基于周期性亚波长复合单元结构的表面等离子体光开关

本文研究了包括圆环结构、内置纳米棒的空心圆结构和复合结构周期性亚波长孔阵列的增强光透射特性,并证实了在复合结构中的内置纳米棒的空心圆环境的光场局域强度能够被显著地增强。此外,通过调控入射光的偏振方向,复合结构中纳米棒和空心圆的局域表面等离子体共振响应模式会发生相互转换。另外,我们设计了一种新型紧凑无泵浦光干扰并具有双通道的表面等离子体光开关。最后,该结果为表面等离子体光子器件提供了一种新思路,并拓展了微纳结构在光学通信及信息处理领域的应用范围。     

等离子体显示板制造过程的中间检验技术

加强等离子体显示板（PDP）制造过程的中间检验是提高产业化生产成品率的重要手段之一。本文介绍等离子体显示板制造过程的中间检验项目和专用设备，并重点阐述光遮挡法用于障壁和荧光粉三维形状检验的原理及优势。     

慢扫描CCD简化等离子体光谱实时处理

慢扫描ＣＣＤ简化等离子体光谱实时处理电荷耦合器件（ＣＣＤ）是一种两维硅光探测器列阵。每个探测器叫一个象元。当辐射落在象元上时，产生光电子，其数目与辐射强度成正比；在一般工作状态下，光电子被约束在各自的象元中。因此，入射辐射的图象产生相应的电荷图象，它...     

用于PDP的蓝色荧光粉的最新发展

作为一种发蓝光的荧光粉，只有BaMgAl10O17：Eu^2＋（BAM）被实际用于等离子体显示屏（PDP）。然而，BAM在显示屏制造和工作期间发生严重恶化，会导致发光效率和色纯度下降。本文回顾对BAM老化机理的研究。另外，讨论了用于等离子体显示屏的BAM改进和作为BAM替代物的新的蓝色荧光粉的现状。     

等离子体波导中光场感应电离软X射线激光研究进展

利用等离子体波导实现光场感应电离(OFI)X射线激光放大,一方面可以降低产生X射线激光的抽运激光阈值,从而提高由于自散焦而降低的有效激光功率密度;另一方面,由于等离子体中产生的大量电子被束缚在等离子体波导内,降低x光信号色散影响,可以大大提高激光增益长度,这是一种实现台上X射线激光新的抽运机制.详细介绍了光场感应电离x射线激光、强激光等离子体波导以及等离子体波导中光场感应电离X射线激光的研究进展.     

高功率激光焊接光致等离子体的检测

系统地归纳了高功率激光焊接过程中光致等离子体的声、光、电、热等四种特征信号，综述了国外在等离子体信号检测方面的试验方法及研究进展，分析了未来的发展趋势     

第八讲 等离子体制造积层多层板

1 等离子体及其应用等离子体加工是在半导体制造中而创立起来的一种技术。它早在半导体制造中得到了广泛地应用,是半导体制造的支柱。因而,它在IC加工中是一种很长久而成熟的技术。由于等离子体是一种具有很高能量和极高活性的物质,它对于任何有机材料等具有很好的蚀刻作用,因而也被引用到PCB制造中来。首先是用于多层板钻孔后去钻(沾)污方面,特別是挠性印制板和刚-挠性印制板钻污的处理上,因采用化学法处理这类钻污,其效果是不理想的,而采用等离子体去钻污可获得孔壁较好的     

新型芯片的潮头正在涌起

等离子体波在金属表面的传输距离已经得到了显著提高，这一进展可能导致与目前电子微芯片控制电子的方式相类似的控制光的新型芯片。本文综合了等离子体光学领域的多篇文章。简要介绍了这一崭新技术及其进展。     

混合介质多层板制造等离子体处理技术研究

本文针对一种陶瓷粉填充、玻璃短纤维增强的聚四氟乙烯高频介质材料和传统运用的FR-4基板，制造通讯用混合介质多层印制电路板进行了简单的介绍，此外，对于混合介质多层印制板制造中的等离子体处理技术进行了较为详细的介绍。     

光学技术在PDP制造中的应用

近年来新型的平板显示器件PDP(等离子体显示板)发展迅速，PDP作为一种气体放电器件，其工业制造涉及电真空学、光学、化学、计算机、精细加工、微电子等学科，本文主要论述和介绍了PDP的制造工艺以及光学技术在PDP制造中的应用。     

a—Si等离子体刻蚀的研究

将等离子体刻蚀应用于非晶硅的刻蚀中,得到边缘整齐、分辩率高、重复性好、图形清晰的满意效果。通过调整工艺条件,可严格控制刻蚀速率。其特点优于湿式化学腐蚀,是一种非晶硅特性研究和器件制造中值得推广和使用的方法。     

气体等离子体辐射光声信号检测与分析

气体等离子体做为一种新的辐射源,因具有辐射范围宽等优点而备受关注。本文对强飞秒激光脉冲诱导大气等离子体辐射光声信号现象进行了探究,用实验的方法探测和分析了激光脉冲能量、偏振方向以及声传输的径向距离对光声信号强度的影响。     

彩色等离子体显示器的障壁制造工艺

彩色等离子体显示板作为大屏幕显示器有许多独特的优点,如响应速度快、具有存储性、扫描线数增加,亮度也不减少,具有特殊的非线性特性等。在工艺上,彩色等离子体显示板可以用厚膜印刷技术制造,更增强技术竞争力。不仅如此,彩色等离子体显示板制造工艺的次数只有二十七次,TFT-LCD需要六十五道工序,前者比后者的工序少一半多,而且这些工艺的成本低,这在竞争中非常有利。     

突破衍射极限的表面等离子体激元

表面等离子体激元是外部电磁场诱导金属表面自由电子的集体共振,产生沿金属-介质界面传输的表面波,具有亚波长局域、近场增强和新颖的色散特性,在纳米光子学中发挥着重要的角色。利用表面等离子体激元构成的光学器件能够突破衍射极限,实现微电子与光子在同一个芯片上的集成。系统介绍了表面等离子体激元的基本原理,及其在光波导、探测器、调...     

用远红外HCN激光干涉仪测量等离子体电子密度

在大多数托克马克上，远红外激光干涉仪是等离子体诊断中的一种重要的装置。本文介绍了用远红外ＨＣＮ激光干涉仪测量等离子体电子密度的原理和激光干涉仪结构，并给了了首次在我国第一以大型超导托克马克ＨＴ－７装置上测到的中心弦等离子体电子平均密度。     

电子对抗新途径——等离子体隐身技术

隐身技术在现代战争中具有很重要的作用,为了在未来战争中获得主动权,各国都非常重视飞行器在隐身技术方面的研究与发展。等离子体属于一种新颖隐身技术,它是实现雷达隐身的一种新途径,是雷达隐身技术的最新发展。论述了等离子体隐身的基本原理。通过理论分析和数值模拟,计算了电磁波在等离子体中的反射、吸收衰减与等离子体碰撞频率、电磁波频率的关系,并对实现等离子体隐身进行研究,结果表明,利用等离子体对雷达波隐身是可行的。     

基于液晶调制光偏振的荧光量子点显示模式

传统的显示器由于滤色器的存在，有较大的功耗且能量利用率不高。本文提出了一种利用液晶调制紫外光偏振态以实现对受到局域表面等离子体共振影响的荧光量子点光强调制的方法，所设想的显示设备由用于产生局域表面等离子体共振的金属纳米结构、附着于金属纳米结构电场热区的荧光量子点和基于液晶结构的光偏振调制模块组成。对单个像素的情况进行了理论模拟和原理分析，计算了若干金属纳米结构对不同偏振态的紫外光的响应。理论验证了特定金属纳米结构的表面等离子体光强放大效应，通过电子束刻蚀和半导体沉积等技术手段可在光强放大的电场热区植入荧光量子点，受到紫外光偏振态调制的金属表面等离子体产生可控的光强增强或减弱，进而激发或者抑制相应颜色的量子点发出不同颜色的光，使其可以用于显示。提出了一种新颖的显示模式，不同于传统显示，其具有较高的能量利用率和较大的色域，虽然其存在色彩对比度较低、分辨率不够高等问题，但提议确实为人们日常的信息显示提供了一种新的思路和一种潜在可能，相信随着技术的进步和设计结构的优化，这种光偏振态调制受表面等离子体激励的荧光量子点的方法可以在显示以及非显示领域获得应用。     

应用于折射率检测的光纤表面等离子体波传感器的研究

光纤表面等离子体波传感器具有结构简单、灵敏度高等特点,在机敏结构中具有非常重要的应用前景。运用光纤表面等离子体波来测量折射率是一种简便、灵敏的方法,我们可以利用这一特性制作出通过检测折射率对复合材料进行固化检测的光纤表面等离子体波传感器。本文介绍了光纤表面等离子体波传感器的基本原理及利用这种光纤传感器来测量折射率的初步研究。     

含光学非线性介质薄膜对表面等离子波的影响

表面等离子体是在金属和电介质交界面上所形成的电荷层,在电磁波的激励下表面等离子体会发生共振现象,影响电磁波的传播。为了拓宽表面等离子体共振技术的应用,研究了多层纳米膜结构中的表面等离子体共振,并且根据Fresnel公式和Walpita描述的矩阵方法,计算了光在含有非线性介质的多层纳米膜中传播时的反射率R,其中非线性介质具有光克尔效应和双光子吸收。应用Matlab软件,画出了反射系数R和入射角θ之间的关系曲线。进一步讨论了光学非线性对表面等离子体共振角谱的影响,其中光强在0.5×1012W/m2到1.5×1012W/m2的范围内,Rmin随着入射光强的增加而变大,而θp随入射光强的增加而呈递减的趋势。     

电子束与等离子体互作用产生的宽带微波辐射

近年来，电子束与等离子体互作用产生高功率宽带微波辐射，由于其具有可调谐等优点而受到国际上普遍关注，这一互作用过程的辐射机制目前大致分为等离子体辐射和电子束辐射两大类，本文在简介了有关实验情况后，对几种辐射机制，包括逆Ｃｏｍｐｔｏｎ散射，孤立子场中群聚电子的辐射，非线性等离子体电流引起的辐射等作了评述。