碳纳米管化学镀Ni/Ni3P的表面改性研究

采用化学镀方法制备了Ni包覆碳纳米管(CNTs),利用红外光谱(IR)、场发射扫描电镜(FESEM)、能谱分析(EDS)以及X射线衍射分析(XRD)研究了混酸纯化、敏化活化、化学镀Ni工艺以及镀后热处理(HT)对化学镀的影响.结果表明:混酸纯化后CNTs在其表面形成了大量的羧基(-COOH)和羟基(-OH)等官能团,提高了CNTs在镀液中的分散性;当稳定剂NH4Cl为35 g/L时,随着镀液温度的升高,镀层Ni含量先升高后降低;当温度为85℃时,镀Ni效果最佳,镀层Ni的质量分数为69.05％;热处理后镀层由非晶态的Ni-P层转变为Ni3P晶态结构,镀层更加平滑致密.     

负载Ni催化剂表面Ni的形态及其甲烷化活性研究

采用浸渍法制备了具有不同Ni负载量的NiO/γ-Al2O3催化剂,经过不同温度下的焙烧处理后得到一系列共9个催化剂样品。借助X射线光电子能谱分析比较Ni负载量和焙烧处理温度对Ni在催化剂载体表面存在的形态。结果表明,对于Ni负载量为10%的样品,Ni离子会在催化剂表面以八面体配位的镍和表面尖晶石NiAl2O4的形态存在,随着焙烧温度的提高,以表面尖晶石NiAl2O4形式存在的Ni的比例也增加;当Ni负载量达到20%以上,以NiO形态存在的Ni会更多的出现在催化剂表面,而提高焙烧温度不利于NiO的存在。CO甲烷化微反评价的结果显示,表面富集NiO的催化剂具有更好的甲烷化催化活性。     

Ni—W合金电镀

概述了Ｎｉ－Ｗ合金电镀工艺。Ｎｉ－Ｗ合金具有高硬度、耐蚀性和耐磨性，有着广泛的用途。     

电沉积Ni—19P／Ni合金镀层性能的研究

本文对电沉积Ni-19P/Ni合金镀层的结构、硬度、结合力、孔隙度和电化学性能进行了初步的研究。结果表明,Ni-19P/Ni合金镀层具有高耐蚀、高活性及耐磨的特点,是一种有实用价值的新型非晶材料。     

Ni包裹SiC对SiC(Ni)/Fe复合材料性能的影响

分别以SiC粉体和Ni包裹的SiC复合粉体为硬质相,采用热压工艺(1000°C,20°C/min,40 MPa和45 min)制备了SiC含量为1 wt%~9 wt%的SiC/Fe复合材料。采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)和X射线衍射仪(XRD)等研究了复合材料的界面反应物。研究结果表明:Ni过渡层的存在有效避免了SiC颗粒与Fe基体之间的化学反应。随着Ni包裹SiC粉体含量的增加,复合材料的相对密度和抗弯强度先增加后减小,当SiC(Ni)粉体含量为5 wt%时达到最大值。     

Electroless deposited Ni–Re–P, Ni–W–P and Ni–Re–W–P alloys

Coatings of electroless Ni–W–P, Ni–Re–P and Ni–W–Re–P alloys were plated in alkaline citrate baths containing amino alcohols, but not free ammonia ions. The reference Ni–P alloy was used as an intermediate layer in the sandwich: Ni–Me–P/Ni–P/substrate. An extremely homogeneous thickness distribution of all alloy components was found by applying scanning Auger electron spectroscopy (SAES(. The inclusion of refractory metals at the expense of nickel and without substantial change in phosphorus content was established. A non-oxidized state of the codeposited Re and W in Ni–W–P, Ni–Re–P and Ni–W–Re–P alloys was determined by means of X-ray photoelectron spectroscopy examination, as well as by SAES profiles, revealing the absence of oxygen throughout the coatings. All alloy films are amorphous and paramagnetic.     

化学镀Ni—P及Ni—P—PTFE镀层的性能研究

从硬度、耐磨性、摩擦及耐蚀性等几个方面研究了镀层的性能。同时研究了镀层成份及镀液中稳定剂对镀层耐蚀性的影响,交通过电化学手段和Ｘ－光电子能谱ＸＰＳ地镀层进行了研究。     

低应力Ni–W/Ni叠层微模具的制备与特性

采用UV-LIGA技术和Ni–W/Ni叠层电镀方法,在微喷嘴模具上制备出低应力Ni–W沉积层。研究了热处理条件对低应力Ni–W电沉积层硬度的影响。考察了沉积态及热处理态的Ni–W层、Ni层的耐磨性。结果发现,热处理后Ni–W/Ni叠层微模具界面结合良好,在干摩擦条件下,经过热处理的Ni–W层的耐磨性是Ni层的6倍;在550°C、2h真空热处理条件下,Ni–W电沉积层应力最低,为230MPa,硬度大于950HV。     

Ni—Fe—P,Ni—W—P合金与镀层性能

本文通过研究非晶态Ｎｉ－Ｐ合金电镀体系加入少量Ｆｅ、Ｗ等元素对镀层性能的影响,发现非晶态Ｎｉ－Ｐ合金镀层中引入少量Ｆｅ、Ｗ元素后既能保持镀层优良的耐蚀性又可大大提高镀层的硬度和耐磨性。     

Ni在不锈钢中的有效作用

不锈钢的不锈性主要因为表面形成了致密的氧化铬保护膜，镍元素的加入可以使不锈钢形成奥氏体晶体结构。同时改善不锈钢的可塑性、可焊接性和韧性等属性。     

化学镀Ni－Sn系合金

概括了化学镀Ｎｉ－Ｓｎ系合金工艺，可以获得高锡含量的Ｎｉ－Ｓｎ系合金镀层，适用于电子元器件引线、磁性记录介质和印制板等电子部件。     

Ni—W系合金电镀

概述了Ｎｉ－Ｗ系合金电镀液，可以获得高硬度，低应力，耐蚀性，耐热性和耐磨性优良的Ｎｉ－Ｗ系合金镀层。     

Ni–Mo and Ni–W sulfide catalysts prepared by decomposition of binary thiometallates

Ni–Mo and Ni–W sulfide catalysts with atomic ratio R = 0.5 (Ni/(Ni + M), with M = Mo or W) prepared by decomposition of Ni-impregnated thiometallates were evaluated in the reaction of thiophene hydrodesulfurization. Catalysts derived from impregnated thiometallates (DTI samples) presented improved catalytic activity and higher synergistic effect than catalysts prepared by co-precipitation (HSP samples) despite the fact that co-precipitated catalysts showed larger surface area. Structure characterization by high-resolution electron microscopy (HREM) and X-ray diffraction (XRD) revealed different crystalline phases in DTI and HSP catalysts. A mixture of phases (MS₂, NiS_1.03 and MO₂) was observed in catalysts obtained by co-precipitation. Only the poorly crystalline MS₂ phase was observed in DTI catalysts suggesting that the Ni promoter is very well dispersed on the chalcogenide structure.     

Ni—LDPE复合材料的研究

报道了Ni-LDPE复合材料中镍粉含量对材料的导电性及力学性能影响的研究结果。实验表明,在低密度聚乙烯中加入片状镍粉以后,随着镍粉含量的增加,导电性上升,但力学强度先上升后下降。在镍粉体积分数为8％～15％时,电阻率急剧下降,然而力学强度仍然上升,直至达最大值后才急剧下降。这说明,在此期间镍粒子之间巳能充分接近、接触,形成导电通路;但是,如果聚乙烯份量太少,镍粒子被润湿、粘结不充分时,力学强度就会恶化。总之,复合材料的结构对其导电性及力学强度同时产生强烈的影响。     

化学镀Ni—Sn系合金

概括了化学镀Ｎｉ－Ｓｎ系合金工艺，可以获得高锡含量的Ｎｉ－Ｓｎ系合金镀层，适用于电子元器件引线，磁性记录介质和印制板等电子部件。