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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
半导体和IC     
表面贴装功率IC封装SGS THOMSON Microelectronics公司的大功率表面贴装封装系列又增添了一种形状和尺寸与标准14×14×2.8mmQFP封装相同的新型大功率封装。这种新封装叫做HIQUAD-64(JEDECMO-188),是为未来的灵巧功率芯片设计的,具有优于1k/W的连接外壳热阻,厚度为10密耳的铜线框以及金或铝焊线。它可容纳120k密耳2的小片。高速ASIC验证工具ViewlogicSystems公司最近推出Eagle系列新产品EagleV TM,这是一种优化的专用集…  相似文献   

2.
在(100)取向半绝缘GaAs衬底上,采用独特的含有InSb非晶过渡层的两步分子束外延(MBE)生长了异质外延InSb薄膜。InSb外延层表面为平滑镜面,外延层厚度约为6μm,导电类型为n型,室温(300K)和液氮(77K)霍尔载流子浓度分别为n_(300K):2.0×10 ̄(16)cm ̄(-3)和n_(77K):2.4×10 ̄(15)cm ̄(-3);电子迁移率分别为μ_(300K):41000cm ̄2V ̄(-1)S_(-1)和μ_(77K):51200cm ̄2V ̄(-1)S ̄(-1)。InSb外延层双晶衍射半峰宽为198arcs,最好的InSb外延层的半峰宽小于150arcs。采用InSb非晶过渡层有效地降低了外延层中的位错密度,改善了InSb外延层的质量。  相似文献   

3.
为配合2000门GaAs超高速门阵列及GaAs超高速分频器等2英寸GaAs工艺技术研究,开展了2英寸GaAs快速热退火技术研究。做出了阈值电压为0~0.2V,跨导大于100mS/mm的E型GaAsMESFET和夹断电压为-0.4~-0.6V,跨导大于100mS/mm的低阈值D型GaAsMESFET。  相似文献   

4.
丁一 《微电子学》1994,24(5):75-76
集成电路封装技术常用术语(续Ⅱ)丁一45QFJ(quadflatJ-leadedpackage)四侧J形引脚扁平封装。表面贴装型封装之一。引脚从封装四个侧面引出,向下呈J字形。是日本电子机械工业会规定的名称。引脚中心距1.27mm。材料有塑料和陶瓷两...  相似文献   

5.
为配合2000门GaAs超高速门列及GaAs超高速分频器等2英寸GaAs工艺技术研究,开展了2英寸GaAs快速热退火技术研究,做出了阈值电压为0~0.2V,跨导大于100mS/mm的E型GaAsMESFET和夹断电压为-0.4~-0.6V,跨导大于100mS/mm的低阈值D型GaAsMESFET。  相似文献   

6.
2MeV、(1~2)×1014cm-2硅离子注入SI-InP(Fe)造成负的(-3.4×10-4~-2.9×10-4)晶格应变,光快速退火的激活能为0.26eV。880℃/10s退火可得到100%的施主激活。间断两步退火(375℃/30s+880℃/10s)使注入层单晶恢复完全,较大程度(20%~35%)地改善了载流子的迁移率。四能量叠加注入已能在0.5~3.0μm的深度区域形成满足某些器件要求的低电阻(7.5Ω)高浓度[(2~3)×1018cm-3]的n型导电层。  相似文献   

7.
本文概要报导我们HgCdTeMBE上作的最近进展。一批面积2.0-16.6cm2,组份x0.188-0.30,载流子浓度7.81×1014~1.0×1016cm-3,迁移率1.0×104~1.45×105cm2v-1.s-1和x射线双晶衍射半峰宽(FWHM)64~100arcsec的N型原生HgCdTe外延膜已经得到,某些参数已接近或达到国外报导的典型值,并在国内首先研制了直径为50mm的HgCdTe外延膜。为了评价材料的特性,用一块X=0.243的外延膜经适当热处理后研制了光伏探测器试验阵列,其最好的一元探测率Dλ*=2.44×1010cmHz1/2W-1(λc=7.9μm)。  相似文献   

8.
陈根祥  李洵  简水生 《半导体学报》1994,15(12):844-849
本文运用R.A.S(RegularAssociatedSolutions)模型的基本原理,导出了简明的适用于AⅡ-BⅥ-CⅥ三元系富Ⅵ族区的液固平衡方程.并由此计算了Zn-Se-Te三元系富Te区的液固平衡曲线,计算结果与已有的实验数据符合.最后,对ZnSe0.52Te0.48在(100)InP衬底上的液相外延生长进行了实验研究.  相似文献   

9.
前言 伺服马达广泛应用於工业界,各级学校自动控制实习课程也大都以直流伺服马达控制系统为主要设备。除了硬体实习外,我们发现以IsSpice亦可轻易解析直流伺服马达控制系统:模拟的关键在於如何建立马达与机构模型。本专辑以英国Feedback公司生产的自动控制实验系统33-002为例:旨在说明如何建立马达机构单元(33-100)与类比控制单元(33-110)之模型,并模拟验证PID位置伺服控制系统之特性。对拥有Feedback33-002设备的学校而言:可应用此一技术,以IsSpice模拟辅助自动控制…  相似文献   

10.
在二十年时间内,位于法国Palaiseau的LULI一直是该国的激光产生等离子体和惯性约束聚变的研究中心,这套装置包括一个世界上最大的激光器——由欧盟的研究人员设置的六光束100TWNd:glass激光器。巴黎的原子能委员会(CEA)拥有自己的一个两光束Nd:glass激光器Phebus,脉宽1us, 1.06μm处激光输出 20 kJ, 0.35μm处激光输出 5 kJ.较老的 Octal激光器现在正在被拆除,以便把精力集中在准备用于热核武器研究的MJ激光项目.CEA的Octal和Phebus激光器…  相似文献   

11.
在对NiCd和NiMH电池充电期间,其温度会上升。这一特性可用来控制端接充电过程,但电池必须接上温度传感器。这样一种配置价格昂贵,而且使用起来有时也很不方便。但是,这种在充电结束时形成的内部电池温升现象会使电池电压下降。这种压降可以检测出来,并可用来端接快速充电。为了测定本例的电压下降速率,把一个三电池(PanasonicP130-SCR)的电池组连接到0.8A恒流充电器。压降速率为-0.6mV/s(图1)。该电路的核心部分是一个取样保持IC(U3)(图2)。U3的输出(引脚5)在引脚8的每个时…  相似文献   

12.
卫星用AlGaAs/GaAs太阳能电池   总被引:1,自引:1,他引:1  
介绍了GaAs太阳能电池的基本原理,结构设计和制作工艺。用水平液相外延一室分离多片旬延石墨舟研制了p-AlxGa1-xAs/p-n-GaAs结构的太阳能电池。在AMO,100mW/cm^225℃的测试条件下,开路电压(Voc)为994mV,短路电流密度为23.2mcm^2,填充因子(FF)为0.794,光电转换这18.25.  相似文献   

13.
准分子激光扫描淀积PZT/YBCO结构铁电薄膜   总被引:2,自引:1,他引:1  
利用脉冲准分子激光(工作气体XeCl,波长308nm,脉宽28ns)在外延YBCO/LaAlO3(100)单晶基片上淀积了Pb(Zr0.55Ti0.45)O3铁电薄膜,YBCO薄膜既为生长高取向PZT薄膜提供了晶体匹配条件,同时也为PZT铁电薄膜提供了下电极。讨论了工艺参数对晶相结构和表面形貌的影响。用X射线衍射表征了该多层膜的晶相结构,扫描电镜观察其表面形貌。PZT铁电薄膜的剩余极化为21μC/cm2,矫顽场为65kV/cm。  相似文献   

14.
用二次离子质谱对As+注入Si(1-x)Gex的快速退火行为进行了研究.Si(1-x)Gex样品中Ge组分分别为x=0.09,0.27和0.43.As+注入剂量为2×10(16)cm(-2),注入能量为100keV.快速退火温度分别为950℃和1050℃,时间均为18秒.实验结果表明,Si(1-x)Gex中As的扩散与Ge组分密切相关,Ge组分越大,As扩散越快.对于Ge组分较大的Si1-xGex样品,As浓度分布呈现“盒形”(box-shaped),表明扩散与As浓度有关.Si1-xGex样品中As的快  相似文献   

15.
陈根祥  李洵 《半导体学报》1994,15(12):844-849
本文运用R.A.S(Regular Associated Solutions)模型的基本原理,导出了简明的适用于A^II-B^Vi-C^VI三元系富VI族区的液固平衡方程,并由此计算了Zn-Se-Te三元系富Te区的液固平衡曲线,计算结果与已有的实验数据符合,最后,对ZnSe0.52Te0.48在(100)InP衬底上的液相外延生长进行了实验研究。  相似文献   

16.
国内首次报道用热壁外延(HWE)技术在(100)GaAs衬底上生长出Cd_(0.96)Zn_(0.04)Te(111)薄膜。结果表明,薄膜在15~20μm厚时X射线双晶衍射回摆曲线半高宽在100弧秒以下,其位错腐蚀坑密度等于甚至小于10 ̄3cm ̄(-2)薄膜组分、层厚均匀,表面光亮如镜,质量达到国际先进水平,优于国内Cd_(0.96)Zn_(0.04)Te块晶,是外延生长HgCdTe的理想替代式衬底。文章强调了生长前GaAs衬底,多晶源预处理的重要性。  相似文献   

17.
LP-MOCVD制备AlGaInP高亮度橙黄色发光二极管   总被引:6,自引:3,他引:3  
利用LP-MOCVD外延生长AlGaInPDH结构橙黄色发光二极管.引入厚层Al0.7Ga0.3As电流扩展层和Al0.5Ga0.5As-AlAs分布布拉格反射器(DBR).20mA工作条件下,工作电压1.9V,发光波长峰值在605nm,峰值半宽为18.3nm,管芯平均亮度达到20mcd,最大29.4mcd,透明封装成视角(2θ1/2)15°的LED灯亮度达到1cd.  相似文献   

18.
专利与文献     
专利与文献一、激光器件1001主动锁模脉冲Nd:YAG激光器的被动反馈控制Passivefeedbackcontrolofactivemode-lockedpulsedNd:YAGlaser,I.Buchvarov,Proc.SPIE,1991,Vo...  相似文献   

19.
用选择氧化物沉淀的7次掩模CMOS工艺=A7-maskCMOSprocesswithselectiveoxidedeposition[刊,英]/Horiuehi,T.…∥IEEETrans.ElectronDev,1993.40(8),-1455~~...  相似文献   

20.
High-fieldNonlinearPerpendicularTransportinaGaAs/Al_(0.3)Ga_(0.7)AsShort-periodSuperlattice¥XuShine(徐士杰),LiuJian(刘剑),ZhengHouz...  相似文献   

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