同位素208Pb靶的制备

介绍了一种弧形靶框夹芯^208pb靶的制备工艺,包括核靶的制备装置和制备方法、核靶厚度和均匀性的控制和测量方法,并对结果进行了讨论.制备采用旋转蒸镀法,该法可以大大提高材料的利用率.所制靶的结构为30μg/cm^2 C＋361 μg/cm^2 ^208pb＋15 μg/cm^2 C,同一次所制的靶平均厚度为361μg/cm^2,不均匀性小于9.8%.其性能能够很好地满足超重核实验研究的要求.     

核靶厚度和均匀性测量

文章系统地介绍了核靶厚度和均匀性的测量方法,这些方法都有各自的特点:石英微量天平的灵敏度高(0.04μg/cm~2);等效空气α粒子测厚仪的测量范围宽;吸光光度法测量快速而背散射法既能测量核靶厚度又能分析靶膜的杂质。结合以上方法,能测量不同元素和不同种类核靶的厚度和均匀性。     

Be靶制备技术研究

介绍了Be靶制备的电阻加热法、滚轧法、静电振动法、离心沉淀法、聚集束溅射法等.结果显示:电阻加热和滚轧制备自支撑Be靶的厚度范围分别为20～970 μg/cm2和3.8～20 μm.     

核靶厚度和均匀性测量

本文系统地介绍了核靶厚度和均匀性的测量方法,包括天平称重法、石英晶体测厚法,等效空气α粒子能量损失法,吸光光度法和离子背散射法。这些方法都有各自的特点:石英微量天平的灵敏度高(0.04μg/cm~2);等效空气α粒子测厚仪的测量范围宽;吸光光度法测量快速而背散射法既能测量核靶厚度又能分析靶膜的杂质。将这几种方法结合起来,就能测量不同元素和不同种类核靶的厚度和均匀性。     

核靶厚度和均匀性测量

本文系统地介绍了核靶厚度和均匀性的测量方法,包括天平称重法、石英晶体测厚法,等效空气α粒子能量损失法,吸光光度法和离子背散射法。这些方法都有各自的特点:石英微量天平的灵敏度高(0.04μg/cm~2);等效空气α粒子测厚仪的测量范围宽;吸光光度法测量快速而背散射法既能测量核靶厚度又能分析靶膜的杂质。将这几种方法结合起来,就能测量不同元素和不同种类核靶的厚度和均匀性。     

分子电镀法制备237Np核靶

研究了在异丙醇介质中电沉积制备237Np核靶的方法,分析了电流、电压、电镀时间、体系中的含水量等因素对沉积率的影响,并给出了237Np的纯化及不同厚度核靶的制备程序,成功地将237Np以2～700 μg/cm2沉积下来.     

分子电镀法制备232Th靶

为满足测定232Th（a,2n）234。U反应截面的需求,需在2μm和8μm厚的Al衬底上制备232Th的薄靶,要求靶厚100-200μg／cm2,不均匀性小于5％。为此,本工作采用分子电镀法,研究并选择了232Th的最佳电镀条件,制备了均匀、牢固的232Th靶,并给出了该靶精确的质量厚度值,满足了试验要求。     

近物所反冲谱仪端的转靶系统研制

介绍了中国科学院近代物理研究所研制的一套用于低熔点靶材料的转靶系统.靶盘上用于实验且厚度0.4-0.6 mg/cm2的C/Pb/C夹心靶,在束斑为0.785 cm2、流强～1 eμA、能量为5.84 MeV/u的24Mg7+束和流强～0.1pμA、能量4.95 MeV/u的64Ni19+束长时间照射下未损坏,照射总剂量...     

用分光光度计测量核靶厚度和均匀性

文章叙述了吸光光度法测量核靶厚度和均匀性的一般原理,并给出碳膜和金属膜的具体测量方法,本方法的厚度测量范围为5—200μg/cm~2,测量精度为10%。     

同位素铁靶制备技术

介绍了同位素铁靶的制备技术,包括氧化铁的还原、铁粉的熔化和铁靶的制备.采用聚焦束溅射和滚轧制备技术能获得自支撑56Fe靶的最小厚度分别为50和360 μg/cm2.