微硅粉表面处理对悬浮液体地膜流变特性的影响

使用硅烷偶联剂KH-550对微硅粉进行表面改性,将改性后的微硅粉添加到液体地膜基料中,探究了硅烷改性微硅粉悬浮液体地膜在不同固含量、温度、偶联剂用量下的流变特性.实验结果表明,经硅烷偶联剂表面处理,微硅粉悬浮液体地膜流变性得到显著的提高,但悬浮液体地膜剪切变稀现象仍然存在,温度对其流变性能的影响不大.采用Casson模型拟合了悬浮体系的流变曲线,所得拟合参数与实验测定值吻合度较高,硅烷偶联剂的最佳用量在1.5wt％左右时,液体地膜体系分散稳定性最佳.最后在振幅扫描下测定悬浮体系的粘弹性,结果表明剪切应变γ增加到6％ ～ 10％时,悬浮体系表现为固体性质,γ超过6％ ～ 10％时表现为液体性质.     

陶瓷粉料在液体介质中分散的稳定机制

本文从陶瓷浆料中粒子间的相互作用着手,根据浆料稳定剂的作用机理不同,对陶瓷浆焖的三种稳定机制（静电稳定机制,空间位阻稳定机制,联合稳定机制）进行了详细的阐述。     

氮化硅粉体的表面化学性质和水中的胶体特性

陶瓷粉体的表面性质和胶体行为对成型、烧结等工艺过程有很大影响。本文回顾了近年来对氮化硅粉体的表面化学性质和水中的胶体特性的研究成果。系统介绍了氮化硅粉体表面元素的键合状态、表面官能团、氧在颗粒表面和内部的分布和表面富氧层的厚试行表面化学性质,以及氮化硅颗粒在水中的荷电机理、等电点和Ｚｅｔａ电位与表面氧含量的关系、含烧结助剂氮化硅多相体系的胶体特性和分散剂的作用机理等胶体特性。     

聚乙二醇表面改性对纳米Si3N4分散性的影响研究

用二氯二甲基硅烷和聚乙二醇1500对纳米氮化硅(Si_3N_4)粉体进行表面改性,通过衰减全反射红外光谱(ATR-FTIR)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、固含量测定和沉降实验来研究纳米Si_3N_4的表面改性效果和分散性。结果证明:二氯二甲基硅烷和聚乙二醇1500(PEG1500)成功接枝到纳米Si_3N_4粉体表面,表面改性后的纳米Si_3N_4粉体颗粒均匀,有效阻止了纳米颗粒的团聚,提高了纳米颗粒的分散性。     

分散剂和非离子型表面活性剂对悬浮聚氯乙烯树脂颗粒特性的影响

研究了聚乙烯醇(PVA)分散剂和非离子型表面活性剂对悬浮聚氯乙烯(PVC)树脂颗粒特性的影响。结果表明随着PVA醇解度的增加，PVC树脂的颗粒规整性和表现密度增加，孔隙率和吸油率降低；随着非离子型表面活性剂添加量的增加，PVC树脂的平均粒径和吸油率增大。从PVA和表面活性剂在水一油两相分配出发，讨论了PVA醇解度和添加非离子型表面活性剂对PVC树脂的颗粒特性影响机理。     

灵芝菌丝体液体悬浮培养发酵液的流变特性

灵芝菌丝体液体悬浮培养发酵液的流变特性周少奇（华南理工大学轻工食品学院生物工程系，广州５１０６４１）冯朴荪唐立民（大连理工大学，大连１１６０１２）关键词灵芝液体悬浮培养发酵液流变特性／宾汉液体１前言迄今，在生化工程领域，关于霉菌和植物细胞培养液的流变...     

pH值对包覆改性SiC料浆分散特性和流变性的影响

通过zeta电位、沉降实验、流变特性、粘度等测试表征pH值对包覆改性SiC料浆分散特性和流变性的影响。研究表明:以偶联剂作为基础层,有机聚电解质作为分散功能层的有机包覆改性SiC粉体主要通过静电空间位阻效应实现稳定分散,调节pH值可以控制接枝聚合物水解产物的解离方式,从而改变了颗粒表面的电荷种类和电荷密度,包覆改性粉体的流动特性也发生变化。调整料浆pH值约11可制备出固相体积分数达56％、表观粘度为568 MPa·s的稳定料浆。     

表面处理对原位悬浮聚合制备PVC／纳米碳酸钙复合材料的影响

对纳米碳酸钙进行表面预处理，在纳米碳酸钙粒子表面包覆上一薄层有机高分子，降低纳米粒子的高表面能，调节疏水性，改善其与有机基料之间的润湿性和结合性，从而达到与氯乙烯等有机物亲和良好的状态，防止纳米碳酸钙粒子自身的团聚，将经过表面处理和未处理的纳米碳酸钙粒子分别在5L和50L反应釜中与氯乙烯单体进行悬浮聚合，使纳米碳酸钙粒子原位复合到PVC中，将聚合完毕的PVC粒料浆液进行透射电镜，扫描电镜观察，比较纳米碳酸钙的表面处理对于原位悬浮聚合法制备PVC／纳米碳酸钙复合材料的影响。     

嵌段共聚物PAN-b-PZDMA对纳米氮化硅的表面改性研究

利用具有不同嵌段比的共聚物PAN-b-PZDMA对纳米氮化硅进行表面改性,探究了纳米氮化硅预处理条件。结果表明,纳米氮化硅160℃下恒温干燥2 h,表面预处理效果最好。在85℃,采用PAN138-b-PZDMA5的偶联剂(9%)改性后的纳米氮化硅疏水性增加,与水的接触角由11.6°提高到51.9°,在乙酸乙酯中分散性良好,无明显团聚。     

嵌段共聚物PAN-b-PZDMA对纳米氮化硅的表面改性研究

利用具有不同嵌段比的共聚物PAN-b-PZDMA对纳米氮化硅进行表面改性,探究了纳米氮化硅预处理条件。结果表明,纳米氮化硅160℃下恒温干燥2 h,表面预处理效果最好。在85℃,采用PAN138-b-PZDMA5的偶联剂(9%)改性后的纳米氮化硅疏水性增加,与水的接触角由11.6°提高到51.9°,在乙酸乙酯中分散性良好,无明显团聚。     

Si3N4粉体的表面改性及其对立体光刻成型的影响

传统的陶瓷加工技术成本高、周期长、缺陷多,难以生产高性能陶瓷,立体光刻技术是制造形状复杂陶瓷零件的一种高效手段。纯Si₃N₄粉体的折射率(n=2.1)与树脂(n=1.49)的折射率相差较大,光散射严重,导致其陶瓷浆料的固化深度较低,很难直接利用立体光刻技术成型Si₃N₄陶瓷零件。为解决Si₃N₄粉体难以光固化的难题,本研究采用表面包覆有机物和表面氧化两种方式改性Si₃N₄粉体,并对比两种方式对Si₃N₄粉体光固化特性的影响规律。结果表明,包覆实验后,有机物单体经过一定反应时间后可均匀附着在Si₃N₄粉体表面;氧化处理后,Si₃N₄粉体表面形成非晶SiO₂层,该层均匀附着在粉体表面上。原始Si₃N₄粉体的固化深度仅为20 μm,经过包覆改性和800 ℃氧化4 h后,Si₃N₄粉体的固化深度分别可提高到40 μm和50 μm,两种方式均能有效提高原始Si₃N₄粉体的固化深度。     

Si3N 4粉体表面化学分析及表面改性

Si3N4陶瓷是一种重要的结构陶瓷,本文着重阐述了Si3N4粉体的表面分析方法,以及为了提高固相体积分数而进行的Si3N4粉体表面改性方面的进展。     

纳米Si3N4陶瓷粉体表面改性的研究

用钛酸酯偶联剂NDZ-102化学包覆纳米Si3N4陶瓷粉体,通过沉降实验、粒度测定和表面能测试等实验手段研究了改性前后粉体的溶液中稳定性、热重、粒度分布等物性.结果表明:NDZ改性纳米Si3N4粉体为化学改性,添加量为10%时,粉体在甲苯中悬浮性最好;粉体改性后粒径降低,为纳米级分布,表面能也大幅度下降.     

Si3N4/Si3N4扩散连接的力学性能研究

采用热压法进行氮化硅陶瓷材料的扩散连接.结果表明:在1520℃,15MPa,60min条件下,氮化硅连接体的最高强度为448.6MPa,超过母材强度;平均连接强度为401.5MPa,为母材强度的96%.     

Nano-Si_3N_4陶瓷粉体表面有机化改性研究

文章采用硅烷偶联剂KH-845-4包覆改性纳米Si3N4陶瓷粉体,通过沉降实验、IR、TG、粒度测定等分析测试手段研究了改性前后粉体的溶剂中悬浮稳定性、热重、粒度分布等物性。结果表明:KH-845-4改性纳米Si3N4粉体为化学改性,添加量为10%时,粉体在甲苯中悬浮性最好;粉体改性后粒径降低,为纳米级分布。     

Si3N4粉末表面的非均质成核法包覆及其浆料流变性的研究

在研究Ｓｉ３Ｎ４粉末表面包覆工艺及各因素影响规律的基础上,确定了非均质成核法对Ｓｉ３Ｎ４粉末表面包覆改性的最佳工艺范围。利用透射电镜,Ｘ射线粒度分布仪,粘度测定仪、ｚｅｔａ电位测定仪对包覆前后Ｓｉ３Ｎ４浆料进行了分析。结果表明：在最佳包覆工艺范围内,Ｓｉ３Ｎ４粉末表面均匀包覆一层Ａｌ（ＯＨ）３,并包覆后Ｓｉ３Ｎ４浆料的ｚｅｔａ电位发生明显变化,粒度分布更加均匀,流变性能得到明显改善。     

晶体硅铸锭用氮化硅涂层失效机理及改性研究

氮化硅涂层是多晶硅铸锭必不可少的脱模剂,新型高效多晶硅铸锭对氮化硅涂层提出更高的要求。重点研究了氮化硅涂层在新型高效多晶硅铸锭过程中的失效机理,结果显示,氮化硅的碳化是导致氮化硅涂层与硅熔体间非浸润性降低,以及氮化硅涂层失效的主要原因。采用改进的溶胶-凝胶法（Sol-Gel）结合表面无碳处理制备增强型氮化硅涂层,该涂层在铸锭实验中显示出较高的强度及与硅熔体间良好的非浸润性,能够很好地满足新型高效多晶硅对氮化硅涂层的要求。     

氮化硅针状晶体的制备

采用Ｓｉ粉直接氮化的方法制备氮化硅针状晶体,通过热力不计算,选择了晶体 温度和压力范围,探讨了温度、压力、添加剂等对针状晶体晶相、形貌、产率的影响,并在１８５０℃、ＣａＯ质量分数为１０％条件下,制备了长径比为４￣１０的β－Ｓｉ３Ｎ４针状晶体,产率为６８％,采用ＸＲＤ,ＴＥＭ、ＳＥＭ对得到的氮化产物及针状晶体进行了表征。     

羰基铁粉体表面化学镀镍改性的研究

采用化学镀方法对羰基铁粉体实施了化学镀镍表面改性.通过扫描电镜、光电子能谱分析、俄歇能谱、红外发射率等性能测试,结果表明:所制备的样品镀层均匀,镀层的成分为镍磷合金,镀层厚度超过100nm,红外发射率显著降低,羰基铁粉体红外发射率由0.89降低为0.70.     

Preparation and mechanical properties of Si3N4 nanocomposites reinforced by Si3N4@rGO particles

A new type of reduced graphene oxide-encapsulated silicon nitride (Si₃N₄@rGO) particle was synthesized via an electrostatic interaction between amino-functionalized Si₃N₄ particles and graphene oxide (GO). Subsequently, the Si₃N₄@rGO particles were incorporated into a Si₃N₄ matrix as a reinforcing phase to prepare nanocomposites, and their influence on the microstructure and mechanical properties of the Si₃N₄ ceramics was investigated in detail. The microstructure analysis showed that the rGO sheets were uniformly distributed throughout the matrix and firmly bonded to the Si₃N₄ grains to form a three-dimensional carbon network structure. This unique structure effectively increased the contact area and load transfer efficiency between the rGO sheets and the matrix, which in turn had a significant impact on the mechanical properties of the nanocomposites. The results showed that the nanocomposites with 2.25 wt.% rGO sheets exhibited mechanical properties that were superior to monolithic Si₃N₄; the flexural strength increased by 83.5% and reached a maximum value of 1116.4 MPa, and the fracture toughness increased by 67.7% to 10.35 MPa·m^1/2.