电沉积Ni-Co合金工艺条件的研究

研究了硫酸镍 -硫酸钴 -氯化钠体系中钴含量在 4 0 %以下的 Ni- Co合金镀层的影响因素。讨论了温度、p H、电流密度、Ni/ Co质量比、时间等因素对镀层沉积速度和腐蚀速度的影响。通过试验得出了电沉积过程的最佳工艺条件。     

化学镀钴-镍-磷合金镀层沉积速度的探讨

化学镀钴－镍－磷合金镀层具有良好的磁学性能,正日益受到人们的青睐。由于沉积速度往往对镀层性能产生很大影响,在此重点了影响化学镀钴－镍－磷合金镀层沉积速度的各因素。结果表明,提高镀液中金属离子总浓度及镍盐所占的比例,在ＰＨ为８￣１０范围内加入适量的稳定剂及采用活性强的基材有利于化学镀钴－镍－磷合金镀层沉积速度的提高。     

镍-钴合金镀层研究进展

镍-钴合金镀层由于其性能优异,被广泛用于零部件的表面装饰与防护。近年来在纳米复合技术发展的基础上,镍-钴合金镀层获得了新的研究和应用。简述了电沉积镍-钴合金的沉积原理,重点综述了镍-钴合金镀层主流镀液体系、镀层性能和镀层的最新进展,并对镍-钴纳米复合镀层的发展进行了展望。     

低应力、抗磨减摩梯度Ni-Co纳米合金镀层的制备方法

本发明公开了一种低应力、抗磨减摩梯度Ni—Co纳米合金镀层的制备方法。主要是针对目前制备的厚层纳米合金镀层内应力大、结合强度低、抗磨减摩性能差等问题而发明的。本发明采用电沉积方法,在含硫酸镍和氯化钴的基础电解液中,通过逐渐增加电解液中钴盐的浓度和控制相应的电沉积时间制备出结构致密,表面平整,与底材结合牢固,     

Ni-Co-C代硬铬镀层的制备及性能研究(Ⅱ):镀层性能研究

对比所开发的Ni-Co-C代硬铬镀层与商业镍、钴基代硬铬镀层的性能,探究其实际应用价值。由能谱分析及光电子能谱仪测试结果得知,镀层为镍、钴、碳三元合金,且三种元素在镀层中的存在价态均为零价,镍在镀层中主要以Ni和NiCo的形式存在,钴在镀层中主要以Co Ni的形式存在,碳在镀层中主要以C和C/Ni的形式存在,结合X-射线衍射仪测试结果知镀层为部分非晶态、部分金属间化合物的结构。在优化的Ni-Co-C基础镀液及工艺条件下得到的Ni-Co-C代硬铬镀层的硬度较大,在650~750 HV50之间,且Ni-Co-C代硬铬镀层的沉积速度要明显大于商用代硬铬镀层。     

电沉积Ni-Co梯度合金的研究

在以氨基磺酸镍和氨基硫酸钴为主盐的电解液中,镍作阳极,ｐＨ＝４．０,５５℃条件下,采用２Ａ／ｄｍ＾２的阴极电流密度,可以电沉积出积出钴含量随厚度而变化的Ｎｉ－Ｃｏ合金层。实验结果表明,随着通电量的增加,合金镀层中的钴含量不断下降。由镀层性能测试可以看出,随着通电量的增加,合金镀层的硬度,内应力减小。     

工艺参数对电沉积锡-钴合金镀层性能的影响

研究了在泡沫镍基体上电沉积锡-钴合金镀层的工艺方法,分析了电沉积工艺参数对锡-钴合金镀层性能的影响,并对工艺进行了优化.研究表明:采用该优化工艺所制得的锡-钴合金能提高锂离子电池的容量、稳定性和循环性能.     

电沉积法制备纳米晶Ni-Co合金镀层

在氨基磺酸盐镀液体系中,采用电沉积法制备了纳米晶镍镀层和四种纳米晶Ni-Co合金镀层,采用FESEM、EDS和XRD表征了镀层的表面形貌、成分和晶体结构。结果表明,镍镀层和四种Ni-Co镀层的晶体结构都是简单面心立方结构;与镍镀层相比,Ni-Co合金镀层的平均晶粒尺寸减小,且当镀层钴含量为41.3%时,Ni-Co合金的平均晶粒尺寸最小为14.6 nm。在一定范围内,钴含量的增加有利于改善Ni-Co合金镀层的表面质量以及实现晶粒细化。     

稀土铈对电沉积镍-钴-钨三元合金性能的影响

研究了稀土铈对电沉积镍-钴-钨三元合金的组成、表面形貌及耐蚀性的影响。研究发现:随着铈盐的质量浓度的增加,阴极极化减弱,沉积速率逐渐提高。向镀液中加入铈盐后,合金中镍的质量分数逐渐增大,而钴的质量分数下降明显。稀土铈的吸附作用,有利于细化合金表面金属颗粒,使表面趋于致密、平整,耐蚀性大大提高。     

电沉积Ni-P合金的电化学特性

用线性极化法、交流阻抗法等电化学测量技术,研究电沉积 Ni-8.7 P 合金和 Ni-19.2 P 合金在1N HCl 溶液中的电化学行为。用失重法测量腐蚀速率,并将测量结果与纯镍作了对比。结果表明:Ni-19.2P非晶态合全稳定电位高,极化阻力和反应阻抗大,腐蚀速率小,具有优良的耐蚀性能。电化学测量技术是研究镀层耐蚀性能快速有效的方法。