膜设备的厂家不少。这种方法是以高纯铝丝或铁铬镍合金丝等作为膜材,在大面积上镀镜或镀建材玻璃膜。普遍认为蒸发膜存在着如下问题:     

第二十讲 真空离子镀膜

(接2019年第6期第86页)b对电弧蒸发源的技术要求在正常镀膜气压下(5×10-1Pa),靶电流的可调范围较大(如以直径60mm圆形钛靶为例,靶电流范围35A^100A),而且在靶电流低(靶电流下限)时能稳定弧的运动;在高真空下(10-3Pa),可正常稳弧;磁场可调,靶面弧斑线细腻,弧斑线向靶心收缩且向靶边扩展运动均匀,靶面刻蚀均匀。     

过滤式真空电弧离子镀膜技术及应用

介绍了一种新的镀膜技术—过滤式真空电弧离子镀膜技术。针对典型的过滤式真空电弧镀膜装置，描述了其结构组成，分析了它的工作原理。分析结果表明，该技术与传统真空电弧离子镀膜技术相比，可有效地消除宏观颗粒对镀层的污染，可广泛应用于制作各种微电子膜透明导电薄膜（ＩＴＯ）以及类金刚石（ＤＬＣ）薄膜。     

第二十讲 真空离子镀膜

f圆形平面可控电弧蒸发源圆形平面可控电弧蒸发源的原理如图40所示。其磁场由静止的外磁环和往复运动的中心磁柱构成。靶材上方的磁场可分解为水平磁场B//和垂直磁场B⊥。B∥束缚部分电子并使其作圆周运动,致使阴极辉点作圆周运动。B⊥迫使作圆周运动的电子作径向运动,导致阴极辉点的径向运动。     

全玻璃SS-AlN金属陶瓷真空太阳集热管

不锈钢-氮化铝(SS-AlN)金属陶瓷太阳选择性吸收涂层于1995年在实验室制备成功,采用真空磁控溅射沉积。太阳吸收复合膜采用干涉吸收型膜层结构,由不同金属含量的两层金属陶瓷层组成吸收层。金属陶瓷吸收层采用在镀膜室中SS和Al金属靶,在溅射气体Ar和反应气体N2中同时溅射运行,SS靶非反应溅射沉积SS金属组分,Al靶反应溅射沉积AlN陶瓷组分。实验室沉积的SS-AlN吸收涂层的太阳吸收比高达94%～96%,室温辐射比3.5%～4.0%。皇明公司2001年开始产业化生产全玻璃SS-AlN真空太阳集热管。我们开发了立式集热管连续镀膜线,第一条镀膜线于2007年调试成功,投入生产。集热管镀膜线真空系统长约41 m,高约3 m。每条线日产约为1.8～2.0万支。     

纳米结构PVD涂层可保护精密机加工产品

台湾纳米超晶格工艺公司开发出一项工艺，利用该工艺可在高真空环境中以离子注入和磁控溅射结合用于钛、铝、钒等的氮化物薄膜沉积。该公司可以用纳米结构PVD涂层包覆半导体、精密机床和长途通信等设施元件。     

第十九讲 真空溅射镀膜

正(接2014年第4期第96页)(3)杂质的影响。杂质气体掺入膜中,影响膜的性能,影响膜与基片的结合强度。杂质会成为新的成核中心。(4)带电粒子的影响。快电子轰击基片导致温升,离子会引起反溅射。(5)荷能粒子的影响。能量足够大的溅射气体原子,轰击基片时,会渗入膜层或引起反溅射,使薄膜受损伤,产生缺陷改变膜的结构。4.5溅射沉积速率沉积速率是表征成膜速度的参数,薄膜材料     

真空舱几何结构对离子推力器背溅射沉积影响的计算研究

有效降低溅射沉积影响是离子推力器地面寿命试验需要解决的关键技术问题。本文建立了真空舱壁上溅射物沉积到离子推力器表面的计算模型。结合LIPS-200推力器束流特性和石墨材料内衬,应用该模型分别计算和分析了平面靶圆柱型、平面靶圆锥台型、球面靶圆柱型、凸锥靶圆柱型、凹锥靶圆柱型五种真空舱几何形状与尺寸对离子推力器背溅射沉积的影响关系规律,得到了对具体设计LIPS-200推力器寿命试验真空舱具有指导作用的重要结论。     

真空电弧离子镀膜方法沉积类金刚石膜在PMMA树脂义齿表面的应用

采用电弧离子镀膜方法,以高纯石墨为碳离子源在PMMA树脂义齿表面沉积类金刚石膜.应用xps谱和Raman谱对膜层的结构进行了理论分析,对镀膜样品进行了抗磨性能实验、病理实验和临床实验.结果表明为了提高样品的膜基结合强度,必须在DLC膜与基材之间增镀一层钛氧化物作为过渡层,必须严格控制工作电压、工作室的真空度和气氛配比.     

射频磁控溅射超硬TiB2薄膜的T区结构特征

用磁控溅射技术在钢基片上沉积出具有T区结构的TiB2薄膜,研究基片偏压对薄膜的影响。使用X射线衍射技术和扫描电镜分析薄膜的特性。发现在本研究工艺条件下,所有的薄膜均呈（001）晶面择优生长。当基片偏压在-50V时,薄膜的硬度为50GPa,抗塑性变形的能力为0．65GPa。加大基片偏压,导致薄膜晶粒尺寸减小,同时薄膜的硬度和抗塑性变形的能力也下降。扫描电镜分析显示,基片温度对T区结构的影响是明显的,提高基片温度,当Ts／Tm=0．18时,薄膜中出现”等轴”结构。     

Fe3+离子敏感Ge-Sb-Se-Fe系薄膜的真空热蒸发制备研究

本文通过在低温下烧结靶材,利用电子束蒸发方法制备了Ge/Sb/Se/Fe比例可控的Fe3 离子敏感Ge-Sb-Se-Fe系薄膜.用XRD和PHS-9V型酸度计研究薄膜的结构和性能.研究表明薄膜的Fe3 离子敏感性能为(50.375±4.125) mV/十倍浓度,线性响应Fe3 浓度范围(10-2～10-6) mol/L.     

基于金属材料热处理节能新技术的运用分析

文中基于金属材料热处理节能新技术的,主要分析了我国金属材料热处理技术的以下应用：化学热处理薄层渗入技术、热处理的超硬涂层技术、热处理的振动时效处理技术、热处理的 cad技术、真空热处理技术的应用、激光热处理技术等方面,这一研究对于金属材料的热加工技术的应用具有一定的借鉴意义。     

真空电弧镀沉积高温防护涂层技术

介绍了弧光放电型离子镀A1000设备，研究了沉积MCrAlY高温涂层工艺，沉积参数对涂层质量、涂层成分及涂层性能的影响。研究结果表明，采用该工艺制备MCrAlY多元包覆型涂层，工艺参数易于控制，沉积效率高，零件装载量大，制备的涂层具有优良的抗高温氧化性能。     

《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行

正由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(CVD)、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。书中还系统地介绍了反应溅射镀膜、非平衡磁控溅射和中频交流溅射镀膜技术。