温度对玻璃-金属封接性能的影响研究

温度是影响玻璃-金属封接性能的主要工艺参数。通过对DM305玻璃和可伐合金的封接件(尺寸分别为?5,?10,?20 mm×8 mm)在封接温度960℃与980℃下的封接状况进行模拟和实验,分析了两种温度条件下封接所需的有效时间。考察了相同封接时间下不同温度对封接的影响规律。结果表明980℃封接温度可以有效缩短封接时间,并使玻璃与金属之间结合效果良好,取得较好的封接效果。     

低碳含金阳极帽封接气泡的产生与控制

本文研究低碳封接合金阳极帽产生封接气泡的原因及控制措施。结果表明，低碳含金阳极帽产生封接气泡，主要是由于氧化膜破损和封接温度偏高造成，其实质是由于氧化膜表面因破损产生凹坑、膜上附着物等缺陷，封接时这些地方吸附的气体未能逃逸形成了气泡。通过降低封接温度和控制送料斗振动强度的措施，基本解决了封接气泡大量产生的问题。     

低碳合金阳极帽封接气泡的产生与控制

本文研究低碳封接合金阳极帽产生封接气泡的原因及控制措施。结果表明，低碳合金阳极帽产生封接气泡，主要是由于氧化膜破损和封接温度偏高造成，其实质是由于氧化膜表面因破损产生凹坑、膜上附着物等缺陷，封接时这些地方吸附的气体未能逃逸形成了气泡。通过降低封接温度和控制送料斗振动强度的措施，基本解决了封接气泡大量产生的问题。     

可伐合金的可控氧化对封接质量的影响

研究了可伐合金表面氧化膜的类型和厚度对玻璃与可伐合金封接质量的影响.结果表明,氧化膜的类型和厚度直接影响金属与玻璃的封接质量.相对于工厂氧化条件,在可控条件下氧化的可伐合金与玻璃封接后的气密性一致性和可靠性较高.随着氧化膜厚度的增加,玻璃沿引线的爬坡高度逐渐增加,当控制氧化膜厚度不超过1.5μm时,爬坡高度都小于200...     

用活性合金法的蓝宝石和金属的封接——陶瓷和金属的封接(第一篇)

蓝宝石是氧化鋁单晶体組成的。它具有耐蝕性强,热电阻高,强度特別大以及优良的电气特性和导热性能。蓝宝石和金属的封接是极其困难的。本文作者鑑于对利用蓝宝石和扩大蓝宝石应用的要求,将蓝宝石和钛金属采用活性合金封接法(以钛-鎳合金作焊剂)进行封接,并且用光学显微鏡,电子显微鏡和X射綫微型解析器进行了观察和检查。其結論如下: (1) 采用活性合金法(以钛-鎳合金为焊剂)可以使蓝宝石与钛达到真空气密封接; (2) 封接表面是平整的,但也要稍微有点粗糙度,可以获得良好的真空气密性和封接强度; (3) 蓝宝石和钛金属封接部件中。观察到了五层界面层,这些层中鋁、氧、钛和鎳元素具有特殊的分布。特別是钛金属选择性地吸附在蓝宝石和金属界面間,而且在那里钛的浓度大于鎳的浓度; (4) 在蓝宝石和金属界面上,主要形成固溶体层或钛-鎳-氧化合物,而且在蓝宝石和金属界面間的粘結是很完整的。     

蓝宝石与铌合金的高温封接

通过对蓝宝石的钨金属化,实现了蓝宝石与铌合金的高温封接。实验显示钨金属化活化剂氧化钇的含量对封接件真空气密性、封接强度有着显著影响。此外,封接结构也影响着高温封接件的耐热冲击性能。     

气体放电灯封接技术研究

对石英玻璃等非金属材料与金属材料的几种封接技术进行了介绍。初步分析了封接过程中的重要环节应当采用的工艺手段,列举了各种封接方式的优缺点,介绍了帽罩封接方式新工艺和钼箔封接方式等的改进方法。以期在现有技术基础上,进一步完善光源的封接技术,逐步提高产品的真空气密性、热稳定性、机械强度等可靠性指标和使用寿命。     

可伐合金与玻璃一步封接工艺的研究

研究了玻璃与具有Fe3O4氧化膜的可伐合金的封接工艺。结果表明最佳熔封温度为980℃,熔封时间为30 min。在此基础上,开发出将脱碳、氧化和熔封集于一个升降温周期的一步封接工艺。该工艺是将未氧化的可伐合金和玻坯首先升温至500℃并氧化40 min,而后升温至980℃并保温30 min,最后缓慢降至室温。结果表明,当采用该工艺时,与传统工艺相比不仅能简化操作,而且封接件的封接质量更高、可靠性更好。     

钛零件与95％Al_2O_3瓷封接区域的物相研究

本文应用金相、电子探针和X射线分析等方法,对Ti零件与95%Al_2O_3瓷活性封接的封接区域进行了分析。确定了封接区域的全部物相,部份区域的钛、银、铜的合金比例,以及部份封接区域的宽度和显微硬度值。得到从扩散层到过渡层之间钛、银、铜元素的平均含量为Ti-15%,Ag-56.2%,Cu-28.8%,其宽度为63微米。同时对封接的机理进行了初步的探讨。     

光窗的铟锡合金真空焊接工艺研究

采用真空炉对铟锡合金焊料的焊接技术及在光电光窗封装外壳中的应用进行研究分析。根据光电外壳气密性封装要求,设计了完整的蓝宝石-可伐光窗真空焊接工艺方法和流程。通过大量实验得出了优化的焊接工艺曲线(包括温度、时间、气氛和压强等),讨论了封接表面质量、压块重量、焊料厚度对焊接质量的影响。对采用InSn48合金焊料焊接的蓝宝石-可伐光窗管帽按GJB548B-2005中方法1010.1试验条件A、方法2002.1试验条件E分别进行了温度循环、机械冲击考核,气密性能很好地满足相关要求。该研究在光学镀膜层耐温低的光窗封接领域有潜在的应用价值。     

高比容铝阳极箔复合氧化膜的研究进展及前景

简述了铝电解电容器用高比容阳极箔复合氧化膜的国内外研究现状,介绍了复合氧化膜的制备方法,着重阐述了其中最常用的溶胶-凝胶法、水解沉积法以及电化学沉积法的发展过程和性质特点,分析了国产TiO2-Al2O3复合膜电极箔的性能,跟进口箔相比,复合膜电极箔在经过磷酸浸泡以及电解液水煮之后,各项性能参数波动幅度均较小,表明复合氧化膜电极箔极具市场潜力。     

影响Al-Ti复合氧化膜比容的工艺因素研究

用水解沉积-阳极氧化法制备高介电常数的Al-Ti复合氧化膜,研究了含钛无机盐溶液的浓度、温度、pH值处理时间,以及退火温度对Al-Ti复合氧化膜比容增长率的影响。结果表明,铝腐蚀箔在浓度为0.002mol/L、pH1.5的含钛无机盐溶液中,65℃浸渍处理10min,取出并烘干后的样品,550℃热处理10min,所制得的Al-Ti复合氧化膜比容最大。35V阳极氧化电压下,比容提高率大于30%。     

形成前处理对提高铝箔比容的影响

阳极氧化膜是电解电容器的工作介质，其质量的优劣直接影响着铝电解电容器的性能。若在形成前将腐蚀箔在７５℃左右的Ａ溶液（〔Ａ〕≈０．２ｍｏｌ／Ｌ）中浸泡约１０ｍｉｎ，然后在５７０℃左右热处理３ｈ，阳极氧化膜的结构与性能将得到改善，铝箔比容可提高２５％～５０％，而形成电能降低３０％～５０％，从而可有效提高形成效率。     

高介电性纳米复合氧化膜的研究

首次在溴的丙酮溶液中,以钽作阳极,多孔型氧化铝为阴极,通过直流电沉积方法制备Ta/Al2O3复合氧化膜。结果表明:阳极钽在阴极氧化铝的表面和多孔结构内部均有沉积,并以纳米结构与多孔氧化铝结合生成复合氧化膜。     

螺旋槽位置特征对气膜密封性能影响的仿真研究

为了更有效地进行螺旋槽位置选取及确定气膜密封性能的影响因素,文中对螺旋槽位置特征对气膜密封的性能影响进行仿真研究。通过理论分析以及ANSYS建模软件定义,对两种状态下的压力场模型以及静环开槽和动环开槽两种气膜结构模型进行了建模。在此基础上,利用FLUENT软件仿真研究了静环开槽和动环开槽结构下的静压分布与剪切应力分布情况,并进一步分析了不同操作参数对柱面气膜密封性能的影响。通过仿真结果可以说明,静环开槽的气膜模型要略优于动环开槽的气膜模型,且压差和空气黏度对气膜密封性影响显著。     

柔性支承柱面气膜密封CFD数值分析

针对柔性气膜密封技术在航空发动机中的应用需求,使用CFD数值分析技术分析柔性支承柱面气膜的密封性能。首先在Proe中建立柱面气膜的密封参数化模型,并分析了气膜密封原理;然后基于有限元分析的Linear Soid划分方法,使用ANSA网格划分软件来划分网格,得到柔性支承柱面的静压、速度和剪应力分布等数据,并分析柱面结构参数与操作参数对柔性支承柱面气膜密封性能的影响。实验结果表明,粘度、压差和转速等操作参数能明显影响柔性支承柱面气膜的密封性能。     

Flexible organic light-emitting diodes on a polyestersulfone (PES) substrate using Al-doped ZnO anode grown by dual-plasma-enhanced metalorganic deposition system

This study proposes flexible organic light-emitting diodes (OLEDs) grown on polyestersulfone (PES) using Al-doped zinc oxide (AZO) as the anode, fabricated by the dual-plasma-enhanced chemical vapor deposition (DPEMOCVD) system. The experimental results including crystalline structure, optical, and electrical characteristics indicate that the quality of AZO films grown on PES depends on the deposition temperature and Al content. The optimal deposition temperature and Al content for AZO film are 185  C and 2.88 at%, respectively. Further increasing or decreasing the deposition temperature and Al content degrades the quality of AZO films. The optimal AZO film deposited on the PES substrate was used as the anode for flexible OLED. It shows a similar performance compared to OLEDs using commercial indium–tin-oxide (ITO) as the anode on glass, and represents enhanced characteristics to that of the commercial ITO anode on a flexible polyethylene naphthalate (PEN) substrate. This indicates that the DPEMOCVD-deposited AZO film on the PES substrate can be the anode for flexible OLEDs.     

化成前处理对提高铝箔比容的影响

利用化成前引入高介电常数金属氧化物的方法,研究了TiO2涂层对提高铝箔比容的影响。结果表明:腐蚀箔在6%(质量分数)钛酸乙酯的乙醇溶液中,浸泡5 s,然后在450 恒温10 min,在210 V下有机酸化成,阳极氧化膜的结构与性能得到改善,铝箔比容可提高10%,从而可有效提高形成效率。     

Liquid phase deposition of ZnO film for photoelectrocatalytic degradation of p-nitrophenol

Liquid phase deposition (LPD) technique was developed to prepare zinc oxide (ZnO) thin film with high photoelectrochemical activity. The field emission scanning electron microscopy (FESEM) and X-ray diffraction (XRD) characterization showed that the deposited film was composed of many stick microcrystalline structured ZnO. The photoelectrochemical property of LPD film was analyzed by chronoamperometry and electrochemical impedance spectroscopy (EIS) under UV-light excitation. Using the LPD ZnO film as photoanode, the removal of p-nitrophenol (PNP) was studied by photoelectrocatalytic (PEC) oxidation technique. The influencing factors such as initial concentration of PNP, pH and bias potential were systematically investigated. Under optimized conditions, PNP was effectively degraded by photoelectrocatalysis on the LPD ZnO film.