镁合金化学成膜的最新研究

化学转化处理是一种既简单又有效的镁合金表面防腐蚀处理方法,也是当前提高镁合金表面防腐蚀性能最常采用的方法。综述了镁合金化学成膜的主要原理、化学成膜的分类以及化学成膜前处理、成膜溶液的主盐和成膜所采用的特殊工艺方面的最新研究进展,并指出镁合金化学成膜的今后发展方向。     

高酸度磷化液成膜机理探讨

有关高酸度磷化液的成膜机理目前尚无定论,作者通过对高酸度磷化液进行反复的实验,主要从时间、温度、促进剂等因素对高酸度磷化液所形成的磷化膜的耐蚀性的影响进行了讨论,并在此基础上初步探讨了高酸度磷化液的成膜机理, 形成的磷化膜为非晶型的磷酸铁盐.     

日本CVD技术的新进展

表面改性有两种类型,其一为表面处理,由此改变表面的化学成分或物理、机械性能;其二为薄膜沉积或镀层,由此产生一新的表面。近二十年,表面改性技术由于新工艺的出现发展迅速,在微电子学工业得到广泛应用。并取得显著经济效益。开发表面改性技术的主要目的即降低成本(用廉价的材料于一些特殊用途)、改善性能(如耐磨性、耐蚀性)及获得独特的性能(如特殊的电、光特性)。在日本,气相沉积技术已很普及,工业界、政府,大学试验室做了大量的研究工作。日本这一技术可以说处于世界先进水平。     

影响CVD高纯钛工业化因素研究

CVD法制备高纯钛过程中,高纯钛沉积速率和杂质含量是制约其规模化生产的主要原因。本文对沉积速率和杂质含量的影响因素进行了分析,发现影响沉积速率的主要因素是:真空度、温度以及加碘方式。影响杂质含量的主要因素是真空度、温度、TiI2蒸汽压以及海绵钛的质量。     

CVD技术的应用与进展

简要论述了化学气相沉积（CVD）技术的工作原理,与其他表面硬化技术相比的特点,应用领域,以及近年来发展的金属有机化合物化学气相沉积（MOCVD）、等离子体化学气相沉积（PCVD）、激光化学气相沉积（LCVD）、超高真空化学气相沉积（UHVCVD）和热丝化学气相沉积（HWCVD）等新CVD技术,展望了该技术的发展趋势和应用前景。     

CVD金刚石膜的抛光技术

高的表面粗糙和厚度的不均匀性影响了ＣＶＤ金而石膜的应用,而抛光可以减少这些缺点,近年来,发展了近多ＣＶＤ金刚石膜的抛光技术,崦且不同的抛光技术都有其优缺点,本文总结了ＣＶＤ金刚石膜的各种抛光技术及其特点,并提高出了一种新的抛光技术。     

由PVD或CVD法形成的功能薄膜

主要对新近由ＰＶＤ或ＣＶＤ法形成的几种功能薄膜的技术特性和应用情况作出概况，从而是展示了功能薄膜的发展动态。     

利用粉末冶金技术生产高功能材料

利用粉末冶金技术生产高功能材料下表列出了日本粉末冶金产品的年产值增长状况（亿日元），说明粉末冶金技术主要用于制造硬质合金、机械零件和磁性材料。利用粉末冶金技术生产的永磁材料Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ系磁体，磁性能得到飞跃提高，正在逐渐取代Ａｉｎｉｃｏ和ＳｍＣｏ系...     

CVD和CVD镀层工具钢的热处理

应用气相沉积技术可以获得微米级或纳米级的单层或多层新颖材料.其中硬质膜在机械零件和加工工具上的应用一直是人们最感兴趣的重要方面.目前,对涂层硬质合金主要应用CVD技术,涂层高速钢和高合金钢主要应用PVD和PECVD技术.本文阐述具有高淬透性、二次硬化能力和淬火加热奥氏体化温度接近CVD涂覆温度的工具钢,在CVD涂覆的前后采用强化的热处理和表面保护的工艺方法进行处理,可以获得具有优良的基材性能和优异的CVD涂层的零件,将大大提高零件的使用寿命.     

CVD技术在冷拔模具的应用

本文主要介绍化学气相沉积(CVD)技术应用于冷拔模具以及采用该技术的模具在制作过程中的几个问题。并列出了应用实例,表明模具寿命有明显提高。     

真空密封造型喷涂成膜技术研究

研究了内含耐火涂料的纤维素酯快速成膜配剂的空气喷涂及其喷涂成膜在Ｖ法铸造中的应用。Ｖ法快速成膜配剂经空气喷涂后,一般１～２ｍｉｎ内可固化成膜,其膜可应用于塑料薄膜无法覆膜的复杂铸件,特别是所成薄膜对于铸铁及有色金属,无需另刷耐火涂料,可直接浇注铸件     

高熵合金的最新研究进展

阐述了高熵合金的定义、性能特点及其应用领域,并介绍了近几年来国内外在该领域取得的实质性进展。     

CVD法制备高纯钛形核过程动力学分析

实验用了化学气相沉积(CVD)法制备高纯钛,对高纯钛制备中的形核过程进行了热力学和动力学分析,实验得出:沉积区温度应控制在1350K~1450K。     

高功能不锈钢

日本山阳特殊钢公司近年来开发了一系列能满足多种要求的高功能不锈钢 ,包括切削用不锈钢和冷锻用不锈钢。作为切削用的高功能不锈钢 ,有电磁不锈钢ＱＭＲ系列 ,近来又进一步提高了耐蚀性开发成功新型ＱＭＲ5Ｌ不锈钢 ,主要用作油压阀、空气阀等电磁阀门。在切削用的马氏体系不锈钢之中 ,新开发的ＱＳ41 6ＬＸ不锈钢适用于旋转轴件等。另外 ,还有重切削用的新型高耐蚀性不锈钢ＱＳＦ1 90Ｌ ,作为个人电脑硬盘部件用的钢种 ,有效地提高了不析气的性能 (抑制了钢中硫化物与空气中水分发生反应 )。作为冷锻加工用的高功能不锈钢 ,开发了电磁不…     

CVD金刚石薄膜的微机械加工技术研究进展

金刚石薄膜是一种蕴涵巨大应用潜力的新型电子功能材料，但是它极高的硬度和化学稳定性使其难以被加工成型，因此，金刚石薄膜的微机械加工技术是其MEMS应用的关键技术问题之一，本文介绍了近年来国内外在选择性生长，模型复制，激光刻蚀和等离子体刻蚀等金刚石微机械加工技术方面的研究进展，着重探讨了可以直接对金刚石薄膜进行微细加工的反应离子刻蚀技术，提出了改善微机械加工效果的金属掩膜侧壁钝化概念，为MEMS器件的金刚石微结构集成制造开辟了更为精确有效的技术途径。     

CVD金刚石薄膜衬底表面预处理技术进展

评述了化学气相沉积金刚石薄膜衬底表面预处理技术的进展情况。分析了表面研磨法、等离子刻蚀法、浸蚀除钴法、沉积中间层法在衬底表面形成稳定化合物等预处理对CVD金刚石薄沉积的影响。结果表明,金刚石粉末研磨基底、化学浸蚀除钴、在基底表面添加中间层以及在基底表面渗入第三元素并且使这种元素和基底表面的钴形成稳定中间化合物的方法都可提高金刚石的形核率,但大部分研究表明等离子体刻蚀预处理对金刚石的形核则起阻碍作用。     

爆炸加载条件下CVD高纯钨的变形机制

采用化学气相沉积方法制备纯钨药型罩,并进行静破甲试验,对试验后回收的杵体进行微观分析,以此研究纯钨在爆炸驱动下的变形机制。结果表明,杵体内不同区域由于变形量不同,其微观组织特征存在显著差异,通过分析不同变形区域纯钨的微观组织演化过程得出纯钨在爆炸加载条件下的变形机制为动态再结晶,且属于亚晶旋转动态再结晶机制,没有孪晶参与变形,CVD纯钨原始柱状晶的择优取向对其变形机制未见有显著影响。