等离子体化学气相沉积法合成石英玻璃

用高频等离子体作为热源,采用化学气相沉积法合成了石英玻璃样品.实验分别使用02和空气作为等离子体电离气体和冷却保护气体,改变等离子体电离工作气体种类时,等离子体火焰长度和石英玻璃沉积温度变化较大,而灯具冷却保护气体的改变对等离子火焰长度和石英玻璃沉积温度的影响不大.当等离子体电离气体和灯具保护气体均为O2时,等离子体火焰长度为12cm,石英基体温度为1 300℃,当等离子体电离气体和灯具保护气体均为空气时,等离子体火焰长度可达24cm,石英基体温度升高到l 840℃,可确保气相沉积过程进行,合成的石英玻璃在波长190nm处光透过率达84%,羟基含量3.5×10-6,可达到全光谱透过的要求.     

AEROSIL气相法二氧化硅用于制备高纯石英玻璃

AEROSIL气相法二氧化硅有很高的纯度，因此是制造高纯度石英玻璃的理想原材料。已经证明，AEROSIL OX50特别适于这种用途，因为它的粒度分布宽并且压紧密度大。该产品主要是用于溶胶-凝胶法的生产工艺。     

石英玻璃及其水晶原料中羟基的研究

研究了石英玻璃与水晶原料之间羟基的遗传关系，用红外光谱法研究透明水晶和普通石英的吸收光谱和水晶中的羟基特征，四极质谱仪测定石英玻璃热处理时释放的空气，通过电子自旋共振（ESR）分析玻璃结构中E′心缺陷对脱羟的作用，用氢同位素（氚）示踪法研究石英玻璃羟基的来源，结果表明：石英玻璃中难消除的羟基随水晶原料中结构水含量升高而增加，但并非源于水晶原料，而与结构缺陷E′心相关。     

熔制气氛对石英玻璃中羟基含量及稳定性的影响

以Ⅲ类石英玻璃为研究对象,从实际试验熔制角度,探究了不同熔制气氛下石英玻璃沿径向方向上羟基的含量及分布情况,并对羟基的形成原因及稳定性进行了初步分析.结果表明,不同熔制气氛下的石英玻璃中羟基分布均呈现出中间高边缘低,中性气氛中羟基含量最低,还原气氛中羟基含量最高.停料空烧方法可改善原有氧化气氛中石英玻璃产率较低的情况,...     

燃烧器芯数对CVD熔石英玻璃性能的影响

本文通过数值模拟研究了燃烧器芯数对CVD熔石英玻璃性能的影响,讨论了采用五芯、七芯和九芯三种结构燃烧器时沉积面上的温度、OH^-浓度及SiO₂浓度分布,并分析了不同氢氧当量比的影响规律。结果表明:相比于五芯结构燃烧器和七芯结构燃烧器,采用九芯结构燃烧器可以在沉积面获得更加均匀的SiO₂浓度分布和温度分布;当使用九芯燃烧器时,氢氧当量比为1.5可以提高沉积面上温度、OH^-浓度和SiO₂浓度的分布均匀性,从而有利于提高熔石英玻璃的折射率均匀性。     

氟硅酸制备高纯氟化铝新工艺研究

面对中国战略资源萤石日益匮乏的现状,开发了以磷肥副产氟硅酸为原料合成氟硅酸钠,经动态分解得到四氟化硅,四氟化硅纯化后和无水氯化铝发生气相沉积反应、提纯制备高纯氟化铝工艺路线,并对反应原理、工艺流程、关键点控制及产品质量和原料成本等进行研究。结果表明：氟硅酸钠软膏采用两级干燥方式进行干燥,干燥后水分≤0.05%（质量分数）;氟硅酸钠热解采用动态分解方式,分解率>99%。粗四氟化硅气体采用浓硫酸洗涤、分子筛吸附、精馏提纯后纯度>99.5%;无水氯化铝以气体状态和提纯的四氟化硅反应,反应后产品纯度>99.5%,符合高端领域市场需求。该研究可为磷肥副产低品位氟资源的高效高值利用提供参考和借鉴。     

从发明专利看石英玻璃合成工艺的研究与发展

本文综合了最近40多年来关于石英玻璃研究的发明专利60多篇,从发明专利角度综述了石英玻璃的研究和发展,介绍了石英玻璃制备工艺的发展,重点讲述高纯合成石英玻璃工艺的特点与发展现状.     

介绍一种浮法玻璃生产用高档熔融石英制品

熔融石英耐火材料因其优异的性能在国外的浮法玻璃生产线上早有应用,而我国一直依赖进口,该产品的开发和应用可以代替进口产品,性能指标均达到世界先进水平.     

我国光掩模玻璃基板的发展现状及趋势

1光掩模玻璃基板的定义及种类 1.1光学掩模的定义及分类 1.1.1光学掩模板的定义 光学掩模板,又称光掩模板、掩模板、掩膜版、光掩膜、光刻掩膜版、光罩等,在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构,是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版.光掩模板应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用光掩模板,主要用于集成电路(1C)、平板显示器(FPD)、印刷电路板(PCB)、微机电系统(MEMS)等领域.     

ICP-OES法测定高纯石英粉中金属杂质

研究建立用等离子发射光谱法直接测定石英粉中7种金属杂质元素的方法,试验了相关实验条件,所测元素回收率96％～103％,精密度为0.16％～1.34％.     

高固体分低黏度羟基丙烯酸树脂的制备

以丙烯酸(AA)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)、丙烯酸丁酯(BA)、叔碳酸缩水甘油酯(E-10P)、丙烯酸羟丙酯(HPA)为单体,以二叔丁基过氧化物(DTBP)为引发剂,采用溶液聚合法合成了高固体分低黏度的羟基丙烯酸树脂。通过研究引发剂用量、E-10P用量以及反应温度等反应条件对树脂固含量和黏度等性能的影响,确立了合成羟基丙烯酸树脂的最佳配方:引发剂二叔丁基过氧化物用量为2%,E-10P用量为15%,反应温度为150℃左右。在上述配方和工艺条件下制得的树脂为无色透明液体,固体分高达75%,黏度仅为1 350 mPa·s。     

低碱高硼硅玻璃蒙砂粉的研究

介绍一种适于PYREX型玻璃如95料、GG-17号料等低碱高硼硅玻璃蒙砂的玻璃蒙砂粉的研究.     

工业级甲醇生产高纯甲醇的可行性研究

叙述了国内外高纯甲醇的应用和市场态势、生产现状、高纯甲醇生产技术及高纯甲醇生产技术的新进展,并对我国甲醇产能、需求和存在的问题作了分析,最后指出了我国自主生产国际标准高纯甲醇的必要性及可行性.     

高纯度天然大茴香脑生产技术研究

以八角茴香油为原料,采用静态冷冻工艺冷冻、离心制备得到粗产品,再采用网波不锈钢填料分馏塔对粗产品进行精馏分离得到高纯度大茴香脑（纯度〉99％）。产品按国家标准GB23489—2（）（19的要求进行检验。此工艺路线简单、实用,产品品质优良．是生产高纯度天然大茴香脑的新型实用方法。     

RUL of Un-burnt High Purity Silica Bricks Used in Glass Industry

High purity silica bricks have stable physical properties,except for the RUL （0.2 MPa） exhibiting extreme two different levels of high-level RUL T0.6 of 1 683-1 686 ℃ and low-level RUL T0.6 of1 174-1 184 ℃.The low RUL phenomenon was researched,the formation reasons and solutions were analyzed in this paper.The low-level RUL T0.6 of 1 174-1 184 ℃ of the un-burnt high purity silica bricks is a pseudo RUL T0.6 phenomenon for the transformation of crystalline morphology.The real RUL T0.6 of the specimen hot treated at 1 093 ℃ is ＞ 1 680 ℃.Therefore,the un-burnt high purity silica bricks shall be hot treated at about 1 100 ℃ firstly before testing RUL.For the heating up of the lining of glass tank arch,baking curves with long holding time at 1 100 ℃ shall be strictly obeyed to avoid the obvious shrinkage negatively influencing the lining stability.     

高耐候性、高固体份、低粘度羟基丙烯酸树脂的合成研究

为了适应环保及室外高耐候性装饰要求,采用稳定的丙烯酸单体,加入一定的引发剂、链转移剂在连续加料方式下,合成高耐候性、高固体份、低粘度羟基丙烯酸树脂.