等离子显示器扫描驱动芯片的设计

分析了PDP扫描驱动芯片的结构和工作原理,介绍了芯片的系统设计、电路仿真、器件模拟和全定制版图设计,设计的芯片具有较好的功能和驱动特性。该芯片的数字电路部分采用0.6μm双多晶硅双金属线标准CMOS工艺实现。对样片进行了测试,结果表明,电路功能达到设计要求,可同时驱动16路高压输出电路,最高工作频率达到60 MHz。     

等离子PDP显示器

1990年出现的能分清像素间的灰度使PDP 显示器所有其它方面的进展哑然失色。期望的实用性彩色引起了刺激,商用产品的发展也增加了兴趣。来自日本的几篇报告说,在日本增加了AC-PDP 的投资。纽约的 Plasmaco of Hig-     

CRT显示器的电磁兼容性

电磁兼容性（Electro Magnetic Compatibility,简称EMC）属于一门涉及多种学科的边缘性新兴科学领域,是一门正在迅速成长日趋发展的边缘交叉学科,特别是在电子设备、电子系统领域,已引起日益广泛的高度重视。EMC基本分析所谓彩色CRT显示器电磁兼容性是指显示设备在预期的电磁环境中,能按一定的设计要求正常工作的性能或能力。其内涵包括如下三点：在给定电磁环境中,显示设备有抵御预定电磁干扰（EMI）的能力,并留有一定的安全余量;显示设备不能产生超过限度的电磁干扰;显示设备可按设计的技术要求完成其预定功能使命。通过对…     

一种新型等离子显示器技术分析与应用研究

介绍一种新型等离子显示器整机的工作原理，重点介绍了整机的信号处理电路及驱动方式，给出了基本电路程式。     

交流等离子体显示器驱动方法的研究

本文讨论了交流等离子体显示器的工作方式。介绍了一种新的驱动电路,并给出了实现方法和结果。     

彩色等离子显示器的特征和前景

介绍在当前等离子体显示工业中，显示器采用的主要结构和目前达到的性能，指出制作低成本的高密度障壁和改进流明效率，是今后等离子体显示发展中有解决的问题。     

等离子显示器技术发展概述

本文介绍了等离子显示器的原理和特性，重点论述了日本电子公司发展等离子显示器技术状况和取得重大技术突破。     

彩电等离子显示器的最新驱动方法

利用导址并显示方案，可使通常３０％的发光效率提高三倍。关注的中心是恢复由于流向 屏的位移电流所引起的能量损失。对出现在运动图象中的回路噪声的减少方法作了说明。     

HPDLC显示器驱动电压的减小

我们已经尽力减小了ＨＰＤＬＣ显示器的驱动电压。报道了ＨＰＤＬＣ砂同程度地掺要高 各向异性化合物ＨＲＬ４１０后的电－光特性。掺杂ＨＲＬ４１０的重量小于ＨＰＤＬＣ总重的１％时，驱动电压可减小好几倍。为了了解这个引人注目的效应，我们拍摄了ＳＥＭ图像并测量了开关时间。     

等离子显示屏PDP电源的设计

重点论述PDP控制电源的技术特点,详细介绍待机电源、PFC电路、寻址电源、逻辑电源之间的逻辑关系以及设计,同时对EMI、安规等进行设计.     

等离子体放电单元阳极条纹现象分析

采用基于PIC-MCC（Particlein Cell-Monte Carlo Collision）模型的XOOPIC软件模拟了表面放电结构等离子体放电的基本过程,并结合电子、离子浓度和电位分布的变化过程,详细分析了表面放电结构中阳极条纹形成的基本过程,模拟结果表明壁电荷的积累是条纹形成的原因而不是结果,同时新条纹的产生将使现有的电位分布得到调整。     

PDP的对比度增强技术研究

等离子体显示器(PDP)因其大尺寸、高响应速度等优点占据了较大的大屏幕高清晰度电视市场,但是对比度性能作为图像质量的关键技术指标仍有提高的余地.从结构、波形、算法等几个方面介绍了提高PDP对比度的常用技术,包括黑条结构、色彩滤波、改善驱动波形、分割低灰度子场、直方图均衡化等,并分析了它们的优缺点.     

开关电源传导性电磁干扰共模噪声的研究

为了研究电磁干扰（EMI）噪声源的影响,实现对开关电源EMI参数的控制问题,文章基于PSPICE仿真软件,对各种常用结构的开关电路进行了分析,得出了一组开关电源电路引发传导性EMI的仿真实验数据及有关结论.仿真研究表明,当缓冲电路采用MUR190二极管、输入RC控制电路的参数设置为R=1kΩ,C=4nF时,所产生的共模噪声达到最小.     

彩色PDP中FPGA的时序控制设计

彩色PDP显示系统是目前大型壁挂式电视、HDTV和大型多媒体显示技术的发展趋势。本文从PDP显示屏的特点出发,介绍了彩色PDP时序控制的基本结构和基本算法设计,并对比传统的时序设计方法,在FPGA资源和系统性能上有所优化。     

等离子显示屏用电子浆料砂磨工艺研究

介绍了等离子显示屏(PDP)电子浆料的制作方法及工艺流程,重点介绍了砂磨机在PDP浆料制作中的应用。研究了砂磨机主要工艺条件对PDP浆料分散性能、涂覆性能的影响,给出了相关的曲线图和实验表,提出了一些具有实用价值的参数。     

等离子体平板显示器的新发展

介绍了世界上等离子体平板显示器（PDP）技术的一些新发展以及中国PDP的研究现状，并针对中国情况提出了一些建议。     

彩色等离子体显示器的新进展

扼要地介绍了近年来世界上各大公司对彩色PDP的结构和驱动方法的改进 ,将现今彩色PDP的亮度、对比度和色纯度等主要性能与过去相比 ,得到明显的改善 ,达到了与高清晰度CRT相当的性能。     

等离子平板显示选址芯片设计

采用标准CMOS工艺设计出PDP(Plasma Display Panel)选址芯片，重点设计出一种高压结构-HV—CMOS(High Voltage CMOS)结构，采用单阱非外延工艺以降低生产难度和成本，实现了高低压之间的兼容。同时采用TSLIPREM-4对该结构进行工艺模拟、并用MEDICl分析其电流-电压和击穿等特性，说明该结构可以满足设计要求。     

传导EMI噪声源内阻抗测量研究

基于传导电磁干扰产生机理,对传导 EMI 噪声源阻抗分析仪内阻抗测量的基本原理进行分析,并对比三种噪声源测量方法。利用插入损耗法对某一开关电源进行实际测试,给出了测试结果。