全玻璃真空集热管镀膜设备的发展

本文主要介绍了全玻璃真空集热管镀膜设备的发展历程,重点描述了集热管镀膜设备发展过程中的重大改进,以及镀膜设备提高生产效率和节能降耗的方法,对其他行业镀膜设备的发展和改进有一定的借鉴意义。     

基于智能复合镀膜设备的控制系统设计

本文结合复合镀膜设备及镀膜工艺特点,详细分析了复合镀膜设备镀膜工艺流程以及过程中容易产生能耗和污染的问题.并在此基础上,根据设备真空系统、工装和水冷系统、控制系统以及设备各个源的协同作用进行了系统设计,通过PLC和LabVIEW软件协同设计和实现了智能复合镀膜设备自动控制系统,以保证镀膜设备和工艺生产的稳定性及可靠性,...     

磁控溅射镀膜膜厚均匀性设计方法

镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性问题是实际生产中十分关注的。本文在现有的理论基础之上,对溅射镀膜的综合设计方法进行了初步的建立和研究,系统的建立可以采用"整体到部分,再到整体"这一动态设计理念,不断完善设计方法,并将设计方法分为镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计和计算机数值仿真三大部分。镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计及二者的数值仿真这三者之间是相辅相成的,镀膜设备工程设计决定镀膜工艺过程的实现,镀膜工艺促进镀膜设备的升级,而高性能的计算机仿真设计给两者的设计提供了强有力的支持。     

透明导电玻璃镀膜控制系统改造

透明导电氧化物镀膜玻璃采用TFC2000离线系统镀膜设备。设计本身很先进,但由于安装测试时才发现的设计错误,而在安装结束后就进行了较大改造。文章介绍了镀膜设备的原理和改造的过程,论述了如何从硬件到软件的修改去完善一个系统。     

关于真空蒸镀技术中的几个问题

在党的自力更生的方针指导下,我厂自制了几台真空镀膜设备,较快地解决了光学零件的镀膜生产问题。本文拟就我厂几年来在自制设备与工艺试验过程中所遇到的有关设备和工艺方面的几个问题作一些介绍。     

一种双真空室结构磁控溅射台的研制

本文研制了一种较高档的磁控溅射镀膜设备,用于微电子器件规模化生产过程中的基片表面镀膜.该设备采用双真空室结构,使溅射室始终维持较高的真空度和洁净度,提高镀膜质量和镀膜效率.环绕溅射室设计了3个直流靶和1个射频靶,能够溅射金属膜、介质膜、混合物和化合物薄膜.文中详述了该设备的设计原理、总体结构及工艺控制方法.该磁控溅射台已开发成功并投入使用,替代了同类进口设备.     

大型宽幅高真空连续卷绕镀膜设备的研制

本文详细介绍了ZZL-2200/2.5大型高真空连续卷绕镀膜设备的工作原理、结构组成、性能特点和创新设计要点及推广应用前景.分析并指出影响镀膜质量、生产效益的主要因素和解决途径.重点论述了双冷却镀膜辊悬空平展镀膜技术的技术原理和结构特性,及其在解决CPP流延塑料薄膜基材表面镀制铝膜时出现亮暗条纹线难题中的显著效果.并提出独特的蒸发机构冷却和自流式蒸发舟没置的特殊设计对提高大型宽幅高真空连续卷绕镀膜设备生产效率的重要性.     

磁控溅射镀膜技术在建材及民用工业中的应用

本文扼要阐述了磁控溅射镀膜技术在建材及民用工业中的应用前景及特点，所需设备类型及镀膜过程中应注意的若干问题，并对若干种镀膜玻璃的膜系及镀膜玻璃的性能要求与测试等问题进行了介绍。     

生产用大型蒸镀设备真空系统的故障与诊断

以ＺＺＷ－Ｈ１４００Ⅱ大型真空蒸发镀膜设备为例，结合生产实际，详细介绍了设备真空系统常见故障与诊断、排除方法     

机器人系统任溅射镀膜设备中的应用

现代工业的发展要求真空镀膜设备具有对复杂曲而零部件进行均匀镀膜的能力,要实现此类工件的镀膜要求,只有引进机器人技术才能达到.本文介绍了机器人系统在磁控溅射镀膜机中的应用,并对镀膜机器人应用条件和控制过程进行论述.     

低辐射镀膜玻璃的现状与前景

回顾了低辐射镀膜玻璃的发展历程,重点介绍了ｌｏｗ－ｅ镀膜玻璃的节能特性及发展前景,并指出了国内现有镀膜设备的改进方向。     

可组合的双镀膜室多弧离子镀膜设备

本文根据目前国内多弧离子镀设备的生产和应用情况提出了一种新的观点。对可组合的双镀膜室多弧离子镀膜设备进行了初步的探讨     

高真空卷绕式硫化锌镀膜设备的研制

介绍了ZZLD-2000/1.1高真空连续卷绕式硫化锌镀膜设备的原理、组成、性能及工作过程,并对设计和调试过程中出现的一些问题,进行了讨论分析.     

《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行

由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(CVD)、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。书中还系统地介绍了反应溅射镀膜、非平衡磁控溅射和中频交流溅射镀膜技术。《真空镀膜设备》详细介绍了真空镀膜设备的设计方法与镀膜机各机构元件的设计计算、设计参数的选择,其中还重点系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和膜厚均匀性设计。     

Inline真空镀膜线传动密封的微漏分析与对策

真空设备的漏气是工业化镀膜生产过程和科学实验中最头疼的问题,它对镀膜工艺有着显著的影响,尤其是微漏,在开始时很难检测得到,使得正常生产或做实验样品时做出来的产品的性能参数不稳定、时好时坏,造成工艺人员或实验人员不知从何下手,是设备问题还是工艺问题?模棱两可,设备人员推脱是工艺问题,工艺人员推说是设备问题,检漏又找不到漏点,莫衷一是。出现这样的情况往往都是微漏引起的,并且大多数情况下都是传动密封的微漏引起的。本文将结合自己从事真空镀膜多年的设备改造和生产管理的经验对传动密封和由此产生的微漏系统地做些介绍。     

基于光纤光谱仪的宽光谱综合监控系统

本文介绍了一种基于光纤光谱仪的宽光谱综合监控系统,该系统在光学镀膜过程中,采用实时宽光谱、评价函数、单波长极值、色度分析等多种方法综合监控光学薄膜膜厚.详细阐述了该系统的工作原理、硬件系统和软件系统,并进行了一系列镀膜实验.实验结果表明该系统能够实现光学镀膜在线实时监控,且非常适合国产镀膜设备的升级改造.     

气离溅射离子镀制氮化钛

本文详细介绍了气体离子源增强磁控溅射(气离溅射)反应离子镀膜技术和系统配置.特别是首次提出空分气离溅射的新概念,实现了磁控溅射金属镀膜过程和气体离子轰击化学反应过程在真空室内空间上的分离,从而保证空分气离溅射反应离子镀膜过程的长时间稳定性、重复性和一致性.当磁控溅射源采用中频电源驱动、最新开发的气体离子源采用脉冲直流电源后,实现了最佳的设备组合,可镀制出高品质的TiN膜层.     

四米槽式太阳能真空集热管镀膜设备的发展概述

本文主要介绍了制备四米槽式太阳能真空集热管的间歇式单体镀膜机和自动连续镀膜线,对两种类型设备的优缺点和存在的问题进行了对比分析,可以为其他行业镀膜设备的设计改进提供借鉴.     

真空蒸镀装饰膜工业化生产中的若干问题

真空蒸发镀膜是装饰膜生产的常用工艺。结合生产实践,对真空蒸镀装饰膜工业化生产中生产设备的选用及关建工艺进行了分析,对装饰膜规模化生产中的一些管理经验作了简单介绍。     

聚酯振膜镀膜用磁控溅射设备

本文介绍了一种在PET材料上镀制Ni膜的磁控溅射镀膜设备的结构及特点,解决了PET材料无法在高温环境中镀膜的问题.具有操作方便、成本低、生产效率高、膜层质量好及膜层制备可重复性好等特点.在实际生产中取得了良好的效果,有广阔的应用前景.