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3.对清洗设备的要求和清洗设备的导入.验收。3.1对清洗设备的要求。替代ODS清洗改造项目一般都需要针对项目的具体情况重新制造清洗设备,直接利用原有清洗设备或稍加改造就能达到替代ODS清洗目的的情况很少。通过清洗工艺试验和清洗质量评价确定的清洗工艺方案,是设计制造新清洗设备的基本依据之一;而另外一个更原始的基本依据则是 相似文献
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鉴于“中国清洗行业ODS整体淘汰计划”已经出台,而清洗行为对ODS替代技术方面仍存在诸多问题,形势严峻。本文就目前ODS 的一般知识和替代技术选择方案进行了概述。 相似文献
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文章介绍了集成微电路基板清洗领域的ODS替代清洗技术,着重介绍了十槽式超声波清洗机在高精度的集成电路清洗工艺中的具体应用。 相似文献
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本文概要叙述并列举了当今ODS清洗剂有关替代技术及信息,以兹我国ODS清洗剂替代工作之参考。 相似文献
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本文章主要叙述目前替代ODS清洗剂的几种方法。其中乳化工艺清洗技术替代ODS清洗PCB组件是一种比较好的方法。本文着重对本公司在实施过程中的调研方案确定,清洗剂选择,以及“三防”试验工作,进行了探讨。 相似文献
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介绍了常用的光刻版清洗工艺,并详细讲解了全自动光刻版清洗机的工作过程。同时,简单介绍了为提高光刻版清洗效果而设计的浸泡系统、药液供给与循环系统和温控系统。 相似文献
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张雅丽 《电子工业专用设备》2011,40(7):20-22
论述了半导体湿法清洗设备的特点及模块化设计方法在半导体湿法清洗设备中的应用方式,阐明了模块化设计方法在半导体湿法清洗设备中应用的特点及注意事项。 相似文献
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本文根据使用经验对溶剂清洗设备的安全、环保等方面存在的缺欠提出了可行的改进方案,使溶剂清洗设备的结构趋于完善,并提供了安全、环保等方面的保障,既保护了操作人员的身体健康,又避免了对环境的破坏。 相似文献
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基于微通道板的清洗工艺,设计了清洗设备的结构,并对设备的核心部件详细说明.利用液体射流喷射实现喷淋清洗,采用液体液下喷射循环实现液体的紊流,减少了搅动和传动系统为系统带来的复杂性.利用超声和兆声双频率清洗实现了对MCP不同粒径腐蚀产物和污染物的清洗,工作槽斜底式设计和频率扫描改进槽内声场的均匀性,功率精度达到±10%.储液槽预热结合在线加热,使液体温度精度达±0.5℃,改善了MCP清洗主要工艺参数的稳定性和一致性,体现了湿法清洗的独创性和实用性,实现了清洗工艺过程的半自动化. 相似文献
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系统的介绍了ZJL02型管路清洗机的构造、用途和使用方法,该工艺装备适用于铁路机车车辆、汽车、消防车、石油机械、化工设备等行业。投入使用后能使机械净化工艺创新,整体机械设备的内在质量能大幅度提高,有利于环保事业,性能价格比突出。 相似文献
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