纳米尺寸同步辐射X射线光刻技术研究

本报道了作在同步辐射X射线光刻研究中的一些新进展，其中，最细尺寸已达50纳米。     

50nm及50nm以下同步辐射X射线光刻光束线设计

X射线光刻相对于其他下一代光刻技术而言有许多优点,比如其工艺宽容度大、成品率高、景深大、曝光视场大、成本低等,更为重要的是,其技术已经比较成熟。对于100nm同步辐射X线光刻系统而言,它采用的波长通常为0．7-1．0nm,而当光刻分辨率达到50nm以下时,采用的同步辐射X射线波长范围应该为0．2—0．4nm。探讨了在北京同步辐射3B1A光刻束线上进行50nmX射线光刻的可能性。     

同步辐射光刻技术研究进展

光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术。X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种，具有产业化的应用前景。掩模技术是X射线光刻技术的难点，本文报告了国内利用同步辐射源的X射线掩模和光刻技术研究的最新进展。     

用LIGA技术制作微马达构件

阐述了LIGA技术的组成及特点。对LIGA工艺掩膜、X射线光刻、电铸及塑铸等进行了朱理分析。用一次成型法制作了以聚酰亚胺为衬基、以Au为吸收体的X射线光刻掩膜。简单介绍了这种掩膜的制作工艺过程，并用这种掩膜在北京电子对撞机国家实验室进行了同步辐射X射线光刻，得到了深度为500μm，深宽比达8．3的PMMA材料的微型电磁马达联轴器结构。给出掩膜和X射线光刻照片。同时，对Au、Ni等金属材料的厚膜电铸进行了工艺研究。     

LIGA技术制备正电子慢化体的实验研究

LIGA技术是具有加工精度高、深宽比大、表面平整、应用领域广等优点，是一种先进的微细加工方法，实验中将LIGA技术的优点用于正电子慢化体的制作中，能获得传统加工方法无法制作出的薄壁网状多孔镍结构，满足新型正电子慢化体的制备要求。本文报道了用LIGA技术制作正电子慢化体的实验研究。     

北京同步辐射装置X光光刻束线监测系统

本文介绍了安装在北京同步辐射装置（BSRF）3B1束线上的自制同步辐射光束在线监测系统，对光束垂直位置，光斑均匀性及光刻曝光量（同步光积分光强）实现了在线监控，给出了实时在线测试结果。     

X射线光刻技术应用现状与前景

鉴于接近式X射线光刻技术具有高分辨率、大焦深、大曝光像场、高产量、大工艺宽容度、易于扩展到50am及50am以下规则等诸多优点,它非常适合应用于100nm及100nm以下集成电路的生产。本文首先简要介绍了国际上X射线光刻技术(PXL)现状,再分别介绍X射线光刻技术在纳米电子学研究、单片微波集成电路(MMIC)生产、硅基超大规模集成电路生产中的应用现状与前景,并对国内的X射线光刻技术的近期研究进展进行了简要介绍。     

LIGA技术X光深层光刻工艺研究

通过在北京高能所3W1束线上进行的X光深层光刻工艺研究,获得了侧壁光滑、陡直、厚度达100μm,深宽楷比达20的光刻胶和金属微结构,表明该光束线适用于LIGA技术的研究。     

X射线螺旋波带片制备技术

本文将电子束曝光和X射线曝光技术相结合以制造X射线波段螺旋波带片。用电子束曝光和微电镀技术在镂空薄膜上制备母波带片X射线掩模版,用X射线曝光和微电镀技术小批量复制螺旋波带片。研制成可用于1.24nm波长的螺旋波带片,其最外环宽度为200nm,金吸收体厚度为700nm,占空比合理,侧壁陡直,结构优良。     

同步辐射X射线掠入射衍射实验技术及应用

利用北京同步辐射装置漫散射实验站的五圆衍射仪,建立了掠入射X射线衍射实验方法。对Si表面生长的Ge/Si量子点及其在Si表层产生的应变进行了成功测量,表明此方法可以有效地提取表面层的微弱信号。实验结果表明,Ge/Si量子点的形成除了在Si衬底表层形成了晶格具有横向膨胀应变的区域之外,还在Si衬底中形成了具有横向压缩应变的区域。     

50nm X射线光刻掩模制备关键技术

X射线光刻(XRL)采用约1nm波长的X射线,是一种接近式光刻。就光刻工艺性能而言,XRL能同时实现高分辨率、大焦深、大像场等,是其他光刻手段难以比拟的。由于不需要辅助工艺,因而工艺成本很低。掩模制造技术是XRL开发中最为困难的部分。本文介绍了适用于50nm XRL的掩模制备的关键技术。     

同步辐射硬X射线微束技术

同步辐射硬X射线微束(微探针)技术是目前很多学科领域的主流分析技术,本文介绍了同步辐射硬X射线的各种微束技术以及微束的应用研究情况,阐述了各种微束技术的基本聚焦原理,并对其优势和不足以及发展状况作了简要的概述.     

用于北京同步辐射的X射线衍射仪的研制

本文介绍一个为北京同步光源研制的高精度X射线衍射仪系统,它包括有精度为0.001°的转角仪、高计数率本领探测器、快电子学、计算机自动控制和在线数据获取,并给出了在转靶X光机上的实验结果。     

同步辐射硬X—ray研究陶瓷烧结内部微结构形貌

利用同步辐射硬X射线高能量,穿透能力强和高分辨率的特性,根据X射线形貌成像原理分别对工程结构陶瓷烧结后,材料内部微结构和微缺陷尺寸大小、分布和界面形貌进行无损观测。直观地获取微结构图像,为宏观分析结构陶瓷韧性和强度等力学性能,为建立扩散和本构模型提供有效的实验数据和图像。     

LIGA工艺在工程中的两类应用

本文从LIGA工艺的工程应用角度，简要介绍微小型安全密码锁机构、微小型加速开关结构的基本设计问题和工艺问题，初步分析了这两类组件制造对LIGA工艺的需求与要求。     

同步辐射X射线形貌术在晶体生长和缺陷研究中的应用

本介绍了同步辐射光源的特点,以及在应用于X射线形貌术时带来的各种好处。并通过介绍在北京同步辐射装置上所做的若干实验成果,扼要叙述了同步辐射X射线形貌术在晶体缺陷研究和晶体生长中的应用。     

同步辐射共聚焦X射线荧光微探针技术在生物原位研究中的应用

同步辐射共聚焦X射线荧光微探针技术(Synchrotron Radiation confocal micro X-ray Fluorescence,confocalμ-SRXRF)是一种具有深度分辨的三维元素分析方法,可以原位获得样品不同深度的化学元素信息,广泛应用于生命和环境原位研究领域.在上海同步辐射光源(Shan...     

北京正负电子对撞机同步辐射X射线能谱的测量

本文提供了北京正负电子对撞机同步辐射光束线上X射线能谱的首次测量结果,文章对探测器和谱仪系统、测量方法及数据分析予以扼要的描述。