溶胶凝胶法制备的TiO2薄膜结构对光催化活性的影响

TiO2多孔纳米薄膜采用溶胶－凝胶法在普通载玻片上制得。薄膜的结构如孔径、孔分布和厚度可控制。通过稀醋酸的分解来测定锐钛矿TiO2多孔薄膜的结构对光催化活性的影响。     

环保型TiO2薄膜玻璃性能的研究

采用溶胶－凝胶法在玻璃表面制备了TiO2薄膜和掺杂铈或镧TiO2薄膜，利用高效液相色谱仪（HPLC）、紫外－可见分光光度计、扫描电镜（SEM）等测试手段，研究了不同气氛条件下热处理的TiO2薄膜对油酸光催化降解的影响，TiO2薄膜中掺杂稀土铈或稀土镧对油酸光催化降解的影响，薄膜内TiO2晶粒的分布及形态，薄膜表面化学稳定性等。结果表明空气气氛下处理的TiO2薄膜光催化效率最高。掺杂铈或镧有利于提高TiO2薄膜的光催化降解效率，涂层有利于提高玻璃的化学稳定性，但提高的程度不一。     

TiO2薄膜的制备及光催化性能研究

采用溶胶－凝胶法在玻璃衬底上制备了均匀透明牢固的TiO2光催化薄膜,利用XRD、SEM分光光度计及椭圆偏光测厚仪对薄膜进行了分析。利用光催化降解乙醛气体实验研究了TiO2薄膜的光催化活性。结果表明膜的特性及孔隙度同水解条件密切相关。孔隙度及薄膜厚度对催化活性有大的影响。     

溶胶—凝胶法制备TiO2／Pt／glass纳米薄膜及其光电催化性能

本文采用Ｓｏｌ－ｇｅｌ法制备了ＴｉＯ２／Ｐｔ／ｇｌａｓｓ纳米光催化薄膜，并进行了结构和乐电催化性能的测试。薄膜对染料溶液的光电催化降解结果表明，当输入正向偏压后，ＴｉＯ２／Ｐｔ／ｇｌａｓｓ薄膜的光催化性能有一定提高，且随着偏压增大而增强。同时，薄膜的中间层Ｐｔ及光源强度对薄膜的光电催化活性也有较大影响。     

溶胶-凝胶法制备含氮TiO2光催化剂及其表征

以钛酸四丁酯为钛源,碳酸铵为掺杂剂,采用溶胶-凝胶法制备了含氮的二氧化钛光催化剂.用X射线衍射对制备的试样进行物相分析,扫描电镜观察结构与形貌.用光电子能谱仪(XPS)做表面分析,以罗丹明B水溶液的光催化降解为模型反应,评价了所制备的试样的光催化活性.结果表明,用3种原料配比制备的TiO2粉末均为锐钛矿型结构.其中钛酸四丁酯与碳酸铵摩尔比为1:2试样光催化效果最好,其TiO2颗粒为纳米级尺寸,且粉末分散均匀.     

溶胶—凝胶法制备TiO2—CeO2薄膜

本文报道了用溶胶－凝胶法制备TiO2-CeO2薄膜的工艺过程及所制备薄膜的性能，研究了在不同Ce/Ti比及催化条件下浸涂液的成膜能力，胶凝过程以及薄膜的物相和光学性能。结果表明，在浸涂液中加入水或碱会使浸涂液迅速凝胶，而加无机盐会促进老化过程。浸涂液的水解－凝胶过程对薄膜的透过率、表面形貌有显著影响，随Ce/Ti比增大，浸涂液的成膜能力变坏，而薄膜的紫外吸收增大。     

铁、铬离子掺杂对TiO2薄膜光催化活性的影响

采用溶胶-凝胶法在釉面砖表面制备了均匀的TiO2薄膜,并研究了铁、铬离子掺杂对TiO2光催化性能影响。对罗丹明B的光降解实验表明,适量的铁、铬离子掺杂均可提高TiO2薄膜的光催化活性,铁离子的掺杂效果明显高于铬离子,而铬离子的掺杂方式影响TiO2薄膜的光催化活性,这主要基于它们不同的掺杂机理。     

掺杂TiO2的纳米多孔SiO2薄膜的制备及性能研究

采用溶胶-凝胶法、分子模板法及旋转涂覆法在硅衬底上制备掺杂TiO2的SiO2薄膜，并采用差热分析（DSC-TGA）、红外吸收光谱（FTIR）、X射线衍射、小角衍射（SAXS）、原子力显微镜（AFM）、台阶仪（Atomic-Profiler）以及纸擦拭法（paper-wiping method）和胶带剥离法（adhesive tpe-stripping method）对薄膜的性能进行了分析与表征，结果表明，薄膜的最佳热处理温度为400℃，所制备的掺杂TiO2的SiO2薄膜为多孔结构的无定形态，具有较好的机械性能，平均孔径随着膜层的增加而减小，一层膜和两层膜的平均孔径分别为87.4nm和62.8nm，厚度分别为538.7nm和1032.3nm。     

溶胶——凝胶TiO2制备透明激光全息薄膜的研究

溶胶-凝胶是制备新材料的一种很有用的方法。采用溶胶-凝胶方法在普通透明塑料基底上制备具有纳米结构的TiO2薄膜，用激光微雕模版将全息图案复合在该薄膜上制成透明激光全息薄膜。选择酸性催化TiO2溶胶，在烘道里以100℃左右的温度完成溶胶-凝胶，并注意控制其它相关的条件使至获得厚度的1-2um，折射率n=1.8的高反射低吸收的介质薄膜。对制得的溶胶-凝膜介质薄膜在模压机上施以2-4kg/cm^2的压力和100℃的温度，复制出由激光刻制的光删条纹。当有较大角度的入射光进入薄膜时，在不影响透明的同时整个薄膜展现完整的全息图象。     

多孔TiO2纳米薄膜的制备及PEG对其表面形貌的影响

用溶胶－凝胶法制备了多孔TiO2纳米薄膜修饰的镍基电极，用STM观察了TiO2纳米薄膜的表面形貌。由STM知，随烧结温度升高和PEG（聚乙二醇）含量增加，TiO2纳米薄膜表面孔穴的数量增加，孔径增大。     

TiO2与ZnFe2O4薄膜禁带宽度测定及对光催化效率的影响

采用溶胶－凝胶法在玻璃表面制备了TiO2薄膜、ZnFe2O4薄膜和掺杂ZnFe2O4的TiO2薄膜。利用紫外吸收光谱测定了薄膜的激发波长，计算得到了禁带宽度，并通过光催化分解实验进行了验证。     

基片温度对TiO2薄膜表面形貌和性能的影响

利用射频磁控溅射设备在玻璃基片上制备TiO2薄膜,采用AFM、UV-Vis分光光度、接触角测定仪等测试手段,研究基片温度对薄膜表面形貌、粗糙度和表面性能的影响.结果表明,随着基片温度增加,薄膜表面粗糙度增大,薄膜中颗粒由无定形态逐渐向定向排列的晶态转变,而薄膜结构、表面形貌和粗糙度的变化明显影响薄膜表面性能.最后,探讨了薄膜的生长机理.     

稀土掺杂上转换发光玻璃陶瓷的制备及性能

实验制备了一类含有SrF2∶Yb3＋,Tm3＋及SrF2∶Yb3＋,Er3＋的透明发光玻璃和玻璃陶瓷,对比研究了热处理工艺对玻璃陶瓷相组成、微观结构和光谱性能的影响规律。研究表明,玻璃陶瓷具有立方SrF2纳米晶相均匀分布于玻璃基体的复相结构,利用HRTEM可观测到SrF2纳米晶相的（111）晶面,其晶粒尺度在10~30nm之间,且该析晶相中富集有Yb3＋/Tm3＋和Yb3＋/Er3＋。基于此,玻璃陶瓷在980nm LD激光激发下的上转换发光强度较玻璃样品有较大提高。其上转换发光机制分别主要为Yb3＋-Yb3＋之间的合作上转换,Yb3＋-Tm3＋和Tm3＋-Tm3＋之间的交叉弛豫能量传递过程,以     

HNO3处理对TiO2纳米薄膜的光催化活性和表面微结构的影响

通过sol-gel工艺分别在钠钙玻璃和预涂SiO₂涂层的钠钙玻璃基体上制备了TiO₂。光催化纳米薄膜.然后用1mol/L HNO₃水溶液对煅烧后的薄膜进行酸处理.用X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)和紫外可见光谱(UV-VIS)对酸处理前后TiO₂纳米薄膜进行了表征.用甲基橙水溶液的光催化脱色来评价TiO₂薄膜的光催化活性.结果表明:SiO₂涂层能有效阻止钠离子从玻璃基体向TiO₂薄膜的扩散;普通玻璃表面的TiO₂纳米薄膜经HNO₃处理后,薄膜的光催化活性明显增强.这是由于TiO₂纳米薄膜中的钠离子浓度降低以及表面羟基含量增加的缘故.     

Microstructures and Photocatalytic Properties of S Doped Nanocrystalline TiO2 Films

The nanocrystalline S doped titanium dioxide films were successfully prepared by the improved sol-gel process. Here TiO(C₄H₉O)₄ and CS(NH₂)₂ were used as precursors of titania and sulfur, respectively. The as-prepared specimens were characterized using x-ray diffraction (XRD), x-ray energy dispersive spectroscopy (EDS), high-resolution field emission scanning electron microscopy (FE-SEM), Brunauer-Emmett-Teller (BET) surface area, and ultraviolet-visible diffuse reflectance spectroscopy. The photocatalytic activities of the films were evaluated by degradation of organic dyes in aqueous solution. The results of XRD, FE-SEM, and BET analyses indicated that the TiO₂ films were composed of nanoparticles. S doping could obviously not only suppress the formation of brookite phase but also inhibit the transformation of anatase to rutile at high temperature. Compared with pure TiO₂ film, S doped TiO₂ film exhibited excellent photocatalytic activity. It is believed that the surface microstructure of the modified films is responsible for improving the photocatalytic activity.     

TiO2薄膜的结构和光催化活性研究

薄膜型的TiO2光催化剂克服了悬浮型的许多缺点,具有广阔的应用前景.阐述TiO2的结构及其影响因素;评述了晶型、晶粒尺寸、结晶度和晶格缺陷、表面积和表面预处理、表面羟基、温度、薄膜厚度、基体、光源及光强等因素对TiO2薄膜光催化活性的影响;探讨了提高TiO2薄膜光催化活性的措施,包括掺杂、贵金属沉积、半导体复合、表面光敏化等.指出需进一步研究的问题:加强影响因素的综合研究,探索最佳的工艺条件和反应条件;进一步提高TiO2薄膜的光催化效率;将光源种类从紫外光扩展到可见光;将TiO2薄膜的光催化性能同其它性能结合起来研究.     

溶胶-凝胶法合成纳米TiO2粉体的研究进展

概述了利用溶胶-凝胶法合成纯纳米TiO2粉体时不同合成条件对制备结果的影响;综述了利用溶胶-凝胶法合成金属及非金属离子掺杂TiO2粉体、半导体复合纳米TiO2、贵金属沉积以及固体超强酸化纳米TiO2的研究现状,并指出不同方法提高光催化活性的机理在于促进电子-空穴的分离或改变能带及表面结构.针对制备纳米TiO2粉体中存在的问题,指出未来的研究方向应是提高TiO2催化活性的机理研究、可见光化纳米TiO2的制备以及工业化生产条件探索等.     

多孔氧化钛薄膜的溶胶-凝胶制备及其光催化性能

本文采用溶胶-凝胶法不添加任何表面活性剂和胶体模板制备了大孔TiO2薄膜。首先,在TiO2前驱体溶液中引入可聚合的有机单体,利用浸渍提拉法制备TiO2胶体薄膜。然后将该薄膜在紫外光下照射一段时间。紫外光照诱发了单体聚合,导致薄膜中出现两相,一相是新生成的富聚合物相,另一相是富TiO2低聚物-残余的单体相。将光照后的薄膜在600℃热处理10分钟后,可以得到具有大孔结构的TiO2薄膜。采用SEM,AFM,XRD,TG-DTA等技术对样品进行了表征。结果表明,多孔薄膜的结构可以通过改变反应参数进行调控,单体浓度的变化可以影响到薄膜晶体结构,600℃的煅烧可以将体系中绝大部分的有机物除去。光催化降解亚甲基蓝溶液实验结果表明,制备的TiO2多孔薄膜表现出较好的光催化性能。     

Influence of Sputtering Gas on Morphological and Optical Properties of Magnesium Films

The influence of sputtering gas(He & Ar) on the structural properties of Mg thin films has been investigated.The optical property(reflectance) that results from the growth of films at varying substrate temperatures(Tsub) was also studied.The deposited films were characterized by using X-ray diffraction(XRD),field emission scaning electron microscopy(FE-SEM),atomic force microscopy(AFM) and UV-Vis-NIR spectrophotometer.The smaller crystallite size and lower deposition rate were observed in the presence of Helium atmosphere compared to Argon.Morphology of the films shows 2D hexagonal geometry of grains in the deposition temperature range(Tsub≈50-150℃) in both the sputtering gases.The surface roughness of the polycrystalline films were found to increase with increase in the deposition temperature of both ambient gases.Optical reflectance of Mg films was measured in near infrared region and larger reflectance was observed from Mg films sputtered in He atmosphere compared to that in argon.     

磁控溅射制备TiO2薄膜的亲水性能研究

用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备TiO2薄膜,并分别在300℃、400℃、500℃下进行热处理.用紫外吸收光谱、原子力显微镜(AFM)、接触角测定等分析方法研究了制备工艺、热处理和紫外光照射时间对薄膜表面亲水性的影响.结果表明,经紫外光照射或热处理后的TiO2薄膜表面表现出明显的超亲水性,而制备工艺的变化对亲水性的影响不明显.光谱、AFM分析表明,导致薄膜表面亲水性的原因在于薄膜表面微结构的变化.