紫外光谱成像技术湿现白色瓷砖表面防晒类护肤品指印的初步研究

紫外光谱成像技术结合了紫外照相和光谱分析的方法,为紫外照相技术的可持续性发展提供了有利条件。本文主要介绍了运用紫外光谱成像技术采集白色瓷砖表面护肤品指印的方法,并展示采集后的部分护肤品指印的紫外影像及光谱曲线。     

防晒护肤品选购指南

问：为什么要做好防晒呢？答：大量的科学研究表明：如果你任由阳光曝晒十分钟,皮肤就会早衰十天。因为阳光是造成肌肤老化与形成皮肤表面斑点的主要因素。只有做好防晒,才能预防黑色素的产生,晒不黑、晒不伤,您的皮肤才能晶莹美白,保持青春润泽。问：是否SPF值越高防晒效果就越好？答：一般来讲,SPF值越高,防晒效果就越好,但由于阳光强度变化,应根据不同环境选用SPF值不同的防晒品,才能达到最佳的防晒效果。比如在上午10时至下午4时30分较炎热、阳光猛烈时,或在高原等空气较稀薄环境中,应该采取特别的防晒措施,使用SPFl8或SPF40的防晒品：而在阳光下游泳、运动时,则应使用SPF值为15或18,具有抗水抗汗功能的防晒品;一般在阴天或在室内,选用SPF为6的防晒品就行了。     

3种苯基脲类除草剂的THz光谱特性研究

利用太赫兹时域光谱(THz-TDS)技术对3种苯基脲类除草剂,敌草隆、伏草隆、绿麦隆的标准品分别进行光学参数的测试,获得样品在有效THz波段范围的折射率谱和吸收谱.实验结果发现,三种样品的吸收谱均有明显的特征吸收峰,且它们之间存在很大差异,平均折射率分别为1.593、1.474、1.504.利用Gaussian03的B3LYP函数在6-311G(d)基组水平上计算其单分子的振动频率,模拟结果与实验数据存在一定差异,说明单分子模拟存在局限性.利用DMol3程序的BP函数,在DNP基组水平上进行晶体振动频率模拟,模拟结果与实验数据一致性较好.通过实验和理论分析,THz-TDS技术可作为鉴别这三种除草剂的一种有效手段.     

基于超构表面的光谱成像及应用研究进展

作为一种将光谱信息和空间信息相结合的技术,光谱成像在科学研究和工程应用中受到了广泛的关注。设计优化具有亚波长尺度特征的超构表面可以对光场进行高效地调制。本文综述了近年来基于超构表面的光谱成像研究进展,与传统光谱仪相比,基于超构表面的紧凑型光谱仪具有体积小和光路较为简单的优点,在小型器件中具有较大的应用潜力。根据不同的成像机理,基于超构表面的光谱成像可以分为超色散型、窄带滤波型和宽带滤波型,本文详细介绍了每种成像机理的研究进展,并随后总结了在实际场景中的应用情况,最后展望了超构表面光谱成像的发展方向和应用前景。     

掺氮类金刚石薄膜激光退火的Raman光谱研究

采用功率密度分别为300,750和1500W／mm^2的氩离子激光器,对由射频等离子化学气相沉积（RF－CVD）法制备的掺氮类金刚石薄膜进行了激光退火处理。并用傅立叶红外吸收光谱和显微Raman等手段,对所得样品进行研究。结果表明：C－N键比C－H键更为稳定,一方面氮原子的引入制约了C－H键的生成,在激光退火中减少了因C－H键分解而引起薄膜的石墨化;另一方面生成的C－N键不易受热分解;因此随着氮含量的增加,薄膜中C－N成分增加,从而提高了类金刚石薄膜的热稳定性。     

用低温Raman散射光谱研究不同处理的CdZnTe表面

利用低温Ｒａｍａｎ散射光谱分析，比较了４种典型处理的Ｃｄ０．９６Ｚｎ０．０４Ｔｅ表面声子散射信号和表面元素沉积的变化。对－２２０－－９０ｃｍ＾－１的反斯托克斯分量进行分析得出，ＢＭ液腐蚀后的表面晶格完整性最好；ＬＢ液处理有利于进一步改善表面粗糙度和表面漏电流，离子轰击的表面缺陷多，质量差，但对制备良好欧姆接触的电极有现实意义，实验证明Ｒａｍａｎ散射光谱对于探测表面上元素的沉积和分析表面质量的变化，     

FCVA制备超薄类金刚石薄膜的拉曼光谱分析

采用FCVA方法制备厚度分别为50nm、30nm、10nm、5nm、2nm的DLC薄膜,利用可见光拉曼光谱分析薄膜的G峰位置、Id/g和Ag/Ad,发现随着薄膜厚度的减小,Id/Ig不断增大,AgAd减小,G峰位置向低波数方向移动.紫外拉曼光谱分析结果表明,薄膜厚度减薄会减小It/Lg使T峰位置向高波数方向移动.结合两种不同波长的拉曼光谱进行分析,G峰偏移量随薄膜厚度减小呈下降趋势;随薄膜厚度的减小,FCVA法制备的类金刚石薄膜中的sp3键含量减少,同时有序化的sp2团簇增加.EELS结果也证实,薄膜厚度的减小会减少薄膜中sp3键的含量.对于50nm和30nm的非晶碳膜,拉曼光谱分析的结果与薄膜硬度和内应力实际测试结果存在一致的对应关系.     

紫外光辐照下钛硅共掺杂类金刚石薄膜微结构的演化

采用中频磁控溅射Ti80Si20合金靶在单晶硅表面制备了钛硅共掺杂的类金刚石薄膜。利用紫外-可见光多波长Raman光谱表征薄膜微结构, 并结合FTIR光谱研究了紫外光辐照对类金刚石薄膜微结构的影响, 进一步讨论了紫外光辐照下薄膜微结构的演化机理。结果表明: 非晶结构的类金刚石薄膜出现反式聚乙炔和聚对苯乙炔类聚合物结构以及sp杂化的线型卡宾碳结构。紫外光辐照诱导薄膜微结构驰豫和重构, 薄膜Si-O和C-O键含量增加, C=C和C-H键含量减少; 同时薄膜sp²团簇尺寸减小而无序度增大。     

铝合金表面微波等离子体类聚乙二醇涂层的亲水性研究

通过对铝合金低温微波等离子体表面改性,增强其亲水性,减少铝离子扩散,降低生物学毒性,可提高铝合金的生物相容性.采用三乙二醇二甲醚有机试剂,于电子回旋共振低温微波等离子体条件下,在铝合金表面进行沉积对其改性,对所得涂层用X射线光电子能谱、衰减全反射红外光谱和水接触角进行分析表征,以判断表面沉积物的组成及亲水性变化,评价低温微波等离子体处理对提高铝合金亲水性的机理及作用.结果表明,铝合金经三乙二醇二甲醚低温微波等离子体改性后,表面得到一层均匀、致密的涂层,其化学组成为类聚乙二醇结构,表面主要聚集有大量的碳氢和碳氧极性键;与改性前相比,等离子体涂装的铝合金表面接触角大大下降.低温微波等离子体表面改性能显著提高铝合金表面的亲水性.     

定标用多通道紫外日光模拟仪的研制及其量值溯源方法研究

研究并建立了定标用多通道紫外日光模拟仪及量值溯源装置。模拟仪的输出光谱分布满足欧洲化妆品盥洗用品及香水协会等组织的技术指标要求。研制了光辐射度定标和测量转接器,有效解决了模拟仪输出光斑小、辐照分布不均匀、光导弯曲易改变光谱分布等测量问题,实现了模拟仪光谱辐射照度和光谱匹配的高准确度测量,以及UVA和UVA+B积分辐射照度量值的准确溯源。并研制了SPF紫外辐射照度测量仪表,用于 UVA和UVA+B积分辐射照度量值的测量、保存与传递,其量值溯源至光谱辐射照度国家基准装置。     

全自动瓷砖包装机翻砖机理研究

研究瓷砖包装机翻砖装置的翻砖机理,探讨了瓷砖在翻转过程中速度、加速度的变化规律以及冲击力对瓷砖品质的影响,分析了瓷砖传送带在工作中拉力频繁变化对工作稳定性的影响,改进了瓷砖翻砖装置,使其更适合翻砖工况要求。     

UV固化聚氨酯丙烯酸酯涂料的合成及性能研究

以聚乙二醇(PEG-400)为软段,以丙烯酸羟乙酯(HEA)和2,4-甲苯二异氰酸酯(TDI)为硬段,采用两步法合成聚氨酯丙烯酸酯(PUA),并研究其合成条件及力学性能。FTIR及~1H-NMR测试结果表明成功制备出PUA。实验结果表明,PUA合成的最佳条件为:第1步,反应温度为75℃,反应时间为3 h;第2步,反应温度为45℃,反应时间为5 h;阻聚剂的最佳质量分数为0.5%;将活性稀释剂1,6-己二醇二丙烯酸酯(HDDA)与三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)按照质量比为1:1的比例加入PUA中,固化膜的凝胶率最高且综合性能优异;选用复合光引发剂体系时,固化膜的固化速率最高,其最佳质量分数为3%。     

基于YOLOv5的瓷砖表面缺陷检测

目的 针对目前的瓷砖表面人工缺陷检测效率低的问题,提出一种基于深度学习YOLOv5算法实现对生产线瓷砖表面缺陷的检测。方法 首先对数据集进行切图分割与数据增强处理,再通过labelimg对数据集进行数据标注,然后将数据集送入到优化后的YOLOv5网络模型进行迭代训练,并将最优权重用于测试。结果 通过实验对比,YOLOv5模型的检测准确率高于Faster RCNN、SSD、YOLOv4这3种模型,其检测平均准确度高于96%,平均检测时间为14ms。结论 表明该方法能够检测生产过程中的瓷砖缺陷问题,在瓷砖缺陷检测上有一定的先进性和实用性。     

可再分散乳胶粉对瓷砖粘结剂改性的探讨

可再分散乳胶粉能显著改善砂浆的性能，在水泥基材料中的应用越来越大。论文研究了可再分散乳胶粉掺量对水泥胶砂强度的影响，同时研究了可再分散乳胶粉对瓷砖粘结剂稠度和拉拔强度的影响。结果表明，可再分散乳胶粉能显著提高砂浆的柔韧性和施工性，能提高瓷砖粘结剂的粘结性。     

溶剂提纯对硼粉表面性能影响的研究

为了提高硼系延期药的质量控制水平,分别研究了原料硼、储存硼及溶剂提纯硼的表面酸碱性、比表面积、X-射线衍射及其颗粒纯度等。结果表明:原料硼储存315 d后酸性杂质增多,XRD曲线中B2O3衍射峰显著增强,水悬浮液pH值略有降低,颗粒团聚加剧,比表面积由13.4 m2/g减至10.3 m2/g,氧化增重降低约7%。乙醇提纯后的硼粉比表面积增至16.2 m2/g,分散性提高,长期储存的硼粉经溶剂提纯后的XRD曲线中未观察到B2O3衍射峰,热氧化增重提高约12.0%~18.5%,硼粉纯度得到一定程度的提高。     

Fenton/UV法对碳纳米管表面修饰的研究

采用一种新颖的方法-Fenton/UV(紫外线)法对碳纳米管进行表面修饰,研究了不同Fe2+和H2O2的配比、pH值对碳纳米管表面修饰的影响,用红外光谱(FTIR)分析碳纳米管表面官能团的变化,用X射线衍射(XRD)对碳纳米管进行物相分析,结果表明,采用合适的工艺条件,Fenton/UV法能够在碳纳米管表面引入大量羟基以及少量的羧基,且几乎不引入杂质。其最佳工艺为:MFe2+:MH2O2=1:40和pH=3。     

橡胶-地面石材摩擦性能的研究

基于橡胶摩擦学原理,采用水平拖拉方法在自制的简易摩擦测试装置上进行了橡胶-地面石材的摩擦性能实验,研究了法向荷栽、名义接触面积、静止接触时间对其摩擦性能的影响.结果表明,随着法向荷栽的增大,橡胶一地面石材的静摩擦因数有所减小,但减小的幅度逐渐减小;在同等低法向荷栽条件下,随着名义接触面积的增大或静止接触时间的延长,静摩擦因数均增大,表现出良好的线性相关性;但在同等中高法向荷栽条件下,静摩擦因数与名义接触面积不再符合简单的线性增长关系.     

基于LSSVM的磁瓦表面瑕疵偏向性分类

针对磁瓦表面缺陷检测方法分类准确率低的问题,提出一种基于LSSVM技术的瑕疵偏向性分类方法。构造5个尺度8个方向Gabor滤波器组,提取经过Gabor变换后生成的40副子图的均值与方差为磁瓦图像特征。采用耦合模拟退火算法初步寻优,在所得初步参数的邻域使用网格算法进行精细搜索。为实现对缺陷磁瓦的偏向性预测分类,改进了虚拟少数类过采样算法。去除原始训练样本中的噪声样本数据,再在瑕疵边界样本与合格样本之间过采样。实验结果表明,最小二乘支持向量机分类器模型训练时参数寻优时间明显缩短,整体分类正确率达到95.56%,偏向性分类正确率达到99.09%,实现对缺陷磁瓦的偏向性分类。     

纳米锌铈氧化物的紫外光屏与催化性能

研究同时具有紫外吸收、低光催化和氧化催化活性的纳米锌铈氧化物(ZCO).用无机聚合物凝胶燃烧法化学控制合成的纳米颗粒平均粒径约为10nm,原子比(Zn/(Zn+Ce))为0.2.实验评价了ZCO粉体的Uv-Vis光谱、紫外光光催化、氧化催化性能,并分别与TiO2、ZnO、CeO2进行了对比.UV-Vis光谱性能测试结果表明,ZCO在200～400nm范围强吸收,且峰值较宽且红移;用波长253.7nm紫外灯辐射,得出光催化活性顺序为ZnO＞R-TiO2＞ZCO＞CeO2;用氧化分解篦麻油电导率的测定,间接评价ZCO的氧化催化很低.     

Spectral Emissivity of Surface Blackbody Calibrators

The normal spectral emissivity of commercial infrared calibrators is compared with measurements of anodized aluminum samples and grooved aluminum surfaces coated with Pyromark. Measurements performed by FTIR spectroscopy in the wavelength interval from 2 to 20 μm and at temperatures between 5 and 550°C are presented with absolute uncertainties from 0.25% to 1% in spectral regions with sufficient signal and no significant atmospheric gas absorption. A large variation in emissivity with wavelength is observed for some surfaces, i.e., from 1% to 3% to more than 10%. The variation in emissivity using similar materials can be reduced to 0.5–1% by optimizing the coating process and the surface geometry. Results are discussed and an equation for calculation of the equivalent blackbody surface temperature from FTIR spectra is presented, including reflected ambient radiation. It is in most cases necessary to correct temperature calibration results for calibrators calibrated at 8–14 μm to obtain absolute accuracies of 0.1–1°C in other spectral regions depending on the temperature. Uncertainties are discussed and equations are given for the correction of measured radiation temperatures.