钴镍合金镀液中Ni^2＋,Co^2＋和Cl^—浓度的快速测定

采用ＤＺ－１Ｂ型电镀添加剂测定仪进行钴镍合金镀液中Ｎｉ＾２＋、Ｃｏ＾２＋和Ｃｌ＾－浓度的快速测定。结实结果表明，应用汞膜电极和铂盘电极可快速测定合金镀液中Ｎｉ＾２＋、Ｃｏ＾２＋和Ｃｌ＾－浓度，操作快速简便。此方法不仅适用于一般的钴镍合金镀液，还透用于磁性镍钴镀液和镀镍、镀钴溶液的分析。     

Nb镀层对c—BN—玻化陶瓷结合剂界面成分结构的影响

用ＤＴＡ、ＸＲＤ、ＳＥＭ、ＥＰＭＡ等研究了Ｎｂ镀层与ｃ－ＢＮ晶体在６００－１０００℃范围的界面反应过程、界面成分和结构特征，讨论了烧结时Ｎｂ镀层与ＳｉＯ２－Ｎａ２Ｏ－Ｂ２Ｏ３玻化结合剂的作用，结果表明：Ｎｂ镀与ｃ－ＢＮ晶体在６００℃以上发生界面反应，外延生长形成ＮｂＮ，８００℃以上形成ＮｂＢ２，它们使Ｎｂ镀层与ｃ－ＢＮ牢固结合并阻止结合剂中的碱性组分对ｃ－ＢＮ的侵蚀，镀Ｎｂ的ｃ－ＢＮ表层的Ｎｂ则作     

镍和镍铁镀液中Ni^2＋,Fe^2＋和Cl^—浓度的快速测定

根据Ｎｉ＾２＋在汞膜电极上的电化学还原和Ｆｅ＾２＋、Ｃｌ－在铂电极上的电化学氧化特怀，采用ＤＺ－１Ｂ型电镀添加剂测定仪快速测定镍和镍铁镀液中Ｎｉ＾２＋、Ｆｅ＾２＋和Ｃｌ－的浓度，操作简便，快速，适用于民镀车间的镀液分析。     

Nb镀层对c－BN－玻化陶瓷结合剂界面成分结构的影响

用ＤＴＡ、ＸＲＤ、ＳＥＭ、ＥＰＭＡ等研究了Ｎｂ镀层与ｃ－ＢＮ晶体在６０－１０００℃范围的界面反应过程、界面成分和结构特征，讨论了烧结时Ｎｂ镀层与ＳｉＯ２—Ｎａ２Ｏ－Ｂ２Ｏ３玻化结合剂的作用．结果表明：Ｎｂ镀层与ｃ—ＢＮ晶体在６００℃以上发生界面反应，外延生长形成ＮｂＮ，８００℃以上形成ＮｂＢ２，它们使Ｎｂ镀层与ｃ－ＢＮ牢固结合并阻止结合剂中的磁性组分对ｃ－ＢＮ的侵蚀，镀Ｎｂ的ｃ－ＢＮ表层的Ｎｂ则作为活性金属实现与玻化结合剂的化学健合．     

硝酸钠在Zn－SiO_2高速电镀中的作用

实验采用循环电镀装置及硫酸盐体系，在镀液ｐＨ值和温度、镀液流速和阴极电流密度保持一定的条件下，研究硝酸钠对Ｚｎ－ＳｉＯ２复合电镀的作用。在我们的实验范围内，当镀液中硝酸钠浓度超过０．５ｇ／Ｌ时，镀层ＳｉＯ２含量随它的增加而上升，相应复合镀层的颜色白灰色逐渐变为黑灰色。在高速电镀条件下，ＮａＮＯ３能提高ＳｉＯ２共析度。在５％ＮａＣｌ溶液浸泡实验中，Ｚｎ－ＳｉＯ２复合镀层和纯锌镀层的电位变化规律非常不同。在中性盐雾试验中，Ｚｎ－ＳｉＯ２复合镀层试样的出红锈时间比镀覆相同厚度纯粹镀层试样的要长得多，且前者红诱发展缓慢。借助ＳＥＭ和ＥＤＸ，我们发现Ｚｎ－ＳｉＯ２复合镀层上有富Ｓｉ层存在，这一点可以帮助解释硝酸钠能够提高镀层ＳｉＯ２含量的原因。     

三价铬镀液中硼酸的测定

研究了用中和滴定法测定三价铬镀液中Ｈ３ＢＯ３浓度的方法。实验表明，镀液中的Ｃｒ＾３＋和ＮＨ＾＋４对测定有严重干扰，可通过碱化方法将它们从镀液中除去。测定时用甘油强化Ｈ３ＢＯ３，以甲酚红做指示剂进行滴定。     

液膜分离富集和测定锤液中的微量铅

用二环己基－１８－王冠－６（ＤＣ－１８－Ｃ－６）、表面活性剂ＳＰＡＮ８０、中性油ＳＩＯＯＮ－１和溶剂三氯甲烷乳状液膜体系，研究了Ｐｂ＾２＋的迁移行为。在适宜条件下，８ｍｉｎ内Ｐｂ＾２＋的迁移率达９９．４％以上，相同条件下，许多金属离子（如Ｎｉ＾２＋、Ｌｉ＾＋、Ｋ＾＋、Ｎａ＾＋、Ｃａ＾２＋、Ｍｇ＾２＋、Ｓｒ＾２＋、Ｂａ＾２＋、Ｆｅ＾３＋、ＡＬ＾３＋、Ｃｕ＾２＋、Ｚｎ＾２＋和Ｃｏ＾２＋等）均不被迁移，     

镀Ti立方氮化硼（cBN）与玻化SiO2—Na2O—B2O3结合剂的作用

为了防止玻化ＳｉＯ２－Ｎａ２Ｏ－Ｂ２Ｏ３结合剂烧结时对立方氮化硼（ｃＢＮ）的侵蚀，并实现ｃＢＮ晶体与结合剂间的化学键结合，本文用ＤＴＡ、ＸＲＤ、ＳＥＭ、ＥＰＭＡ等研究了Ｔｉ镀层与ｃＢＮ界面在６００￣１２００℃温度范围的界面反应过程及界面成分结构特征，讨论了镀ＴｉｃＢＮ与结合剂复合体在烧结过程中的成分结构及性能。结果表明：Ｔｉ镀层与ｃＢＮ晶体在６００℃以上，以反应扩散的形式发生界面反应形成ＴｉＮ，８     

锡—钴—锌三元合金镀液中钴锌的测定

提出了一种沉淀分离Ｓｎ＾２＋［１］，然后用ＥＤＴＡ络合滴定来测定焦磷酸盐锡钴锌三元合金镀液中钴锌含量的方法。本法快速准确，可用于工艺维护。     

亚硝酸钠作释放剂选择性螯合滴定法测定钯

螯合滴定法测定钯有直接滴定法、返滴定法及释放法,实验发现ＮＯ－２（或亚硝酸钠）能定量释放Ｐｄ－ＥＤＴＡ螯合物的ＥＤ－ＴＡ。用ＥＤＴＡ螯合Ｐｄ２＋和其他金属离子,在ｐＨ值４．５～５．５乙酸盐缓冲液中,用Ｚｎ２＋标准溶液滴定剩余的ＥＤＴＡ,然后加入过量的ＮａＮＯ２,释放出的ＥＤＴＡ,用Ｚｎ２＋标准溶液滴定之。实验表明,在大量各种金属离子存在下,只有Ｓｎ４＋、Ｈｇ２＋、Ｔｌ３＋干扰测定钯,加入ＮａＦ、乙酰丙酮掩蔽Ｓｎ４＋、Ｈｇ２＋Ｔｌ３＋,可消除其影响,选择性高。１　实验部分　　（１）主要试剂与仪器　…     

再论三价铬对铬酸镀硬铬的影响

采用镀硬铬溶液，用电解法改变镀液中Ｃｒ＾３＋的含量，考察Ｃｒ＾３＋浓度对硬铬镀镀液和镀层性能的影响。结果表明，随着硬铬度液中Ｃｒ＾３＋含量的升高，镀液分散能力和电流效率下降，光亮区电流密度范围减小，而镀液的深镀能力，镀层硬度及其耐磨性随Ｃｒ＾３＋含量的升高出现极值。     

高温高压合成的硅酸锶有铕铋的发光特性

用高温高压方法合成了Ｓｒ２ＳｉＯ４Ｅ＾３＋ｕ，Ｂｉ＾３＋和ＳｒＳｉＯ３Ｅｕ＾３＋＿，Ｂｉ＾３＋，研究了合成压力对其发光性能的影响，与用溶胶－凝胶共沉淀法和常压高温法合成的产品作比较，常压制备的ＳｒＳｉＯ３Ｅｕ＾３＋，Ｂｉ＾３＋为六角结构，而在２．３４－４．１０ＧＰａ的合成压力范围内，它转变为赝正交结构；常压下Ｓｒ２ＳｉＯ４；Ｅｕ＾３＋，Ｂｉ＾３＋，为单斜结构，在４．２ＧＰａ的合成压力下，未发现其结     

镀Ti立方氮化硼（cBN）与玻化SiO_2－Na_2O－B_2O_3结合剂的作用

为了防止玻化ＳｉＯ２－Ｎａ２Ｏ－Ｂ２Ｏ３结合剂烧结时对立方氨化硼（ｃＢＮ）的侵蚀，并实现ｃＢＮ晶体与结合剂间的化学键结合，本文用ＤＴＡ、ＸＲＤ、ＳＥＭ、ＥＰＭＡ等研究了Ｔｉ镀层与ＣＢＮ界面在６００～１２００℃温度范围的界面反应过程及界面成分结构特征，讨论了镀ＴｉｃＢＮ与结合剂复合体在烧结过程中的成分结构及性能．结果表明：Ｔｉ镀层与ｃＢＮ晶体在６００℃以上，以反应扩散的形式发生界面反应形成ＴｉＮ，８００℃以上形成ＴｉＢ２及ＴｉＢ，这些在ｃＢＮ表面外延生长的难熔化合物使Ｔｉ镀层与ｃＢＮ牢固结合并阻止了结合剂中的碱性组分对ｃＢＮ的侵蚀，镀ＴｉｃＢＮ晶体与结合剂则由低价的氧化钛为中介实现良好结合．     

液膜分离富集金及其微量测定

在协同流体载体（ＴＯＡ和ＰＭＢＰ）、表面活性剂（ＳＰＡＮ８０）、膜增强剂（液体石蜡）、溶剂（煤油）和内相（ＴＵ－ＨＣｌ溶液）乳状液膜体系中，在迁移条件下，１５ｍｉｎ内Ａｕ迁移率达９９．５％以上，而许多常见的离子则不能通过液膜迁移，只有Ａｕ才能从含有ΣＲＥ＾３＋、Ａｇ＾＋、Ｐｄ＾２＋、Ｐｔ４＾＋、Ｒｈ＾３＋、Ｃｕ＾２＋、Ｆｅ＾３＋、Ａｌ＾３＋、Ｐｂ２＾＋、Ｚｎ＾２＋、Ｎｉ＾２＋、Ｍｏ＾６＋、Ｗ＾６＋     

电镀规范对Fe—Ni—P合金硬度和耐磨性的影响

研究了不同电镀规范的Ｆｅ－Ｎｉ－Ｐ合金层显微硬度和摩擦学性能。镀液中Ｆｅ／（Ｆｅ＋Ｎｉ）浓度比增大或电流密度增加，镀层的硬度上，耐磨提高；槽液的ＰＨ值或温度增大，镀层的显微硬度下降，耐磨性降低。镀液ＮａＨ２ＰＯ２．Ｈ２Ｏ浓度为５ｇ／Ｌ时，镀层硬度和磨性最高。宜选用的工艺参数为ＰＨ值１．０－１．２，温度６０－７０℃，电流密度１０－２０Ａ／ｄｍ＾２。Ｆｅ－Ｎｉ－Ｐ非晶合金的耐磨性比Ｎｉ－Ｐ非昌合金高２     

电沉积Ni—P,Ni—P—Si3N4非晶态合金及其结构,性能研究

研究了Ｎｉ－Ｐ、Ｎｉ－Ｐ－Ｓｉ３Ｎ４非晶态合金薄膜的是沉积工艺，通过ＳＥＭ－ＥＤＳ，ＸＲＤ，ＥＭＰＡ等微观分析方法，提出了获取８￣１４ｗｔ％Ｎｉ－Ｐ和Ｎｉ－Ｐ－Ｓｉ３Ｎ非晶合金镀层的镀液组成和电沉积参数。实验表明，Ｎｉ－Ｐ非晶态合金镀层在碱液中具有优越的耐蚀性能，在含Ｃｌ＾－１的中性盐液中有良好的耐蚀性，且不产生点蚀；Ｎｉ－Ｐ－Ｓｉ３Ｎ４非晶合金镀层，经晶化处理后，耐蚀性能提高，且与基材呈冶金结合     

Zn—Al2O3和Zn—SiO2复合镀层的研制

详细叙述了Ｚｎ－Ａｌ２Ｏ３和Ｚｎ－ＳｉＯ２复合镀层的制做方法，提出了复合镀液中所用微粒子和净化处理方法。对复合镀层的耐腐蚀性和结合力进行了测定，得出了耐腐蚀性和结合力均较好的Ｚｎ－Ａｌ２Ｏ３和Ｚｎ－ＳｉＯ２复合镀层中粒子的含量范围等有用的数据。     

Zn－Al_2O_3和Zn－SiO_2复合镀层的研制

详细叙述了Ｚｎ－Ａｌ２Ｏ３和Ｚｎ－ＳｉＯ２复合镀层的制做方法，提出了复合镀液中所用微粒子和净化处理方法。对复合镀层的耐腐蚀性和结合力进行了测定，得出了耐腐蚀性和结合力均较好的Ｚｎ－Ａｌ２Ｏ３和Ｚｎ－ＳｉＯ２复合镀层中粒子的含量范围等有用的数据。     

LOM技术中的挤制陶瓷片的研究

采用挤出工艺制备了用于ＬＯＭ技术中的Ａｌ２Ｏ３和ＳｉＣ陶瓷片坯件，厚度０．２ｍｍ。有机物载体采用低密聚乙烯，固体粉料占４８ｖｏｌ％，研究了Ａｌ２Ｏ３－ＬＤＰＥ混合物的流变性能，对陶瘊片进行了ＴＧ－ＤＴＡ热分析和ＳＥＭ微观组织分析。     

单柱离子色谱法分离测定复合镀铬液中的F^—和SO4^2—

采用单柱离子色谱系统，在样品中存在大量铬酸根的情况下，以３．０ｍｍｏｌ／Ｌ邻苯二甲酸氢钾作为淋洗液，简单快速地分离测定了镀铬液中的Ｆ＾－和ＳＯ４＾２－，并在此条件下作出了Ｋ２ＳｉＦ６的离解曲线。Ｆ＾－，ＳＯ４＾２－的线性范围分别为１．０￣１５０．０ｍｇ／Ｌ，１．４￣１５０．０ｍｇ／Ｌ，最低检出浓度分别为０．０２ｍｇ／Ｌ，０．０７ｍｇ／Ｌ（信噪比为２）。