光学玻璃抛光材料前驱体的制备研究

利用碳酸氢铵溶液沉淀低铈混合氯化稀土料液，制各稀土抛光材料前驱体。通过加入适当H2SiF6作添加剂以改善抛光粉的抛光性能，着重研究添加剂的加入，原料浓度及灼烧温度对晶体粒径的影响。     

混合碳酸稀土两步煅烧法制备超细CeO2

以混合碳酸稀土为原料 ,经煅烧、酸溶活化、再煅烧的两步煅烧法制备了CeO2 超细粉末。考察了第一步煅烧温度对煅烧中间产物酸溶性能和铈的氧化程度的影响 ,分析了煅烧和酸溶过程中的相关反应。结果表明 :第一步煅烧过程的温度控制不仅影响Ln2 O3·CeO2 的酸溶性能 ,而且还决定了最终产物CeO2 的物性。确定了制备超细CeO2 的合适条件是 :第一步煅烧温度为 80 0℃ ,用硫酸进行酸活化处理 ,控制pH值在 2左右 ,过滤洗涤后的活性中间产物CeO(OH) 2 再经第二次煅烧可以得到CeO2 含量在 90 %以上 ,粒度分布均匀且中位粒径D50 在 0 5～1.5 μm范围的超细CeO2 粉末。当第二步煅烧温度在 70 0～ 80 0℃之间 ,产物粒度小于 1μm ;当第二步煅烧温度为 80 0～ 10 0 0℃时 ,产物粒度在 1～ 1.5 μm之间。     

光学玻璃抛光用稀土抛光粉的制备

以碳酸稀土为原料制备稀土抛光粉,研究了焙烧、分级等工艺条件对制备光学用高性能稀土抛光粉的影响。通过抛光机理,分析影响抛光粉抛光能力的因素,从而找出最佳工艺条件,生产出适合光学玻璃抛光的高性能稀土抛光粉。     

前驱体煅烧法制备CeO2颗粒及其抛光性能的研究

以Ce(OH)₃为前驱体,采用前驱体煅烧法制备CeO₂抛光粉。通过调节煅烧温度、升温速率和保温时间获得的具有不同比表面积的CeO₂颗粒样品,将样品球磨破碎,制备出中位粒径为(1.0±0.1)μm的CeO₂抛光液。通过分析CeO₂抛光液对K9玻璃的抛光切削量和表面粗糙度Ra值来评价其抛光性能,采用比表面仪(BET)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和原子力显微镜(AFM)等表征手段对样品的比表面积、物相组成、微观组织结构和抛光玻璃表面粗糙度进行分析,结果表明:前驱体Ce(OH)₃煅烧可以制备具有立方萤石结构、尺寸均匀的纳米级CeO₂抛光粉,煅烧温度的升高,保温时间的延长和升温速率降低均会使CeO₂颗粒的比表面积减小。CeO₂颗粒的比表面积是其抛光性能的关键,比表面积越小切削能力越强,本实验样品对K9玻璃的切削量最大可达900 nm·min^-1,此外,比表面积对玻璃抛光质量也有重要影响,在比表面积为5 m²·g^-1时,获得的玻璃表面粗糙度小,玻璃表面质量高。     

氨水一草酸协同沉淀法制备超细CeO2粉体的研究

采用氨水一草酸协同沉淀法制备了CeO2超细粉体材料.用正交试验研究了制备条件对粉体性能的影响,得到最佳的制备条件.并用XRD、SEM、粒度测试等对其进行了表征.结果表明,所制备的超细CeO2粉末颗粒细小均匀,形状完整,具有完整的晶格.体积中心径D50为0.139μm,最大粒径约为1.5μm,基本上呈正态分布.     

共沉淀法制备超细锰锌铁氧体前驱体粉末

采用草酸铵共沉淀法,可以制备出球形、超细的锰锌铁氧体前驱体粉末,用该粉末作原料可制成性能优异的锰锌铁氧体材料。     

铜在含碘酸钾的CeO2浆料中CMP的抛光速率及影响因素的研究

研究了氧化剂碘酸钾及抛光粒子CeO2的浓度、抛光转速和抛光压力对铜的化学机械抛光速率的影响,并初步解释了影响因素的机理。实验表明在一定范围内材料的去除速率与抛光压力、抛光转速的关系可以用Preston方程的一般式R=KPαVβ来表示,并据此可得到α,β和K的值;而氧化剂和抛光粉浓度对抛光速率的影响无明确的规律。在0.2 mol/L KIO3+5%CeO2、压力11.703 kPa、转速25 r/min的条件下,铜去除速率为43.9 nm/min,抛光效果Ra=10.9 nm,Rmax=112 nm。     

碳酸氢铵沉淀法制备超细CeO2 粉体工艺条件研究

用碳酸氢铵从硝酸铈溶液中沉淀制备了超细C eO2粉体,研究了沉淀工艺条件对制备C eO2的一次粒径、团聚粒径以及粉体团聚性的影响。研究表明形成的碳酸铈胶状沉淀物需要在高温下陈化足够长的时间才能制备出一次粒径小,分散性好的C eO2产品,否则将形成大的团聚体。当碳酸氢铵与硝酸铈的摩尔比为3∶1左右、沉淀温度为50℃左右时制备的C eO2具有小的一次粒径,而且产品的分散性好。适当地增大加料速度和初始料液的pH值有利于减小C eO2的一次粒径和团聚性。     

Ce-Zr-O超细粉末制备工艺的优化及其抛光性能

采用共沉淀法在室温下通过对各种影响产物性能的实验条件考察后优化了Ce-Zr-O超细粉末的制备工艺,利用激光粒度仪、XRD、TG、比表面积测定仪分别对样品的粒度、物相、热稳定性及比表面积进行了表征,并对优化工艺合成的超细Ce-Zr-O粉末的抛光性能进行了测试。     

高纯超细电子陶瓷粉体材料的制备

概述高纯超细电子陶瓷粉体材料的主要制备方法，详细阐述了固相法，液相法和气相法的原理与特点及国内陶瓷粉体材料生产情况。     

超细锡铈复合氧化物的制备及其抛光性能

以SnCl2·2H2O和Ce2(CO3)3·8H2O为原料,氨水为沉淀剂,采用湿固相机械化学法制备了不同比例的锡铈复合氧化物.研究了煅烧温度和反应物配比对最终产物相组成和粒度大小的影响,并分别评价了用于K9、ZF7玻璃的抛光性能.结果表明,复合氧化物的主晶相为立方萤石型氧化铈,次晶相为二氧化锡.随煅烧温度从800℃升高到1000℃,合成产物的结晶度提高,但抛光速率并不随之提高.具有抛光增强效果的复合氧化物是在800℃煅烧温度下合成的锡复配量超过50%的复合氧化物.达到最好抛光效果所需的Sn:Ce的量之比与抛光玻璃有关,ZF7玻璃为5:5,K9玻璃为6:4.     

超重力场反应器制备二氧化铈超细粉体

在超重力场反应器中,以硝酸铈为铈源,尿素为均匀沉淀剂,少量表面活性剂做分散剂,得到所需产品的前驱体,干燥后焙烧得到二氧化铈超细粉体.通过实验得出其优化工艺条件为:硝酸铈浓度 0.15mol·L-1,尿素浓度0.75mol·L-1,反应温度90℃,反应时间2h,分散剂浓度3g·L-1,旋转填充床转速1000r·min-1,在400℃下焙烧2h.所制得二氧化铈超细粉体经WJL激光粒度仪检测粒径,并通过XRD,SEM对产品进行表征,结果表明合成的二氧化铈属立方晶系,颗粒大小均匀,粒径分布较窄.     

撞击流反应制备CeO2超细粉体

以Ce(NO3)3·6H2O为原料,碳酸氢铵为沉淀剂,少量表面活性剂作分散剂,撞击流反应制备碳酸铈,经焙烧得到超细二氧化铈粉体.研究了加料方式、硝酸铈浓度、表面活性剂用量、搅拌速率、反应温度、反应时间、陈化时间及碳酸铈的焙烧温度和焙烧时间等因素对CeO2颗粒尺寸的影响,从而得出优化工艺条件.采用WJL激光粒度仪检测二氧化铈的粒径,并且通过TG、XRD和SEM等方法对合成产品进行表征,结果表明,合成的是立方晶系的球形二氧化铈超细粉体,晶粒尺寸为20.5nm.     

碳酸氢铵沉淀法制备CeO2抛光粉

以氟碳铈矿焙砂盐酸二步浸取的氯化铈溶液为原料,用碳酸氢铵作沉淀剂.沉淀经过滤、洗涤、烘干、焙烧及研磨制得用于抛光的CeO2.讨论了加料方式、氯化铈浓度、分散剂用量及焙烧温度对CeO2粒径大小及分布的影响.结果表明在含15g/L聚乙二醇1000的饱和碳酸氢铵溶液中滴加0.2mol/L氯化铈,500℃下焙烧,得到平均粒径为1.15μm,粒径分布窄的CeO2粉体.利用X衍射测定CeO2晶体结构,证明所得到的CeO2属于立方晶系,其空间点群为O5H-FM3M.     

氧化铈在玻璃中的应用

综述了氧化铈在玻璃中的澄清、脱色、着色以及紫外吸收方面的机理和应用.氧化铈在玻璃中可以单独作澄清剂脱色剂使用,但如果与其它着色剂澄清剂混合使用能达到更好的效果,氧化铈本身的着色能力很弱,常与其它着色剂混合使用,提高玻璃的颜色饱和度,它是非常理想的紫外线吸收剂,在防紫外线玻璃方面有着广泛的应用.     

二氧化铈浆料抛光机理的研究进展

由于具有抛光速率快、选择性好、自动停止等特点,二氧化铈浆料被广泛用于材料的表面抛光处理,但抛光机理研究的相对滞后严重制约其物化改性和推广.针对这一现状,本文介绍了二氧化铈浆料抛光过程中的物理作用及化学作用,总结了化学机械抛光机理,并对今后研究方向提出了展望.     

以碳酸铈为前驱体制备超细氧化铈及其抛光性能

研究了以水合碳酸铈为前驱体,采用直接球磨和煅烧的方法制备了中位粒径小于3μm的超细氧化铈。结果表明:所得产物均具有立方萤石型结构,随着煅烧温度的升高,产物粒径呈下降趋势,粒度分布也越来越窄,结晶度提高。但对三种不同玻璃的抛光能力均在900℃~1000℃之间呈现出极大值。因此认为抛光过程中玻璃表面物质的去除速率受抛光粉粒度、结晶度和表面活性的影响较大。     

氧化铈对吸热玻璃性能的影响

研究了在一种浮法吸热玻璃配方中掺杂CeO2对玻璃的紫外线屏蔽能力和澄清效果的影响,分析了其紫外线吸收机制。实验表明,紫外线屏蔽能力与CeO2掺入量有明显的依赖关系,随着掺入量的增加,紫外线的透过率呈降低趋势。与此同时,CeO2的添加对玻璃的澄清效果和防红外能力也有一定的影响。