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夏伯雄 《理化检验(物理分册)》2002,38(7):303-305
综述了化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)工艺的特点与开发,以及CVD和PVD镀层及金刚石镀层刀具的性能和应用。中温CVD,PVD和金刚石镀层刀具等技术的进展标志着先进镀层应用时代的来临。 相似文献
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综述了等离子体化学气相沉积法(PCVD)的特点,等离子体对化学气相沉积的作用,PCVD精细陶瓷薄膜制备系统的结构和选择,并展望了该法的发展及在精细陶瓷薄膜制备中的应用。 相似文献
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光化学气相沉积(光 CVD)是一种继低压化学气相沉积(LPCVD)和等离子体化学气相沉积(PECVD)之后的又一项新的低温成膜工艺。首先介绍了光化学气相沉积的物理基础,然后重点介绍了光化学气相沉积的实验方法,最后简要介绍了光化学气相沉积在薄膜制备中的一些应用。 相似文献
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综述了利用超声波作化学气相沉积过程中能源的一种新工艺,即超声波化学气相沉积(UWCVD)。该工艺与其它 CVD方法相比有以下特点:沉积膜与基体有更好的结合;沉积膜有更优的强韧性和明显的择优取向。 相似文献
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用MgO载体化学气相沉积(CVD)技术制备了碳纳米管(CNTs).并用扫描电镜(SEM)、高分辨透射电镜(HRTEM)和微区拉曼光谱仪研究分析了各种沉积条件下CNTs的形貌结构.对CVD法制备CNTs的主要影响因素如碳源气体种类、沉积温度和Fe催化颗粒在MgO载体中的百分含量进行了分析讨论. 相似文献
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论述化学气相沉积技术(CVD)的基本原理、特点和在其基础上发展起来的几种具有广泛应用前景的CVD新技术,并分析比较它们发展的基础及存在的不足,旨在探讨化学气相沉积技术的发展方向。 相似文献
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等离子体化学气相沉积TiN涂层的后热处理技术研究 总被引:1,自引:0,他引:1
为了提高等离子体化学气相沉积 (PCVD)涂层的质量 ,改善基体材料的机械性能 ,更好地发挥PCVD硬质涂层的使用效果 ,采用了先沉积后热处理的新工艺。结果表明 ,热处理温度对PCVD TiN涂层的化学成分、显微结构和性能有较大的影响。随着处理温度的提高 ,涂层的结晶度得到大幅度的改善 ,涂层内的杂质氯含量降低 ,涂层的 (2 0 0 )晶面距减小 ,但在 90 0℃时 ,PCVD TiN涂层的显微硬度有一个最低值 相似文献
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用自行设计的RF PCVD(射频辉光放电等离子体化学气相沉积 )设备沉积类金刚石膜 ,并对膜的力学、光学、化学性能进行了分析。表明用该设备制备的类金刚石膜具有显微硬度高、磨擦系数小、膜基结合力高、对红外有良好的增透性 ,并且耐磨耐蚀、化学稳定性好。 相似文献
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热致变色智能窗是通过在玻璃上沉积温度刺激响应型材料,实现根据环境温度调控窗户玻璃的太阳光透过率,减少建筑物能耗的节能窗户。二氧化钒(VO2)是一种典型的热致相变材料,在~68℃发生金属-绝缘体相变,相变前后伴随光学性能的显著变化,在智能窗等多个领域有潜在的技术应用。然而,当前VO2基热致变色智能窗的应用仍存在着相变温度(τc)偏高、可见光透过率(Tlum)低和太阳能调节效率(ΔTsol)不足等问题,无法满足实际建筑节能的需求。为了解决这些问题,研究人员开展了广泛而深入的工作。化学气相沉积法(Chemical vapor deposition, CVD)能够以合理的成本生产高质量、大面积的VO2薄膜,受到研究者青睐。本文总结了近年来利用CVD技术制备VO2薄膜的研究进展,系统介绍常压化学气相沉积、气溶胶辅助化学气相沉积、低压化学气相沉积、金属有机物化学气相沉积、原子层沉积和等离子体增强化学气相沉积等CVD工艺,分析了反应物种类及比例、反... 相似文献
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本对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)的优势,进展及其在工模具领域的应用。 相似文献
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化学气相沉积(CVD)是近年来发展起来的制备各种无机复合材料的一种新技术.简要介绍了CVD技术的原理和特点,分析了目前研究的各种锂离子电池正负极材料存在的问题,重点介绍了CVD技术在解决这些问题上的应用进展. 相似文献
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CVD金刚石薄膜抛光技术的研究进展 总被引:2,自引:0,他引:2
采用化学气相沉积 (CVD)方法在非金刚石衬底上沉积的金刚石薄膜 ,本质上为多晶 ,而且表面粗糙。然而 ,在金刚石薄膜的许多重要应用领域 ,如光学和电子学 ,都要求金刚石薄膜具有光滑表面 ,以便器件的制备或后续加工。本文论述了目前国际上出现的抛光CVD金刚石薄膜的主要方法 ,包括机械抛光法、热 化学抛光法、化学 机械抛光法、等离子体 /离子束抛光法以及激光抛光法等 ,深入分析了这些抛光方法的优点和不足 ,指出了今后需要重点解决的问题。最后 ,展望了CVD金刚石薄膜抛光技术的发展趋势 相似文献
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石墨烯是由sp2杂化的碳原子键合而成的具有六边形蜂窝状晶格结构的二维原子晶体,其具有电学、力学和光学等方面一系列优良性能,使得它在各个领域的应用一直被人们所关注。然而,石墨烯的工业化制备仍然面临着巨大的挑战。本文采用化学气相沉积法(CVD)制备石墨烯,并用拉曼光谱、高分辨率扫描电镜和X射线多晶衍射对其进行了分析和表征。研究结果表明,用CVD法制备石墨烯具有工业化的可能。 相似文献