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随着微磁学的高密度磁存贮技术的迅速发展,人们迫切需要以更高的分辨率观察大块试样表面的微畴结构。通常使用的粉纹图法和磁光法等观察方法已不能满足要求。本文研究了用SEM观察垂直磁化膜微畴结构的方法和观察结果,获得了满意的效果。该法主要分两部分:1.在试样表面制作高质量的粉纹图;2.用高倍率二次电子象观察试样表面磁性粒子的分布,从而可显示出磁畴的精细结构和磁化方向。图1是YIG单品垂直磁化膜在退磁态的磁畴结构象。图中磁性粒子的聚集图案清楚地显示出该薄膜具有片状“迷宫畴”结构,畴宽约1.9μm,饱和磁化失量Ms垂直于膜面,+Ms和-Ms呈周期分布。图2是TbFeCo非晶垂直磁化膜退磁后的磁畴结构象。磁性粒子在畴壁表面漏磁场的作用下聚集在畴 相似文献
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用扫描近场光学显微镜观察微畴 总被引:1,自引:0,他引:1
本文利用反射式扫描近场光学显微镜观察了硫酸三甘氨酸 [(NH3CH2 COOH) 3·H2 SO4 ) ](简称TGS)晶体的电畴结构和铝酸镧晶体的孪晶畴。横向分辨率约为 5 0nm。对原有的TopometrixAuroraNSOM系统作了较大的改进。采用音叉 (tuningfork)检测光纤探针与样品间的剪切力取代了原有的光学法振动检测。对TGS的观察说明 ,反射式扫描近场光学显微镜适合研究垂直B轴切割的TGS( 0 1 0 )面的自发极化。对这种 1 80°极化的多畴 ,可获得光学衬度较好的电畴分布图像。与形貌图像相比电畴与形貌无关。无论是新鲜解理的原子级光滑表面和表面水解的较为粗糙表面均可观察到分布较为均匀的电畴分布。采用探针发光的透射式和反射式观察铝酸镧晶体 ,发现只有反射式探测能够给出晶体表面的孪晶畴 相似文献
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用电子束蒸镀和二极直流溅射方法分别制备了钴铬垂直磁化薄膜。1)用VSM及X射线薄膜磁化强度取向摆动曲线的Δθ50等方法做了磁性等测量,结果表明蒸镀和溅射两种方法都能制备出优质钴铬垂直磁化薄膜;2)对Co-Cr垂直磁化薄膜的成分分布及微观形貌用高分辨透射电镜作了晶粒形貌、选区衍射和纳米束斑的能谱分析等研究。其中成分分布结果表明晶界处钴的集聚偏多,而非国际上流行的铬偏多;3)用STM作了晶粒形貌及表面起伏曲线,用AFM、MFM(磁力显微镜)分别做了同一区域晶粒形貌和相应磁畴结构的比较,实验都获得了很好的结果。钴铬固溶体薄膜是典… 相似文献
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本文采用AFM作为观测手段,对TPPP/SA混合LB膜的微观结构进行了研究,发现其中存在相分离现象,并且这种分相结构对亚相PH值极其敏感。 相似文献
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用SEM研究高聚物的微观形态结构 总被引:5,自引:1,他引:4
用扫描电子显微镜(SEM),对HDPE/CaCO3填充高聚物、PP/EPDM高聚物共混物和PA/CF增强复合材料的微观结构形态进行了研究,并分析了各材料的改性机理,证明了SEM技术在高分子多相体系的形态结构、界面状况、损伤机制及材料性能预测等研究中发挥着重要作用。 相似文献
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不锈钢钝化膜表面微观形貌特征的ECSTM研究 总被引:2,自引:0,他引:2
本文利用扫描隧道显微镜及自制的无源恒电位仪组成电化学扫描隧道显微镜(ECSTM),对浸泡在0.5mol/L H2SO4 0.02mol/L NaCl溶液中的Cr11Ni13不锈钢表面进行控电位原位研究,获得不锈钢表面纳米尺度的动态形貌图像。实验表明:当试样处于开路电位时,不锈钢表面为自然形成的均匀椭球形氧化物晶粒,当电位控制在阴极和阳极活性溶解区时,原来的氧化物晶粒随时间延长而缓慢消失,当电位控制在活化,钝化过渡区时,表面钝化膜晶粒尺寸变大,形状转变成半球形;同时有新的钝化膜晶粒生成,当控电位在钝化区时,钝化膜晶粒转变成月牙形;随电位升高,钝化膜发生动态重整;晶粒呈定向有序化生长,表面粗糙度降低。 相似文献
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本文应用 SEM(扫描电子显微镜)研究了制备碘化铯光阴极时基底的温度,真空烘烤和露置大气对光阴极的微观结构的影响。 相似文献
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聚丙烯腈基碳纤维的表面结构研究 总被引:9,自引:0,他引:9
用扫描隧道显微镜对经过电化学腐蚀前后的聚丙烯腈基碳纤维分别进行了观测分析,发现了一种有趣的螺旋结构。碳纤维表面是由沿纤维轴向排列的呈螺旋结构的细纤维组成的,螺旋伸展方向沿纤维轴向。用时这种螺旋结构也存在于碳纤维内部。最后对螺旋结构的形成进行了讨论。 相似文献
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本文简要地阐明了扫描隧道显微镜(STM)的工作原理,详细地介绍了STM 在纳米结构制造中的一些应用,包括 STM 诱导淀积和刻蚀,STM 直接刻写、电子束光刻和移动单个原子等。 相似文献
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多孔硅微腔是采用交替变化脉冲腐蚀电流密度的方法制成的多孔度周期性变化的多孔硅结构.用原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)对多孔硅微腔的侧向解理的截面进行了观测,得到了不同多孔层及其界面处的图像.微腔截面的扫描电镜图像清楚地显现出第Ⅱ型多孔硅微腔的"三明治”结构,即中心发光层被夹在两个Bragg反射镜之间.这些结果表明结合分子束外延技术和电化学腐蚀方法可以很容易得到多孔硅微腔. 相似文献