高温高压锅炉及热力系统的化学清洗

锅炉和热力系统的化学清洗是提高电厂水汽品质和预防运行事故的必要措施之一。为了保证化学清洗的质量,必须审查化学清洗方案可行性,熟悉清洗范围及结构特点,做好化学清洗前的准备工作和化学清洗过程的监督,最后还要对清洗效果进行检查和质差评定。     

钢管镀膜前处理清洗工艺的研究

研究了钢管在镀膜前处理中的清洗方法,利用多道超声波清洗模式对钢管清洗,然后自然晾干、高温固化,并对钢管镀膜的前处理质量情况进行分析。试验结果表明:精抛后的不锈钢钢管采用溶剂超洗+自来水超洗+去离子水超洗+去离子水冲洗+烘干的工艺流程方式可行,可满足后续镀膜工艺的要求,为实现后续的生产自动化流程作业提高了试验依据。     

铁氧体瓷棒真空镀膜技术

表面金属化的铁氧体瓷棒是铁氧体圆极化移相器的关键构件,表面金属化膜层的均匀性是其重要的指标.本文主要研究镀膜工艺、镀膜夹具对镀膜均匀性的影响.采用脉冲宽度经验测试法对铁氧体棒表面镀膜厚度进行测量,采用矢量网络分析仪及自制波导系统组成的测试系统对镀膜的铁氧体棒插入损耗进行测量.结果表明脉冲宽度测试法是一种较好的经验方法,适合于生产中对铁氧体棒表面膜层厚度进行测量;真空蒸发和磁控溅射镀膜的棒体其插入损耗指标没有明显的区别;磁控溅射工艺及夹具系统与真空蒸发工艺及夹具系统相比,更有利于获得较高的镀膜厚度一致性.     

钟表玻璃装饰镀膜工艺

将真空镀膜技术应用于钟表玻璃装饰镀膜为设计钟表外观件结构及装饰提供了一条 新的途径．本文介绍玻璃装饰镀膜生产工艺流程为清洗→镀膜→图形处理→清洗→检 验，并对生产中易出现的工艺技术问题进行了讨论．该项技术简单易行，还可用于仪器 仪表、日用包装、民用灯具、工艺美术和建筑装饰等领域。     

CSNS四极陶瓷真空盒镀膜系统的电磁场模拟计算分析

针对中国散裂中子源（CSNS）四极陶瓷真空盒磁控溅射镀膜系统,采用CST仿真软件,进行了镀膜系统安置外导电层、内导电层及无导电层三种情况下的电磁场模拟计算及结果对比与分析,并结合实验系统和磁控溅射相关理论进行了讨论,对实验系统镀膜研究提供了理论基础和指导,同时也为如何进行绝缘体长直管道的内壁镀膜提供了一定的思路。     

饮用水超滤膜处理中试中的膜污染控制

采用中试规模的压力式超滤膜系统处理水厂的沉淀池出水,对试验期间的膜污染控制技术进行研究.用物理反洗、化学强化反洗(CEB)、化学清洗和预氯化对膜污染进行控制.结果表明:物理反洗工艺对于膜污染的去除效果不明显;CEB是一种物理和化学方法相结合的在线清洗方法,能够有效地恢复膜比通量,平均恢复率达85％;采用草酸进行化学清洗效果较好,4次清洗膜比通量平均提高了265 L/(m2·h·0.1 MPa).对膜反洗水的成分分析表明:铁和溶解性有机物是导致中试系统膜污染的主要因素.预氯化可以有效地减缓膜污染速率.     

Si基片上Au膜真空紫外反射特性研究

对Si片上Au膜在真空紫外波段的反射特性进行了系统的研究.采用离子束溅射,选择不同的镀膜参数,在经不同前期清洗方法处理过的Si片上,镀制了各种厚度的Au膜.利用科大国家同步辐射实验室的反射率计,对Au膜在真空紫外较宽波长范围内的反射率进行了连续测量.测试结果表明Si片上Au膜厚度和辅助离子源的使用方式对Au膜反射率有重大影响,而镀前基片表面清洗工艺等对反射率影响不显著.采用辅助离子沉积或镀前离子清洗,可提高Au膜反射率;但离子清洗和辅助离子沉积同时使用会给反射率带来显著的不利影响.膜厚在30 nm左右,55°入射角时反射率最高,可高达40%.     

退火处理对Si/SiC纳米复合薄膜性能与结构的影响

我们以硅烷(SiH4)和乙烯(C2H4)为原料,采用常压热分解APCVD法制备出了Si/SiC复合镀膜玻璃,并对其进行了退火处理.本文利用多种测试技术对退火后硅镀膜玻璃的光学性能以及其组成结构、化学稳定性等方面作了系统研究,发现退火处理能在保持镀膜玻璃其它重要性能变化不大的基础之上较好地改善硅镀膜玻璃的光学性能、降低玻璃的反射率、有效地防止目前日趋严重地光污染问题,为改善SSi/SiC复合镀膜玻璃的性能、扩大其应用领域作了有益的探索.     

火电厂一级反渗透膜系统的化学在线清洗

本文介绍了前湾燃机电厂化学水处理系统流程及运行状况,分析膜系统受污染的原因,通过采用在线化学清洗的措施,使系统恢复了良好的透水和除盐性能,保证了反渗透膜安全、稳定运行。     

用氧化还原反应气体清洗不锈钢超高真空系统

对粒子加速器和储存环的超高真空系统，消除其表面污染的标准方法是化学清洗、真空炉焙烧、辉光放电清洗及原位烘烤真空系统，本文介绍一种可替代辉光放电的清洗方法；用一氧化氮反应气体进行清洗，它已被用于处理几种不锈钢制作的加速器真空室，用ＮＯ气体处理的效果与其它方法相比，优于普通化学清洗和真空炉焙烧，完全可以和辉光放电清洗相比较，却避免了溅射情况下可能引起的表面损伤。     

磁控溅射镀膜膜厚均匀性设计方法

镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性问题是实际生产中十分关注的。本文在现有的理论基础之上,对溅射镀膜的综合设计方法进行了初步的建立和研究,系统的建立可以采用"整体到部分,再到整体"这一动态设计理念,不断完善设计方法,并将设计方法分为镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计和计算机数值仿真三大部分。镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计及二者的数值仿真这三者之间是相辅相成的,镀膜设备工程设计决定镀膜工艺过程的实现,镀膜工艺促进镀膜设备的升级,而高性能的计算机仿真设计给两者的设计提供了强有力的支持。     

反渗透系统污堵的分析与研究 结合具体工程案例谈膜污堵的现象、原因及解决方案

反渗透系统的污堵一般是通过化学清洗来进行性能恢复的。设备本体结构及清洗方案的优劣对清洗效果影响较大,情况严重甚至会造成膜元件性能不可逆的衰减。因此在膜应用领域中,分析膜元件污染的成因,针对性制定膜清洗的技术措施是确保膜系统长期稳定的关键因素之一。     

浸泡式清洗与循环式清洗汽轮机油管效果与成本的比较分析

主要对汽轮机油管浸泡式化学清洗与循环式化学清洗的效果进行比较，并将两种清洗方式的成本进行对比分析，从而得出采用循环方式清洗的洁净度高，成本低，周期短的结论。     

油水乳液污染纳米TiO_2改性Al_2O_3陶瓷膜的化学清洗

研究了采用碱性复合清洗剂通过一次清洗工艺对油水乳化液污染的纳米TiO2改性Al2O3陶瓷微滤膜进行化学清洗的可行性.通过通量恢复率、油截留率、SEM和FT-IR等分析手段表征了制备的复合清洗剂对改性陶瓷膜的清洗效果及化学清洗对纳米TiO2改性效果的影响.结果表明,采用制备的复合清洗剂对油水乳化液污染的改性陶瓷膜进行清洗后,可有效去除膜污染物,表现出良好的清洗效果,且清洗过程不会明显影响纳米TiO2对Al2O3陶瓷膜的改性效果.工业应用试验表明,冷轧乳化液含油废水污染的改性陶瓷膜,经碱性复合清洗剂清洗后,膜纯水通量恢复率和油水渗透通量恢复率分别可达到96.9%和98.1%.     

舞钢10000m~3/h空分设备空气预冷系统低温结垢的分析与处理

针对舞钢10000 m3/h空分设备空气预冷系统出现的低温结垢问题,采用合理的水处理药剂及水质稳定技术,避免空冷塔、水冷塔等发生结垢堵塞现象。简析低温结垢的原因,详细阐述对循环冷却水系统进行的化学清洗和预膜方案及效果,以及循环冷却水系统的日常运行控制方案。     

基于智能复合镀膜设备的控制系统设计

本文结合复合镀膜设备及镀膜工艺特点,详细分析了复合镀膜设备镀膜工艺流程以及过程中容易产生能耗和污染的问题.并在此基础上,根据设备真空系统、工装和水冷系统、控制系统以及设备各个源的协同作用进行了系统设计,通过PLC和LabVIEW软件协同设计和实现了智能复合镀膜设备自动控制系统,以保证镀膜设备和工艺生产的稳定性及可靠性,...     

磁控溅射法制备高反射铝膜

通过先后调整溅射沉积时间、溅射功率以及溅射气压等镀膜参数,然后结合所镀样品的反射率测量,分析了镀膜参数对铝膜反射率的影响;通过调整不同的离子束清洗时间,结合所镀样品的太阳光谱反射率测量以及附着力测试,研究了离子束清洗对铝膜性能的影响。结果表明,在这些影响因素中离子束清洗对铝膜性能的影响很大。     

阴极电弧离子镀膜技术的进步

阴极电弧离子镀膜技术是国内外沉积工模具硬质膜层的主要技术。在高新技术产品和高端制造业需求的推动下,阴极电弧离子镀膜技术得到了长足的进步。本文介绍了阴极电弧离子镀膜技术的原理和特点,重点分析了阴极电弧源、硬质膜层性能和工件清洗技术等方面的进展,并对未来的发展进行了展望。     

锅炉化学清洗工艺质量控制探讨

化学清洗是清除锅炉杂质的常用方法,无论新安装锅炉,还是正在商业运行的锅炉,都应依据相关规定,进行化学清洗。由于各种原因,不成功的化学清洗和因化学清洗不当导致锅炉损坏的事故依然时有发生。因此,有必要对化学清洗过程中应注意问题进行讨论,为化学清洗工作提供一定的防范措施。     

直径为4.3米望远镜主镜的清洗与镀膜工艺及设备若干问题的探讨

在论述４．３米望远镜主镜清洗与镀膜必要性和要求后，阐述了优选清洗剂和清洗方法，并设计了真空镀膜工艺，镀膜机和清洗设备．