磁记录介质用粘合剂

随着以电子计算机为中心的信息社会的发展,作为存贮信息介质的磁记录材料发展很快,同样用于磁记录介质的粘合剂也有较大的发展。据估计,日本1983年磁粉的消费量约为19845吨,1984年约为26855吨。按磁粉与粘合剂的用量比为4:1估算,粘合剂的用量1983年约为4961.3吨,1984年为6713.75     

磁记录介质用的新型钛偶联剂

磁浆的组成主要是磁粉和粘合剂,此外,还需要加入各种补加剂,特别是润滑剂和润湿剂,如润湿剂卵磷酯、有机磷酸酯等。润湿剂常用作粘合剂树脂的增塑剂,并能十分有效地软化它,但如过量,它会从涂层内迁移到磁层表面,与润滑剂相混,影响磁层的     

图案化磁记录介质

在分析传统磁记录在高密度化过程中遇到的困难的基础上,指出了未来超高密度磁存储的方向,着重分析了图案化磁记录(patterned magnetic recording)对介质的要求,并简要介绍了图案化介质的制备技术.     

磁盘用金属薄膜磁记录介质的研究

在数学磁记录中,磁记录特性和记录密度的提高,是当前的一个重要的研究课题。磁记录密度的提高,就意味着计算机设备体积的小型化和贮容量的扩增,要达到这种目的,磁记录介质材料的优选是个重要的基本条件。介质材料在目前广泛采用的针状γFe_2O_3磁性粉末材料,还要进一步极大地提高磁特性,但是,已受到其本身固有特性的限制。金属铁磁材料具有非常优异的磁性能,金属铁磁薄膜是一种很有潜力和大有希望的新型     

磁盘用金属薄膜磁记录介质的研究

本文介绍了高密度数字磁记录用Co/Cr磁记录介质材料的初步试验研究结果。Co/Cr磁膜介质系用真空蒸发沉积法制作,磁记录试验在磁盘机上进行。并在相同的写读试验条件下,与保加利亚的γ-Fe_2O_3介质磁盘进行了特性比较的结果表明,Co/Cr磁膜介质的特性优越,是一种具有良好使用前景的磁记录介质材料。     

钡铁氧体磁记录介质

钡铁氧体磁粉已被用来试制各种磁记录介质。特别是在8mm录象磁带、高容量软磁盘和R-DAT数字录音盒式磁带方面的应用开发十分引人注目。在这些应用中,钡铁氧体介质已显示出它对金属粉涂层和薄膜金属涂层材料的强的竞争力。最吸引人的是它可沿用现在的配方、分散设备和涂布装置进行生产,以及这种介质具有潜在的使用特性。钡铁氧体是六角型晶体结构,分子式为BaFe_(12)O_(19)。它具有强的单轴各向异性,易磁化方向为C晶轴,矫顽力主要取决于磁晶各向异性,内禀矫顽力约为7,000Oe,比饱和磁化强度约72emu/g,密度为5.33g/cm~3,居里温度为450℃,电阻率为10~8Ω。     

新的磁记录介质——KEYSTONE

美国3M公司于1983年发明了一种新的磁记录介质KEYSTONE的制造技术。采用这种技术制造的磁记录介质,具有存贮容量大、经济与环境容限宽等优点。直径为     

高性能磁记录介质磁层的发展趋势

概述了BaFe磁粉的先进特性和MP／ME的快速发展，并得出一种看法：在今后几年MP磁层将得到更大的发展。     

超高密度磁记录介质的研究进展

总结了近年来超高密度磁记录介质的研究概况,着重介绍了垂直磁记录介质中L10相FePt薄膜的研究方法,并认为L10相FePt薄膜将会成为高密度磁盘记录介质的主流.倾斜磁记录、热辅助磁记录、图案记录等存储技术,目前处于实验室研究阶段,但是有望突破垂直磁记录的超顺磁极限,实现超高密度磁记录.     

CoNiP高密度磁记录介质性能的研究

用化学镀法制取了ＣｏＮｉＰ磁性合金薄膜，测定了膜厚和成分对磁性能的影响，结果表明：随膜厚的增加，平行于膜面的矫顽力Ｈｃ（／／）和垂直于膜面的矫顽力Ｈｃ（┴）下降，当膜厚大于０．２μｍ时，趋于平缓，ＣｏＮｉＰ合金中钴的含量从１０．５３％到７４．３７％变化时，其Ｈｃ（／／）和Ｈｃ（┴）分别由０．３和５．１增加到９３．４和１０８．９ＫＡ／ｍ。     

硬盘磁记录介质的现状与发展

讨论了现有介质、新介质的材料与结构,以及其工艺技术的现状。并展望了高密度硬盘磁记录介质的未来。指出高密度、高信噪比Ｓ／Ｎ的硬盘介质要求有高的矫顽力和小的磁记录畴。     

纯铝化学镀CoNiP磁记录介质的研究

本文研究了用化学镀制取CoNiP磁记录介质的工艺，结果表明，对纯铝进行化学除油，酸蚀，一次浸锌和二次浸锌后，再化学镀CoNiP合金，该合金的磁性能为：Hc∥＝26207．68A／m,Hc(⊥)=45408.64A;SQR(∥)=0.352,SQR(⊥)＝0．083，可作为高密度磁记录介质使用。     

国外颗粒磁记录介质最新发展状况

本文着重介绍了国外颗粒磁记录介质氧化铁、氧化铬、钴改性氧化铁、金属磁粉以及钡铁氧体目前发展趋势和市场状况。     

超微粒材料在磁记录介质中的应用

所谓超微粒材料系指直径在1μ以下的微粒粉体。它可应用于导电材料、烧结材料、化学触媒和磁记录介质等许多方面,但在工业上,用量最大的主要是磁记录介质用的各种磁粉。磁记录介质用的超微粒材料——磁粉,应满足下述要求: 1.饱和磁化强度大; 2.矫顽力适当;     

扫描电子显微镜在磁记录介质研制中的应用

本文在简要介绍了扫描电镜成像原理之后,从三个方面介绍了它在磁记录介质研制中的应用。磁粉在磁层里分散性的观察,表明磁粉在磁胶里分散性能的好坏与介质的矩形比是一一对应的,当分散性好时矩形比最高;在涂层厚度的测量中,通过比较几种测量涂层厚度的方法,认为用扫描电镜测量较为准确。并介绍了样品制备及测量方法和结果;在对磁粉取向均匀性的观察中,表明取向度高的磁带,其磁粉取向均匀性并不一定好。     

超高密度磁记录介质的研究进展与未来趋势

磁记录在过去的50年内经历了磁带、硬盘水平记录模式和垂直记录模式,其记录面密度达到～150Gbit/in~2,50年中记录面密度提高了约10~7倍。在未来5～10年内,磁记录面密度的目标是1000Gbit/in~2(即今天的6～7倍)。本演讲将从磁记录介质因素(磁晶各向异性能和磁有序诱发相分离)和记录模式两方面来评述磁记录面密度的发展过程和相关科学问题的解决、现在面,临的“瓶颈“困境以及未来的发展方向。首先从热力学的角度综述了最近几年对当前唯一可行的Co-Cr基合金介质发生的这种磁有序诱发相分离的认识和理解,通过实验证据和热力学计算来阐明该合金体系能形成纳米双相组织的成因,并解释有效合金化元素Pt、Ta、B对Co-Cr基合金薄膜提高其有效磁晶各向异性能和降低记录噪音的作用。详细分析该体系多元合金作为磁记录介质发展过程中的科学问题(磁晶各向异性能的改善、磁记录信噪比(SNR)的提高与双相组织的关系)以及目前面临的困境(超顺磁)和可能解决的方案。着重阐明未来可能的超高密度记录材料(相分离型合金Co-W和Co-Mo、有序化型合金CoPt和FePt,稀土型合金FeNdB和SmCo_5等)的研究进展和以上各种材料目前存...     

垂直磁记录介质薄膜研制的新途径(英文)

本文阐述了铝氧化电沉积法获得磁记录材料的基本原理,研究了铝交流氧化膜中沉积磁性金属及其合金制备垂直磁记录薄膜的新途径,建立了铝交流氧化电沉积法,探讨了氧化膜的结构和磁特性的关系。     

磁记录带的吸湿及老化

本文是美国国家航空与航天管理局E.F.Cuddihy发表的,有关采用聚氨基甲酸乙酯制成氧化物涂层及背层的宽频仪器用聚酯磁记录带的吸湿及水解老化特性的学术研究报告摘编．     

CoCrPtNb/CrTi/C玻璃盘基磁记录介质制备与性能

采用CoCrPtNb四元合金作磁记录介质,并使用多层膜结构C/(CoCrPt)100-xNbx/CrTi/C/Glass Substrate制备硬盘磁记录介质.实验结果表明此种薄膜记录介质,即使在室温下溅射,也可得到高达240kA/m的矫顽力;此类薄膜在550℃高温下,经过30min退火后,其矫顽力有较大幅度提高,并在Nb含量为2.4%(原子分数)时达到极大值360kA/m此时剩磁比S=0.90,矫顽力矩形比S*=0.92,从而制成了适于高密度或超高密度磁记录使用的薄膜介质.并详细分析了在室温条件下溅射,此种介质矫顽力与Nb含量变化的关系;并对退火后介质矫顽力与Nb含量变化的关系也进行了讨论.