离子液体中钕铁硼磁体电镀锌研究

采用尿素-NaBr-KBr-甲酰胺-ZnCl2离子液体作为镀液在钕铁硼磁体表面电镀锌,包括基体前处理工艺和镀后处理工艺,考察了添加剂、供电方式等对镀层形貌和耐腐蚀性的影响,通过中性盐雾试验、SEM、XRD等对镀层进行测试表征。结果表明:在电流密度1 A/dm2,温度30℃,电镀时间20 min磁力搅拌条件下,当添加剂的量为10 mL·L-1时采用脉冲电镀电源实施电镀,得到的镀层光亮致密均匀,耐腐性能好。此方法为钕铁硼磁体电镀锌提供了一种新思路。     

烧结钕铁硼电镀锌铁合金工艺与耐蚀性能

采用弱酸性氯化物镀液在钕铁硼基体上制备了高耐蚀性的锌铁合金镀层,讨论主要工艺参数对镀层铁含量的影响,优化工艺条件。采用盐雾试验(NSS)、SEM和电化学方法研究镀层的耐蚀性能和耐蚀机理。结果表明,优化工艺条件后合金镀层含铁质量分数为0.92%,钝化后在质量分数3.5%的Na Cl溶液中出白锈时间达到196 h。合金镀层对钕铁硼基体起到阳极保护的作用,镀层结晶致密,填补了钕铁硼基体的固有缺陷,同时又为获得致密的钝化膜创造了条件,减少了镀层表面的缺陷,使镀层整体具有极高的电阻,提高了其耐蚀性能。     

稀土对电沉积Zn-Fe-La三元合金性能影响的研究

为了获得更加光亮、致密的Zn-Fe-La三元合金镀层,针对电沉积Zn-Fe-La三元合金镀液组成及工艺条件,系统地研究了稀土对镀层成分含量、镀液稳定性、镀液分散能力以及pH值的影响,测定了镀层的极化曲线、稳定电位和极化电阻,比较了不同稀土含量对镀层耐蚀性的影响.结果表明:稀土的加入可提高镀液稳定性、分散能力,增加电沉积过程阴极极化,使阳极钝化前的活性区腐蚀电位正移,自溶解速度下降,有利于提高镀层耐蚀性,其耐蚀性比Zn-Fe合金镀层及纯Zn镀层有很大提高.     

新型铜锡合金电镀添加剂的制备

目的制备一种电镀铜锡合金添加剂,利用此种添加剂制得白亮并且综合性能良好的铜锡合金镀层。方法基础镀液组成为:焦磷酸钾250 g/L,焦磷酸铜16 g/L,焦磷酸亚锡12 g/L。工艺条件为:pH 8.5,室温,电流密度0.3 A/dm~2,电镀时间5 min。以此为基础,设计正交试验,以镀层60°光泽度作为判定标准,优选出电镀添加剂的最佳配方。利用百格刀、维氏硬度计、材料表面性能综合测试仪、盐雾试验箱对最佳配方制备的镀层的附着力、表面硬度、摩擦系数、耐蚀性能等进行分析,利用SEM、XRD对其表面形貌及物相进行分析。结果经过正交试验优选出的最佳添加剂配方为:8×10~(-3) g/L聚二硫二丙烷硫磺酸钠(SPS),8×10~(-3) g/L聚乙烯亚胺烷基盐(PN),8×10~(-4) g/L 2-巯基苯并咪唑(M)。采用该添加剂配方,在上述基础镀液及工艺条件下,可获得全范围白亮Hull槽试片。该镀层60°光泽度达到269.7,表面平整,附着力的ISO等级为2,维氏硬度为154.47HV0.2,摩擦系数为0.2,盐雾试验中超过72 h无腐蚀。结论复配添加剂可以制备出光泽度较高的银白色镀层,且镀层结合力好,硬度、耐磨性以及耐腐蚀性都较高,可以满足工业要求。镀层表面平整,物相为Cu_6Sn_5以及Cu_(13.7)Sn。     

铝硅合金表面电沉积铬工艺的优化

研究了在铝硅合金样品表面电镀硬铬的工艺。用正交试验法对含纳米氧化铈添加剂的镀铬配方进行成分优化,并采用不同的电流密度、镀液温度和电镀时间进行镀铬,经过对镀层的形貌、厚度及结合力等性能进行比较取舍,得出了低铬酸电镀硬铬的工艺配方:80g/LCrO3,0.7g/LH2SO4,3g/LCr3 ,3g/LCeO2;电镀温度为40℃,电流密度为30A/dm2,电镀时间120min。结果表明:纳米氧化铈添加剂的加入,在获得光滑致密镀层的基础上,大大降低了镀液中铬酐的含量,从而降低了对自然环境的污染。     

Ce3+对Zn-Ni合金镀层耐蚀性能的影响

在电镀液中添加铈盐,于Q235钢表面电镀Zn-Ni合金,考察了Ce3+添加量对Zn-Ni合金镀层耐蚀性能的影响.通过稳态阳极极化曲线、塔菲尔极化曲线和交流阻抗谱,研究了镀层在30℃3.5％NaCl溶液中的腐蚀行为;同时对比了Zn-Ni合金镀层在腐蚀前后的微观结构和表观形貌.结果表明:加入铈盐,不改变Zn-Ni合金镀层的晶面择优取向,但会改变各晶面的织构系数;添加铈盐后,Zn-Ni合金镀层的致钝电流密度和维钝电流密度明显降低,极化阻抗明显增大;当镀液中添加0.80 g/L铈盐时,镀层结晶粒度明显变小且致密,使得耐蚀性能显著增加.     

AZ91D镁合金Ni-Sn双层镀膜研究

采用热浸镀工艺在AZ91D镁合金化学镀Ni底层上获得了纯Sn镀层.采用SEM、XRD、盐雾试验和电化学动电位扫描极化曲线研究了镀层热处理前后镀层的组织及结构和耐腐蚀性能.结果表明,镁合金表面镀Sn具有优良的耐腐蚀性能,经72 h中性盐雾试验表面未被腐蚀,镀层自腐蚀电位相对于基体有较大的提高,腐蚀电流密度明显下降,镀层经...     

Nd3+对烧结Nd-Fe-B化学镀Ni-P合金结合力和耐蚀性的影响

在化学镀液中添加Nd3+,研究其浓度对Ni-P镀层与烧结Nd-Fe-B磁体的结合力和施镀后磁体耐蚀性的影响.测定添加不同浓度Nd3+镀液中所得Ni-P镀层与磁体的结合力,以及镀层在3.5%NaCl(质量分数,下同)溶液中的极化曲线,并结合中性盐雾实验表征施镀后磁体耐蚀性.结果表明,添加2.5 g·L-1Nd3+时,Ni-P镀层与Nd-Fe-B磁体的结合力从6.4 MPa提高至25.2 MPa:施镀后磁体的自腐蚀电位从-0.382 V升高到-0.148 V,自腐蚀电流密度从4.52μA·cm-2降低到0.07μcm-2,耐盐雾腐蚀时间达到256 h,磁体耐蚀性显著提高.     

ZLl01A合金化学镀Ni-P研究

为提高ZL101A合金的耐蚀性能,可直接化学镀Ni-P或电镀Cu后化学镀Ni-P在其表面施加镀层.利用恒电位仪、盐雾实验、扫描电镜和显微硬度计等,研究了两种工艺处理后镀层的性能.结果表明,两种工艺得到的镀Ni-P样品均具有优异的耐蚀性和较高的硬度,对Al合金基体都具有很好的保护作用;其中带镀Cu中间层的化学镀Ni-P层更致密,具有更好的耐蚀性和硬度.     

超声电镀锡铋合金研究

研究了超声波对锡铋合金电镀的影响.通过赫尔槽试验优选出最佳镀液配方和工艺条件,用SEM法观测了镀层形貌,并测试了镀层和镀液性能.结果表明:超声波的作用扩大了电流密度范围和温度范围;所得镀层表面光亮、结晶更细致、均匀,镀层结合力、抗氧化性和可焊性改善明显,耐蚀性增强;镀液性能稳定,阴极电流效率和沉积速度得到提高.因此,超声波对电镀工艺条件、镀层质量和镀液性能都有明显的改善作用.     

氯化物电镀Zn—P合金的研究

研究了Ｚｎ－Ｐ合金电镀液组成及工艺条件对镀层含磷量的影响，在最佳工艺参数条件下，可得到磷的质量分数为０．１％左右的Ｚｎ－Ｐ合金镀层。对镀液、镀层性能进行了测试，实验证明经银白色钝化后的Ｚｎ－Ｐ合金镀层的耐蚀性能是纯锌镀层的２倍以上。     

工艺参数及稳定剂抗坏血酸对电沉积NiFeW合金的影响

为获得性能良好的镍铁钨合金镀层,研究了镀液pH 值、温度、电流密度、稳定剂抗坏血酸浓度对镍铁钨合金镀层成分和镀层沉积速率、显微硬度的影响。结果表明: 镀液pH 值对镀层W含量和镀层沉积速率影响较大;镀液温度对镀层沉积速率、镀层成分和镀层硬度影响均较大;随抗坏血酸浓度增加,镀层沉积速率逐渐降低,镀层表面形貌更加粗糙。在镀液pH = 4,温度60 ℃,电流密度4 A/dm2,抗坏血酸浓度3 g /L 时,镀层沉积速率和镀层的显微硬度较高,表面光亮致密,耐蚀性好。     

电沉积Cr-Mo合金镀层的耐蚀性

本文研究了电沉积Cr-Mo合金镀层的晶体结构和钼含量与其耐蚀性的相互关系。对不同温度的电镀镀层进行x-光晶体结构分析,并在30、60℃5%H_2SO_4和30℃3%NaCl等水溶液中,做了腐蚀浸泡试验、阳极极化曲线及孔蚀电位等的测定。实验结果表明,1.采用特殊制备的镀液,在20—100A/dm~2的阴极电流密度、30—70℃时可沉积出致密性良好的Cr-Mo合金镀层。2.在30、70℃镀温下的镀层,其耐蚀性优良,是和它们的镀层晶体结构无明显的择优取向及较高的钼含量有关;而40、60℃镀温下的镀层,耐蚀性欠佳     

硅烷化处理对烧结钕铁硼永磁材料耐腐蚀性能的影响

采用环境友好的硅烷化处理技术在烧结钕铁硼磁体表面制备一层硅烷转化膜,对烧结钕铁硼磁体进行暂时性防护。采用正交试验对过程中的工艺参数进行优化。采用冷场发射扫描电子显微镜(SEM)、拉力试验机、动电位极化曲线及中性盐雾试验(NSS)对所制备的硅烷转化膜的形貌、膜/基体之间结合力以及耐腐蚀性能进行研究。结果表明:硅烷转化膜均匀的涂覆在烧结Nd Fe B磁体表面,涂层致密性高、无孔隙、裂纹等缺陷。硅烷转化膜与基体之间的膜/基结合力强度可达14.14 MPa。薄膜耐中性盐雾试验可达12 h,硅烷转化膜在固化过程中醇基之间脱水缩合反应使硅烷转化膜表面形成具有不同交联密度的区域,在Na Cl溶液中交联密度低的区域首先水解溶解是造成磁体表面硅烷转化膜腐蚀失效的主要原因。     

Ni-TiO2复合电镀工艺研究

通过正交设计,研究了Ni-TiO2复合电镀工艺中镀液的pH值、搅拌速度、电流密度、微粒悬浮量、添加剂等工艺条件和参数对Ni-TiO2复合镀层的影响.在充分分析各不同镀液组成和工艺条件下,对复合镀层中微粒共析量的影响曲线和对镀层的表观形貌的观察后,得出了其最佳镀液组成和工艺参数;能量色散谱分析,制备的复合镀层中TiO2共析量为10%～24.23%(质量分数).采用SEM观察镀层的表面形貌,其外观均匀、细致.     

A356合金化学镀Ni-P工艺及其性能研究

用直接化学镀Ni-P和先电镀Ni后化学镀Ni-P两种方法在A356合金表面施加镀层.利用恒电位仪、盐雾实验、扫描电镜和显微硬度计等分析测试手段研究了两种工艺处理后镀层的性能.结果表明：两种不同工艺得到的镀Ni-P样品均具有优异的耐蚀性和较高的硬度,对Al合金基体均有很好的保护作用;其中带镀Ni中间层的化学镀Ni-P层更致密,具有更好的耐蚀性和硬度.     

电沉积法制备组分调制Zn - Ni合金多层镀层

研究了Zn－Ni合金镀液中主盐的组成、电镀工艺参数对Zn－Ni合金镀层中的含镍量及镀层性能的影响,结果表明,电流密度是影响Zn－Ni合金镀层中含镍量的主要因素.在电沉积过程中,利用计算机控制电流输出的电镀电源,通过调整施镀电流密度,制备出了由2种组成不同的Zn－Ni合金薄层交替叠加而形成的Zn－Ni合金多层镀层.SEM表面及断面显微分析结果表明：Zn－Ni合金多层镀层表面无缺陷,断面呈清晰的层状结构.      

镁合金化学镀Ni-Cu-P/Ni-P复合镀层及腐蚀防护机理研究

目的为提高镁合金化学镀Ni-P合金镀层的腐蚀防护性能。方法在AZ31B镁合金表面,先化学镀Ni-Cu-P,再化学镀Ni-P,制备Ni-Cu-P/Ni-P复合镀层。研究复合镀层的表面形貌、成分、厚度和腐蚀电流密度随镀液硫酸铜浓度的变化规律,表征1.0 g/L硫酸铜质量浓度下,复合镀层的截面形貌、成分和晶态结构。结合动电位极化曲线和盐雾试验,分析复合镀层的耐蚀性能和腐蚀防护机理。结果复合镀层中的铜含量随硫酸铜浓度的增加而升高,铜对复合镀层的结构和性能影响很大。通过抑制镀层表面胞状物的生长和增加形核点数量,铜的共沉积能够大幅提高复合镀层的致密性。随硫酸铜浓度的增加,样品表面的催化活性下降,镀液稳定性升高,由此导致复合镀层的厚度随硫酸铜浓度的增加而明显下降。硫酸铜质量浓度为1.0 g/L时,复合镀层均匀致密,并具有可钝化性,按照ISO 9227,其耐盐雾腐蚀时间超过180 h。结论化学镀Ni-Cu-P/Ni-P复合镀层能够赋予镁合金表面优异的耐蚀性能,复合镀层所具有的可钝化性和均匀致密的镀层结构,是镀层腐蚀防护性能提升的主要原因。     

AZ31B镁合金表面电镀铝锰合金的耐蚀性

在镁合金AZ31B表面通过预镀锌处理后采用无机熔盐电沉积铝锰合金。使用SEM、EDX和XRD分析镀层的表面形貌、成分和组织,采用动电位极化曲线及表面显微硬度测量考察了镀层对镁合金耐蚀耐磨性的影响。结果表明,熔盐成分、电流密度和熔体温度等典型工艺参数对铝锰合金镀层的形貌、成分和组织都具有重要的影响,进而影响了镀层的耐蚀性。镁合金电镀铝锰合金后,腐蚀电位有很大的提高, 而腐蚀电流密度大幅度的下降;同时铝锰合金镀层表现出很高的硬度,显著的提高了镁合金的耐蚀耐磨性。     

MLCC三层镀中甲基磺酸镀锡体系工艺条件对锡镀层性能影响的研究

研究了片式多层陶瓷电容器(MLCC)三层镀中甲基磺酸镀纯锡体系pH值、温度、电流密度等工艺条件及杂质金属离子对镀液稳定性、镀层结构和性能等方面的影响。从电流效率、沉积速度及锡镀层表面的扫描电镜等方面,对比了不同pH值、温度、电流密度以及锡镀液中掺杂Cu2+、Ni2+后对锡镀层结构和性能的影响。研究结果给出了电镀工艺中最佳的pH值为3.5±0.2、温度为(23±2)℃、电流密度可以有较宽的范围,当镀液中掺有镍、铜等杂离子会对镀层产生负面影响,在给出的工艺参数下电镀,可以确保镀出最佳的纯锡镀层。